用于沉积无机钙钛矿层的方法技术

公开了一种用于沉积无机钙钛矿层(1)的方法，包括下列步骤：(a)提供衬底(10)和无机靶材(20)：(b)将衬底(10)和靶材(20)定位在近空间升华炉(100)中；(c)通过靶材(20)的升华将无机钙钛矿层(1)沉积到衬底(10)上。钙钛矿层(1)沉积到衬底(10)上。钙钛矿层(1)沉积到衬底(10)上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于沉积无机钙钛矿层的方法


[0001]本专利技术涉及用于沉积无机钙钛矿层的方法的总体领域。
[0002]本专利技术在许多工业领域中均有应用，特别是在用于医疗应用的X射线检测领域中，而且在光伏、伽马射线检测领域中，或者在制造电子、光学或光电子装置(特别是制造发光二极管(LED)、光电检测器、闪烁器或晶体管)的领域中也有应用。
[0003]本专利技术特别引人注意，因为它允许沉积厚的无机钙钛矿层(通常大于或等于0.1mm或大于1mm)。

技术介绍

[0004]目前，可以通过不同的方法获得ABX3型钙钛矿(PVK)。
[0005]第一种方法在于使用溶液生长方法来使CsPbBr3晶体生长。在这种情况下，前体CsBr和PbBr2溶解在一种或多种溶剂中，并且系统经受温度变化，这导致溶液中前体过饱和并引发晶体的生长[1]。
[0006]还从液体溶液中合成了具有式MAPbI3、FAPbI3和MAPbBr3(具有MA甲胺和FA甲脒)的钙钛矿结构的单晶[2]。
[0007]然而，这些在溶液中的生长方法很难转变成在大表面上方获本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于将无机钙钛矿层(1)沉积到衬底上的方法，包括下列步骤：a)提供衬底(10)和无机靶材(20)，b)将所述衬底(10)和所述靶材(20)定位在近空间升华炉(100)中，c)通过所述靶材(20)的升华将无机钙钛矿层(1)沉积到所述衬底(10)上。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述无机钙钛矿层(1)具有式A
’2C
1+
D
3+
X6、A2B
4+
X6或A3B
23+
X9，其中A、A
’
、C、D和B是阳离子，X是阴离子。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述无机钙钛矿层(1)具有式A
(1)1
‑
(y2+...+yn)
A
(2)y2
...A
(n)yn
B
(1)1
‑
(z2+...+zm)
B
(2)z2
...B
(m)zm
X
(1)3
‑
(x2+...+xp)
X
(2)x2
...X
(P)xp
，其中A和B是阳离子，X是阴离子。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述无机钙钛矿层(1)具有式ABX3，其中A和B是阳离子，X是阴离子。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于所述无机钙钛矿层(1)由CsPbBr3制成。6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于所述无机钙钛矿层(1)具有大于或等于100μm的厚度。7.根据权利要求4到6中任一项所述的方法，其特征在于所述靶材(20)包括式ABX...

【专利技术属性】
技术研发人员：L，
申请(专利权)人：法国原子能源和替代能源委员会，
类型：发明
国别省市：