【技术实现步骤摘要】
一种叠镭射孔结构及其制作方法
[0001]本专利技术涉及一种叠镭射孔结构及其制作方法,属于PCB制备领域。
技术介绍
[0002]近年电路板在向着小而密集的方向发展,对应的电路板上的导通孔也越来越小,由此发展出了高密度互连线路板即HDI板。常规HDI板上通孔与镭射孔错开设计或使用全镭射孔叠加的anylayer设计(称为“anylayer板”),但是存在一下问题:1、错开设计存在线路复杂体积较大的问题;2、全镭射叠加极其考验镭射孔对准度能力及薄板生产能力,一般叠加至4层就难以控制对准度。
技术实现思路
[0003]本专利技术提供了一种叠镭射孔结构及其制作方法,解决了
技术介绍
中披露的问题。
[0004]为了解决上述技术问题,本专利技术所采用的技术方案是:
[0005]一种叠镭射孔结构,包括基板,基板上打有机械通孔,基板的顶面、基板的底面和机械通孔内壁均镀有金属层,镀有金属层的机械通孔内塞有填充物,填充物的顶端和底端均镀有金属凸台,基板顶面金属层和金属凸台上压合有介质层,介质层上打有第一镭射孔,第一 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种叠镭射孔结构,其特征在于,包括基板,基板上打有机械通孔,基板的顶面、基板的底面和机械通孔内壁均镀有金属层,镀有金属层的机械通孔内塞有填充物,填充物的顶端和底端均镀有金属凸台,基板顶面金属层和金属凸台上压合有介质层,介质层上打有第一镭射孔,第一镭射孔和机械通孔在同一条直线上,第一镭射孔底端与金属凸台贴靠,第一镭射孔底端开口和机械通孔的孔径均小于金属凸台的直径,介质层顶面镀有金属层,并且介质层顶面的金属层填满第一镭射孔。2.根据权利要求1所述的一种叠镭射孔结构,其特征在于,填充物为树脂或金属。3.根据权利要求1所述的一种叠镭射孔结构,其特征在于,基板顶面和底面的金属层上刻蚀有线路,刻蚀的深度一直延伸至基板的金属基层;介质层顶面的金属层上刻蚀有线路,刻蚀的深度一直延伸至介质层的金属基层。4.根据权利要求1所述的一种叠镭射孔结构,其特征在于,介质层上还打第二镭射孔,第二镭射孔的下方没有机械通孔,第二镭射孔底端与基板顶面金属层贴靠,半固片顶面的金属层也填满第二镭射孔。5.一种叠镭射孔结构的制作方法,其特征在于,包括:步骤1,制作出基板,在基板上钻机械通孔;步骤2,对钻机械通孔后的基板进行金属化,在基板顶面、基板底面和机械通孔内壁镀一层金属层;步骤3,在镀有金属层的机械通孔内塞满填充物;步骤4,对塞填充物后的基板进行再次金属化,在基板顶面和底面镀一层覆盖填充物的金属层;步骤5,对再次金属化后...
【专利技术属性】
技术研发人员:余丞博,黄建,卞和平,
申请(专利权)人:昆山沪利微电有限公司,
类型:发明
国别省市:
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