真空镀膜机腔体冷却装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及真空镀膜机腔体技术领域，具体公开了真空镀膜机腔体冷却装置，包括用于真空镀膜的镀膜腔体、设置于镀膜腔体两侧的密封部件一和密封部件二以及设置在镀膜腔体内腔内侧的冷却部件；所述镀膜腔体的内侧设置有冷却腔，所述冷却腔的内侧填充有可供冷却循环的填充物，且与冷却部件的内侧相连通；本实用新型专利技术通过设置的镀膜腔体配合内部的内腔和设置的冷却腔，可通过外接循环设备，比如冷水机的方式，让用以冷却的填充物可以进行循环，且通过设置的冷却部件，与冷却的填充物进行充分的接触，即可实现换热。即可实现换热。即可实现换热。

【技术实现步骤摘要】
真空镀膜机腔体冷却装置


[0001]本技术涉及真空镀膜机腔体
，具体为一种真空镀膜机腔体冷却装置。

技术介绍

[0002]真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜的机器；一般情况下，在镀膜的时候，需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，形成镀膜。
[0003]在镀膜的过程中，此时的真空镀膜机腔体内部温度较高，其原因在于使用过程中，镀膜使用的中频设备会产生大量的热，由于镀膜机内部呈密封设置，因此会对镀膜机内部零件造成损伤，影响其使用，基于此需要采用冷却措施对其进行冷却，用以保障镀膜腔体的使用稳定；
[0004]因此在专利文献中“一种真空镀膜机腔体冷却装置”，通过半导体制冷片开设制冷，并且由马达转动带动转动扇转动，将冷气吹至工件盘方向，配合弧形过滤板的设置，冷气流经过弧形过滤板的缓冲使得冷气流更加和缓均匀，实现对工件盘上的基片进行冷却。
[0005]在这一技术方案中，半导体制冷时同样会散热巨大的热量，而镀膜腔体的内部空间无法较为狭小，所需制冷量较大，而采用半导体制冷的方式，发热量巨大，反而不利于腔体的冷却；基于此，我们提出一种真空镀膜机腔体冷却装置。
[0006]上述专利文献为：公布号为：CN216838154U，的中国专利。

技术实现思路

[0007]针对现有技术的不足，本技术提供一种真空镀膜机腔体冷却装置，用于解决上述
技术介绍
所提出的问题。
[0008]本技术的真空镀膜机腔体冷却装置，包括用于真空镀膜的镀膜腔体、设置于镀膜腔体两侧的密封部件一和密封部件二以及设置在镀膜腔体内腔内侧的冷却部件；
[0009]所述镀膜腔体的内侧设置有冷却腔，所述冷却腔的内侧填充有可供冷却循环的填充物，且与冷却部件的内侧相连通。
[0010]作为本技术的进一步改进，所述镀膜腔体的外侧中部设置有支撑部件，所述支撑部件包括两个呈对称设置的延伸支臂和用于支撑的底座，所述支撑部件的本体与镀膜腔体外侧紧密贴合。
[0011]作为本技术的进一步改进，所述镀膜腔体的两端部均开设有向内的凹槽，且不与冷却腔相连通，所述镀膜腔体的凹槽处设置有密封螺槽，所述密封螺槽与密封部件一和密封部件二相连接。
[0012]作为本技术的进一步改进，所述密封部件一和密封部件二相对的一端分别设置有螺纹环一和螺纹环二，所述螺纹环一和螺纹环二均与镀膜腔体的凹槽处设置的密封螺
槽适配。
[0013]作为本技术的进一步改进，所述镀膜腔体的两端部位于密封螺槽的外侧设置有呈环形设置的定位孔，且通过定位孔连接有紧固件。
[0014]作为本技术的进一步改进，所述冷却部件包括冷却板，所述冷却板的中段贯穿镀膜腔体的内腔与冷却腔相连接，所述冷却板的内侧与冷却腔之间形成冷却通道。
[0015]作为本技术的进一步改进，所述冷却板的表面设置有一根或多根冷却槽，用于镀膜腔体内部的冷却。
[0016]与现有技术相比，本技术的有益效果如下：
[0017]本技术通过设置的镀膜腔体配合内部的内腔和设置的冷却腔，可通过外接循环设备，比如冷水机的方式，让用以冷却的填充物可以进行循环，且通过设置的冷却部件，与冷却的填充物进行充分的接触，即可实现换热，从而让真空镀膜腔体得以冷却，且冷却时，并无外界的热量介入，且利用了镀膜腔体的空间，提高了冷却的效率，且温度降幅较为平缓，可以延长镀膜腔体的使用寿命。
附图说明
[0018]此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：
[0019]图1为本技术镀膜腔体、支撑部件、密封部件一以及密封部件二组合立体结构示意图；
[0020]图2为本技术镀膜腔体、支撑部件、密封部件一以及密封部件二组合正视结构示意图；
[0021]图3为本技术镀膜腔体与支撑部件侧视结构示意图；
[0022]图4为本技术图3中A
‑
A剖面结构示意图；
[0023]图5为本技术冷却部件立体结构示意图；
[0024]图6为本技术冷却部件林另一角度立体结构示意图；
[0025]图7为本技术冷却部件竖直角度立体结构示意图。
[0026]图中：1、镀膜腔体；2、支撑部件；3、密封部件一；4、密封部件二；11、定位孔；12、冷却部件；13、内腔；14、密封螺槽；15、冷却腔；21、延伸支臂；22、底座；31、螺纹环一；41、螺纹环二；121、冷却板；122、冷却槽；123、冷却通道。
具体实施方式
[0027]以下将以图示揭露本技术的多个实施方式，为明确说明起见，许多实物上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实物上的细节不应用以限制本技术。也就是说，在本技术的部分实施方式中，这些实物上的细节是非必要的。此外，为简化图示起见，一些习知惯用的结构与组件在图示中将以简单的示意的方式绘示之。
[0028]另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本技术要求的保护范围之内。
[0029]请参阅图1、图2、图3与图4，在镀膜的过程中，此时的真空镀膜机腔体内部温度较
高，其原因在于使用过程中，镀膜使用的中频设备会产生大量的热，由于镀膜机内部呈密封设置，因此会对镀膜机内部零件造成损伤，影响其使用，因此一般会采用冷却措施进行处理，而在
技术介绍
中的专利文献中，采用的技术方案，利用半导体进行制冷，但是基于半导体制冷的特性，制冷的同时，会释放大量的热量，且挤占镀膜腔体1的内部空间，基于此，本申请提供一种真空镀膜机腔体冷却装置，包括用于真空镀膜的镀膜腔体1、设置于镀膜腔体1两侧的密封部件一3和密封部件二4以及设置在镀膜腔体1内腔13内侧的冷却部件12；
[0030]具体的，镀膜腔体1的内侧设置有冷却腔15，冷却腔15的内侧填充有可供冷却循环的填充物，且与冷却部件12的内侧相连通。
[0031]在此实施例中，设置的冷却腔15与填充的填充物组合，利用外界的循环冷却装置，可以加速填充物的换热效率，满足使用的需要，同时，该装置利用镀膜腔体1内部的空间，在不影响镀膜操作的过程，可以加快冷却的效率。
[0032]请参阅图1、图2、图3与图4，为了让镀膜腔体1正常的使用，可以在本申请中镀膜腔体1的外侧中部设置有支撑部件2，支撑部件2包括两个呈对称设置的延伸支臂21和用于支撑的底座22，支撑部件2的本体与镀膜腔体1外侧紧密贴合。
[0033]在此实施例中，设置的支撑部件2与镀膜腔体1适配，利用两个呈对称设置的延伸支臂21和用于支撑的底座22，可以对镀膜腔本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机腔体冷却装置，包括用于真空镀膜的镀膜腔体(1)、设置于镀膜腔体(1)两侧的密封部件一(3)和密封部件二(4)以及设置在镀膜腔体(1)内腔(13)内侧的冷却部件(12)；其特征在于：所述镀膜腔体(1)的内侧设置有冷却腔(15)，所述冷却腔(15)的内侧填充有可供冷却循环的填充物，且与冷却部件(12)的内侧相连通。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机腔体冷却装置，其特征在于：所述镀膜腔体(1)的外侧中部设置有支撑部件(2)，所述支撑部件(2)包括两个呈对称设置的延伸支臂(21)和用于支撑的底座(22)，所述支撑部件(2)的本体与镀膜腔体(1)外侧紧密贴合。3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机腔体冷却装置，其特征在于：所述镀膜腔体(1)的两端部均开设有向内的凹槽，且不与冷却腔(15)相连通，所述镀膜腔体(1)的凹槽处设置有密封螺槽(14)，所述密封螺槽(14)与密封部件一(3)和密封部件二(4)相连接。4.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋杉，
申请(专利权)人：武汉特光科技有限公司，
类型：新型
国别省市：