含氟羧酸盐化合物制造技术

本发明专利技术提供一种含氟羧酸盐化合物(优选水分含量低的含氟羧酸盐化合物)的新的制造方法，用于制造式(P1)：(B

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含氟羧酸盐化合物


[0001]本专利技术涉及含氟羧酸盐化合物等。

技术介绍

[0002]含氟羧酸盐化合物是被用于电化学器件等的有用的化合物(专利文献1)。
[0003]利用使含氟羧酰卤与氢氧化锂反应的方法、或使含氟羧酸与氢氧化锂或碳酸锂反应的方法来合成含氟羧酸锂的方法是公知的(专利文献2)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2004－22379号公报
[0007]专利文献2：日本特开2011－93808号公报

技术实现思路

[0008]专利技术所要解决的课题
[0009]在上述那样的现有的含氟羧酸盐化合物的制造方法中，水会作为副产物生成，很难将其除去。
[0010]本专利技术的目的在于提供一种含氟羧酸盐化合物(优选水分含量低的含氟羧酸盐化合物)的新的制造方法等。
[0011]用于解决课题的技术方案
[0012]上述课题通过如下的制造方法解决。该制造方法是式(P1)所示的化合物的制造方法，其包括使式(S1)所示的化合物与式(S2)所示的化合物或其水合物反应的工序A。
[0013]式(P1)：(B
1f
)
mp
(A1)
np
[0014][式中，
[0015]B
1f
为RfCOO，
[0016]Rf为具有1个以上氟原子的烃基，
[0017]A1为H以外的基团，
[0018]mp为(A1的价数)
×
np/(B1的价数)的数，且为1或2，
[0019]np为(B1的价数)
×
mp/(A1的价数)的数，且为1，
[0020]A1的价数为1或2，
[0021]B
1f
的价数为1。][0022]式(S1)：(B
1f
)(R1)
[0023][式中，
[0024]B
1f
的含义同上，
[0025]R1为有机基团，
[0026]但R1与A1是不同的基团。][0027]式(S2)：(A1)
ms2
(B2)
ns2
[0028][式中，
[0029]A1的含义同上，
[0030]B2为OH、CO3或HCO3，
[0031]ms2为(B2的价数)
×
ns2/(A1的价数)的数，且为1或2，
[0032]ns2为(A1的价数)
×
ms2/(B2的价数)，且为1或2。][0033]本专利技术提供以下各项的实施方式等。
[0034]项1.一种式(P1)所示的化合物的制造方法，其包括使式(S1)所示的化合物与式(S2)所示的化合物或其水合物反应的工序A。
[0035]式(P1)：(B
1f
)
mp
(A1)
np
[0036][式中，
[0037]B
1f
为RfCOO，
[0038]Rf为具有1个以上氟原子的烃基，
[0039]A1为H以外的基团，
[0040]mp为(A1的价数)
×
np/(B
1f
的价数)的数，且为1或2，
[0041]np为(B
1f
的价数)
×
mp/(A1的价数)的数，且为1，
[0042]A1的价数为1或2，
[0043]B
1f
的价数为1。][0044]式(S1)：(B
1f
)(R1)
[0045][式中，
[0046]B
1f
的含义同上，
[0047]R1为有机基团，
[0048]但R1与A1是不同的基团。][0049]式(S2)：(A1)
ms2
(B2)
ns2
[0050][式中，
[0051]A1的含义同上，
[0052]B2为OH、CO3或HCO3，
[0053]ms2为(B2的价数)
×
ns2/(A1的价数)的数，且为1或2，
[0054]ns2为(A1的价数)
×
ms2/(B2的价数)，且为1或2。][0055]项2.如项1所述的制造方法，其中，A1为金属原子或铵。
[0056]项3.如项1或项2所述的制造方法，还包括将在上述工序A中作为副产物生成的式(P2)所示的化合物除去的工序B。
[0057]式(P2)：(R1)
op
(B2)
[0058][式中，
[0059]B2和R1的含义同上，
[0060]op为(B2的价数)/(R1的价数)的数，且为1或2。][0061]项4.如项1～项3中任一项所述的制造方法，其中，Rf为具有1个以上氟原子的C1－6烷基。
[0062]项5.如项1～项4中任一项所述的制造方法，其中，Rf为具有2个以上氟原子的C1－3烷基。
[0063]项6.如项1～项5中任一项所述的制造方法，其中，A1为碱金属原子。
[0064]项7.如项1～项6中任一项所述的制造方法，其中，A1为Li。
[0065]项8.如项1～项7中任一项所述的制造方法，其中，B2为OH。
[0066]项9.一种电化学器件用添加剂，其含有式(P1A)所示的化合物、和相对于上述式(P1A)所示的化合物为0～50000质量ppm的水。
[0067]式(P1A)：RfCOOA
d
[0068][式中，
[0069]Rf为具有1个以上氟原子的有机基团，
[0070]A
d
为金属原子。][0071]项10.一种电解液，其含有项9所述的电化学器件用添加剂。
[0072]项11.一种电化学器件，其具有项10所述的电解液。
[0073]项12.一种锂离子二次电池，其具有项10所述的电解液。
[0074]项13.一种式(P1A)所示的化合物，其水分含量为50000质量ppm以下。
[0075]式(P1A)：RfCOOA
d
[0076][式中，
[0077]Rf为具有1个以上氟原子的有机基团，
[0078]A
d
为Li原子。][0079]项14.一种组合物，其含有式(P1A)所示的化合物、和相对于上述式(P1)所示的化合物为50000质量ppm以下的水。
[0080]式(P1A)：RfCOOA
d
[0081][式中，
[0082]Rf为具有1个以上氟原子的有机基团，
[0083]A
d
为Li原子。][0084]项15.如项13所述的化合物，其由项1～8中任一项所述的制造方法制造。
[0085]项16.如项本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种式(P1)所示的化合物的制造方法，其特征在于：包括使式(S1)所示的化合物与式(S2)所示的化合物或其水合物反应的工序A，式(P1)：(B
1f
)
mp
(A1)
np
式(P1)中，B
1f
为RfCOO，Rf为具有1个以上氟原子的烃基，A1为H以外的基团，mp为(A1的价数)
×
np/(B
1f
的价数)的数，且为1或2，np为(B
1f
的价数)
×
mp/(A1的价数)的数，且为1，A1的价数为1或2，B
1f
的价数为1；式(S1)：(B
1f
)(R1)式(S1)中，B
1f
的含义同上，R1为有机基团，但R1与A1是不同的基团；(S2)：(A1)
ms2
(B2)
ns2
式(S2)中，A1的含义同上，B2为OH、CO3或HCO3，ms2为(B2的价数)
×
ns2/(A1的价数)的数，且为1或2，ns2为(A1的价数)
×
ms2/(B2的价数)，且为1或2。2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于：A1为金属原子或铵。3.如权利要求1或2所述的制造方法，其特征在于：还包括将在所述工序A中作为副产物生成的式(P2)所示的化合物除去的工序B，式(P2)：(R1)
op
(B2)式(P2)中，B2和R1的含义同上，op为(B2的价数)/(R1的价数)的数，且为1或2。4.如权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其特征在于：Rf...

【专利技术属性】
技术研发人员：白井淳，山崎穣辉，黑木克亲，大塚达也，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：