基板上下料装置和电化学沉积设备制造方法及图纸

本公开实施例提供一种基板上下料装置和电化学沉积设备，所述基板上下料装置用于在基板载具上装卸基板，所述装置包括：支撑架，用于支撑基板载具的承载板；推动结构，设置在支撑架上，推动结构包括多个推动单元，多个推动单元中的每个用于固定基板载具的盖板，并沿基板载具的厚度方向移动盖板，使盖板与承载板接触或分离，多个推动单元对盖板的推动互不影响。多个推动单元对盖板的推动互不影响。多个推动单元对盖板的推动互不影响。

【技术实现步骤摘要】
基板上下料装置和电化学沉积设备


[0001]本公开涉及电化学沉积领域，具体涉及一种基板上下料装置和电化学沉积设备。

技术介绍

[0002]电化学沉积工艺是一种低成本的化学性成膜方式，可以沉积得到任意厚度的金属层。

技术实现思路

[0003]本公开实施例提供一种基板上下料装置和电化学沉积设备。
[0004]第一方面，本公开提供一种基板上下料装置，用于在基板载具上装卸基板，装置包括：
[0005]支撑架，用于支撑基板载具的承载板；
[0006]推动结构，设置在支撑架上，推动结构包括多个推动单元，多个推动单元中的每个用于固定基板载具的盖板，并沿基板载具的厚度方向移动盖板，使盖板与承载板接触或分离，多个推动单元对盖板的推动互不影响。
[0007]在一些实施例中，推动单元包括：
[0008]第一推板，第一推板上设置有导向孔；
[0009]导向杆，穿过导向孔，并用于沿导向孔的轴向与第一推板相对移动；
[0010]第二推板，与第一推板相对设置，并与导向杆的一端固定连接；
[0011]弹性件，设置在第一推板与第二推板之间，并用于沿导向杆的延伸方向伸缩；
[0012]固定件，与第二推板连接，用于将盖板固定在第二推板上。
[0013]在一些实施例中，固定件包括：吸盘，吸盘的吸附端位于第二推板背离第一推板的表面上。
[0014]在一些实施例中，多个推动单元的第一推板连接为一体结构。
[0015]在一些实施例中，基板上下料装置还包括：
[0016]第一驱动机构，设置在支撑架上，用于驱动第一推板沿导向杆的延伸方向移动。
[0017]在一些实施例中，第一驱动机构包括：
[0018]第一驱动器，设置在支撑架上；
[0019]多个第一施力部，多个第一施力部中的每个具有施力端，第一推板固定在第一施力端上；
[0020]第一传动组件，连接第一驱动器和多个第一施力部中的每个，第一传动组件用于在第一驱动器的驱动下，带动多个第一施力部中的每个沿导向杆的延伸方向移动。
[0021]在一些实施例中，基板上下料装置还包括：
[0022]基板承载结构，设置在支撑架上，基板承载结构上设置有非接触式吸附件，非接触式吸附件用于吸附待处理基板。
[0023]在一些实施例中，基板上下料装置还包括：
[0024]对位结构，对位结构包括多个挡板，挡板设置在基板承载结构的承载面的边缘侧，用于靠近或远离待处理基板移动；
[0025]其中，基板承载结构的承载面的至少两个边缘侧均设置有挡板。
[0026]在一些实施例中，基板上下料装置还包括：
[0027]第二驱动机构，设置在支撑架上，用于驱动基板承载结构沿待处理基板的厚度方向移动。
[0028]在一些实施例中，第二驱动机构包括：
[0029]第二驱动器，设置在支撑架上；
[0030]多个第二施力部，多个第二施力部中的每个具有施力端，基板承载结构固定在施力端上；
[0031]第二传动组件，连接第二驱动器和多个第二施力部中的每个，第二传动组件用于在第二驱动器的驱动下，带动多个第二施力部中的每个沿待处理基板的厚度方向移动。
[0032]在一些实施例中，支撑架上设置有两个推动结构，两个推动结构设置在承载板沿其厚度方向的相对两侧。
[0033]在一些实施例中，基板上下料装置还包括：
[0034]基座；
[0035]第三驱动器，设置在基座上，并与支撑架连接，用于驱动支撑架绕第一轴线旋转，第一轴线平行于承载板的承载面。
[0036]第二方面，本公开提供了一种电化学沉积设备，包括上述基板上下料装置。
附图说明
[0037]附图是用来提供对本公开的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本公开，但并不构成对本公开的限制。在附图中：
[0038]图1为本公开实施例提供的一种基板载具上下料装置和基板载具的整体结构示意图；
[0039]图2为本公开实施例提供的一种推动单元的局部剖切示意图；
[0040]图3为本公开实施例提供的一种推动结构的正向结构示意图；
[0041]图4为本公开实施例提供的一种推动结构的局部立体结构示意图；
[0042]图5为本公开实施例提供的一种推动结构的侧视结构示意图；
[0043]图6为本公开实施例提供的一种基板载具上下料装置和基板载具的正向结构示意图；
[0044]图7为本公开实施例提供的一种第一传动组件的结构示意图；
[0045]图8为本公开实施例提供的一种基板上下料装置的正向结构示意图；
[0046]图9为本公开实施例提供的一种非接触式吸附件的结构示意图；
[0047]图10为本公开实施例提供的一种对位结构的正向结构示意图；
[0048]图11为本公开实施例提供的一种基板上下料装置的左视结构图；
[0049]图12为本公开实施例提供的一种基板上下料装置的俯视结构图。
具体实施方式
[0050]以下结合附图对本公开的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本公开，并不用于限制本公开。
[0051]为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
[0052]除非另作定义，本公开实施例使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
[0053]电化学沉积工艺是一种低成本的化学性成膜方式，可以通过沉积得到2
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20um的厚金属，具体是指在外电场作用下，通过包含金属离子的电解质溶液中正负离子的迁移，在阴极产生金属离子的还原而在基板上获得金属镀层的技术。例如，电解质溶液中的金属离子铜离子时，获得的金属镀层即为铜膜层。
[0054]在进行电化学沉积工艺时，电化学沉积设备的容纳槽中容纳有电解质溶液，阳极结构和装载有基板的基板载具均位于电镀槽中。阳极结构和基板载具相对设置，基板载具连接电源的负向输本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板上下料装置，用于在基板载具上装卸基板，其中，所述装置包括：支撑架，用于支撑基板载具的承载板；推动结构，设置在所述支撑架上，所述推动结构包括多个推动单元，所述多个推动单元中的每个用于固定所述基板载具的盖板，并沿所述基板载具的厚度方向移动所述盖板，使所述盖板与所述承载板接触或分离，多个所述推动单元对所述盖板的推动互不影响。2.根据权利要求1所述的基板上下料装置，其中，所述推动单元包括：第一推板，所述第一推板上设置有导向孔；导向杆，穿过所述导向孔，并用于沿所述导向孔的轴向与所述第一推板相对移动；第二推板，与所述第一推板相对设置，并与所述导向杆的一端固定连接；弹性件，设置在所述第一推板与所述第二推板之间，并用于沿所述导向杆的延伸方向伸缩；固定件，与所述第二推板连接，用于将所述盖板固定在所述第二推板上。3.根据权利要求2所述的基板上下料装置，其中，所述固定件包括：吸盘，所述吸盘的吸附端位于所述第二推板背离所述第一推板的表面上。4.根据权利要求2所述的基板上下料装置，其中，所述多个推动单元的第一推板连接为一体结构。5.根据权利要求2至4中任一项所述的基板上下料装置，其中，所述基板上下料装置还包括：第一驱动机构，设置在所述支撑架上，用于驱动所述第一推板沿所述导向杆的延伸方向移动。6.根据权利要求5所述的基板上下料装置，其中，所述第一驱动机构包括：第一驱动器，设置在所述支撑架上；多个第一施力部，所述多个第一施力部中的每个具有施力端，所述第一推板固定在所述第一施力端上；第一传动组件，连接所述第一驱动器和所述多个第一施力部中的每个，所述第一传动组件用于在所述第一驱动器的驱动下，带动所述多个第一施力部中的每个沿所述导向杆的延伸方...

【专利技术属性】
技术研发人员：闫俊伟，袁广才，孙少东，王成飞，董士豪，张国才，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：