一种不会造成MetalMesh失效的保护膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种不会造成Metal Mesh失效的保护膜，保护膜贴附在Metal Mesh的正面和背面；保护膜包括基材、第一粘结部和第二粘结部，基材包括相连设置的第一基材、第二基材和第三基材，第二基材附着在第一边缘走线区域、第一搭接区域、面内金属网格区域、第二搭接区域和第二边缘走线区域的光刻胶上；第一粘结部设置在第一基材上并与第一无效光刻胶区域的光刻胶以及第一外围铜区域的Cu导电层粘贴相连；第二粘结部设置在第三基材上并与第二无效光刻胶区域的光刻胶以及第二外围铜区域的Cu导电层粘贴相连，本实用新型专利技术在撕膜到Metal Mesh内的第一边缘走线区域、第一搭接区域、面内金属网格区域、第二搭接区域、第二边缘走线区域时，光刻胶不会被带起后使Metal Mesh失效。失效。失效。

【技术实现步骤摘要】
一种不会造成Metal Mesh失效的保护膜


[0001]本技术涉及一种保护膜，尤其涉及一种不会造成Metal Mesh失效的保护膜。

技术介绍

[0002]在Metal Mesh柔性触摸sensor制备过程中，需要经过光刻胶涂布、烘烤、曝光、显影、蚀刻、去胶、黑化等制程，在这些制程工艺中常需要使用制程保护膜，以此防止Metal Mesh面内网格和边缘走线刮伤、脱落、断线等问题。
[0003]显影后Metal Mesh的结构示意图如图1
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3所示，Metal Mesh由第一无效光刻胶区域101、第一外围铜区域102、第一边缘走线区域103、第一搭接区域104、面内金属网格区域105、第二搭接区域106、第二边缘走线区域107、第二外围铜区域108和第二无效光刻胶区域109组成；其中，第一无效光刻胶区域101和第二无效光刻胶区域109由光刻胶2、Cu导电层3、基材1、Cu导电层3、光刻胶2组成，第一外围铜区域102和第二外围铜区域108由Cu导电层3、基材1、Cu导电层3组成，第一边缘走线区域103、第一搭接区域104、面内金属网格区域105、第二搭接区域106、第二边缘走线区域107均由光刻胶2、Cu导电层3、基材1、Cu导电层3和光刻胶2组成。
[0004]现有保护膜为带有亚克力胶的PE基材，当将保护膜贴附在显影后Metal Mesh正面和背面，即图1的上表面和下表面时，保护膜的胶层从左到右依次接触到第一无效光刻胶区域101表面的光刻胶、第一外围铜区域102的Cu导电层、第一边缘走线区域103的光刻胶、第一搭接区域104的光刻胶、面内金属网格区域105的光刻胶、第二搭接区域106的光刻胶、第二边缘走线区域107的光刻胶、第二外围铜区域108的Cu导电层、第二无效光刻胶区域109表面的光刻胶；其中，保护膜贴附在第一无效光刻胶区域101和第二无效光刻胶区域109表面的光刻胶的粘性最大，大约13～20g/25mm，因为此处的光刻胶区域与保护膜接触面积最大，所以此处的粘性最大，贴附在第一外围铜区域102和第二外围铜区域108的Cu导电层表面的粘性次之，大约3～10g/25mm；贴附在第一边缘走线区域103的光刻胶、第一搭接区域104的光刻胶、面内金属网格区域105的光刻胶、第二搭接区域106的光刻胶、第二边缘走线区域107的表面光刻胶的粘性最小，大约0～0.5g/25mm，此处的光刻胶与保护膜接触的面积最小，所以此处的粘性最小。
[0005]这样，当撕除显影后Metal Mesh的正面保护膜和背面保护膜时，虽然保护膜贴附第一边缘走线区域103的光刻胶、第一搭接区域104的光刻胶、面内金属网格区域105的光刻胶、第二搭接区域106的光刻胶、第二边缘走线区域107的光刻胶附着性非常小，但是保护膜贴附第一无效光刻胶区域101和第二无效光刻胶区域109表面的粘性以及保护膜贴附第一外围铜区域102和第二外围铜区域108表面的Cu导电层的粘性均较大，在撕膜过程中，保护膜贴附界面的粘性从高粘性突然降低到低粘性，第一边缘走线区域103的光刻胶、第一搭接区域104的光刻胶、面内金属网格区域105的光刻胶、第二搭接区域106的光刻胶、第二边缘走线区域107的光刻胶会被带起，第一搭接区域104和第二搭接区域106的光刻胶最容易发生脱落，光刻胶脱落区域的Metal Mesh经过蚀刻后会被蚀刻液蚀刻掉，导致Metal Mesh出
现断线现象，从而使Metal Mesh功能失效。

技术实现思路

[0006]本技术目的是为了克服现有技术的不足而提供一种能在撕开保护膜时，不会将第一边缘走线区域、第一搭接区域、面内金属网格区域、第二搭接区域和第二边缘走线区域上的光刻胶带起，从而避免Metal Mesh出现断线现象而失效的不会造成Metal Mesh失效的保护膜。
[0007]为达到上述目的，本技术采用的技术方案是：一种不会造成Metal Mesh失效的保护膜，所述保护膜贴附在Metal Mesh的正面和背面，所述Metal Mesh包括第一无效光刻胶区域、第一外围铜区域、第一边缘走线区域、第一搭接区域、面内金属网格区域、第二搭接区域、第二边缘走线区域、第二外围铜区域、第二无效光刻胶区域，所述保护膜包括：
[0008]基材，所述基材包括相连设置的第一基材、第二基材和第三基材，其中，所述第二基材附着在所述第一边缘走线区域、第一搭接区域、面内金属网格区域、第二搭接区域和第二边缘走线区域的光刻胶上；
[0009]第一粘结部，设置在所述第一基材上，并与所述第一无效光刻胶区域的光刻胶以及第一外围铜区域的Cu导电层粘贴相连；
[0010]第二粘结部，设置在所述第三基材上且与所述第一粘结部位于同一侧，并与所述第二无效光刻胶区域的光刻胶以及第二外围铜区域的Cu导电层粘贴相连。
[0011]进一步的，所述基材的材质为聚乙烯。
[0012]进一步的，所述第一粘结和第二粘结部为亚克力胶。
[0013]进一步的，所述第一粘结部和第二粘结部与第二基材之间还分别留有0.5～2mm的无胶区。
[0014]由于上述技术方案的运用，本技术与现有技术相比具有下列优点：
[0015]本技术方案的不会造成Metal Mesh失效的保护膜，其将保护膜分为第一基材、第二基材、第三基材三部分，其中与第一边缘走线区域、第一搭接区域、面内金属网格区域、第二搭接区域、第二边缘走线区域附着的第二基材不带胶，这样当撕膜过程到第一边缘走线区域、第一搭接区域、面内金属网格区域、第二搭接区域、第二边缘走线区域时，由于该区域没有胶，因此撕膜时的光刻胶不会被带起，避免了Metal Mesh的失效。
附图说明
[0016]下面结合附图对本技术技术方案作进一步说明：
[0017]图1为Metal Mesh的俯视图；
[0018]图2为图1中的A部放大图；
[0019]图3为Metal Mesh的另一视角的结构示意图；
[0020]图4为本技术一实施例中保护膜的主视图；
[0021]图5为图4的俯视图；
[0022]其中：基材本体1、光刻胶2、Cu导电层3、Metal Mesh10、保护膜20、第一无效光刻胶区域101、第一外围铜区域102、第一边缘走线区域103、第一搭接区域104、面内金属网格区域105、第二搭接区域106、第二边缘走线区域107、第二外围铜区域108、第二无效光刻胶区
域109、基材200、第一基材200a、第二基材200b、第三基材200c、第一粘结部201、第二粘结部202、无胶区30。
具体实施方式
[0023]下面结合附图及具体实施例对本技术作进一步的详细说明。
[0024]参阅图1
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3，本技术一实施例所述的一种不会造成Metal Mesh失效的保护膜，所述保护膜20贴附在Metal Mesh的正面和背面，所述Metal Mesh10包括从左本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种不会造成Metal Mesh失效的保护膜，所述保护膜贴附在MetalMesh的正面和背面，所述Metal Mesh包括第一无效光刻胶区域、第一外围铜区域、第一边缘走线区域、第一搭接区域、面内金属网格区域、第二搭接区域、第二边缘走线区域、第二外围铜区域、第二无效光刻胶区域，其特征在于，所述保护膜包括：基材，所述基材包括相连设置的第一基材、第二基材和第三基材，其中，所述第二基材附着在所述第一边缘走线区域、第一搭接区域、面内金属网格区域、第二搭接区域和第二边缘走线区域的光刻胶上；第一粘结部，设置在所述第一基材上，并与所述第一无效光刻胶区域的光刻...

【专利技术属性】
技术研发人员：李建军，
申请(专利权)人：牧东光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：