基于宽光谱监控的镀膜工艺方法技术

本申请涉及一种基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，所述方法包括：安装待镀膜的工件及监控片；初始化并加载镀膜工艺；绘制圆周光谱曲线并定位监控片在产品转盘上的角度位置；镀膜工艺程序的自动执行；在镀膜过程中，实时采集监控片的光谱能量数据，拟合出当前膜层的真实厚度；并以此计算换层判停时间并触发换层判停逻辑；在换层后，对下一个膜层进行镀膜，直至完成镀膜工艺中的所有膜层。该技术方案，可以准确地定位到换层位置，避免了采用常规的以评价函数方法来控制换层的延时缺陷，可以确保成膜过程中对各个膜层厚度监控的精准度，特别是在多层镀膜时，能够显著减少换层误差累积，提升了光学薄膜产品的镀膜质量。了光学薄膜产品的镀膜质量。了光学薄膜产品的镀膜质量。

【技术实现步骤摘要】
基于宽光谱监控的镀膜工艺方法


[0001]本申请涉及真空镀膜
，特别是一种基于宽光谱监控的镀膜工艺方法。

技术介绍

[0002]随着高精度光学仪器和数码产品的高速发展，市场对制备光学器件的光学薄膜的精度要求越来越高；在光学薄膜的理论设计中，光学薄膜产品由多膜层构成，如果某一层薄膜的实际光学厚度与理论厚度出现偏差，便会造成实际光谱指标的偏差，导致无法获取满足特定指标要求的光学薄膜产品；因此，被精确控制的膜层厚度是光学薄膜产品关键指标，对于任何镀膜工艺来说，准确地控制各层光学薄膜厚度非常重要。
[0003]目前，业内的镀膜工艺普遍采用光电极值法和宽光谱扫描法来监控光学薄膜产品的镀膜过程；由于宽光谱扫描方法可以兼顾每个波长点的透射率，制备出符合设计要求的光学薄膜，是当前最有使用前景的技术，现有的宽光谱扫描法，一般是以评价函数方法进行透射率监控，以评价函数来控制换层。
[0004]然而，本申请的专利技术人发现，在镀膜工艺中，当采用宽光谱扫描方法监控薄膜沉积时，由于基于评价函数的方法，往往是在得到透射率误差极小值之后才会发出换层指令本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，包括：S1，将待镀膜的工件及监控片安装到真空腔室的产品转盘上；S2，对各个部件进行初始化，并加载镀膜工艺文件；S3，控制产品转盘定速旋转，读取光谱仪的光谱能量并绘制圆周光谱曲线，根据所述圆周光谱曲线确定监控片在产品转盘上的角度位置；S4，控制所述产品转盘定速旋转，根据所述镀膜工艺文件进入镀膜程序；S5，在镀膜过程中，根据所述角度位置触发光谱仪实时采集监控片的光谱能量数据，依据所述光谱能量数据实时拟合出当前膜层的真实厚度；根据所述真实厚度计算换层判停时间，并触发换层判停逻辑进行换层；S6，在换层后，执行步骤S5对下一个膜层进行镀膜，直至完成镀膜工艺中的所有膜层。2.根据权利要求1所述的基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，所述步骤S1的将监控片安装到产品转盘上，包括：在产品转盘的监控片安装位置的通孔中至少一个位置放置监控片，并保留至少一个位置处于通透状态；其中，光源输出的测试光穿过所述通孔后由光谱仪接收；所述S2的进入初始化状态包括：将定时器初始化为0。3.根据权利要求2所述的基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，所述步骤S3包括：控制所述产品转盘以设定角速度旋转；开启光源以输出全波段测试光，读取光谱仪检测的光谱能量；根据所述光谱能量获取多组旋转角度与光谱能量对应的采样光谱数据并绘制圆周光谱曲线；根据所述圆周光谱曲线获取监控片在产品转盘上的角度位置；其中，所述监控片位于圆周光谱能量曲线中光谱能量介于光谱能量最高值与光谱能量最低值之间的光谱能量居中值的角度位置处。4.根据权利要求3所述的基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，所述根据所述光谱能量获取多组旋转角度与光谱能量对应的采样光谱数据并绘制圆周光谱曲线，包括：选取一个参考波长；在旋转一周的范围内，每旋转1
°
读取光谱仪检测的光谱能量；获取各个旋转角度与光谱能量对应的360组采样光谱数据；将所述采样光谱数据绘制在旋转角度为横坐标、光谱能量为纵坐标的坐标系上，绘制出圆周光谱曲线。5.根据权利要求1所述的基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，所述步骤S6包括：在换层判停后，关闭离子源，判断当前是否为最后一层；若是，停止镀膜工艺，否则根据镀膜工艺文件确定下一层膜层的镀膜材料，切换相应的靶材；然后执行步骤S5对切换后的膜层进行镀膜。6.根据权利要求3所述的基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，所述S5的根据所述角度位置触发光谱仪实时采集监控片的光谱能量数据，依据所述光谱能量数据实时拟合出当...

【专利技术属性】
技术研发人员：裴宇辉，冀鸣，刘伟基，郭一鸣，易洪波，秦振江，赵刚，
申请(专利权)人：中山市博顿光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：