一种VD真空炉水冷屏蔽盖制造技术

技术编号:37415871 阅读:14 留言:0更新日期:2023-04-30 09:39
本实用新型专利技术公开了一种VD真空炉水冷屏蔽盖,其中,包括:水冷屏蔽盖主体和真空炉主体,所述水冷屏蔽盖主体内部呈环形设置有水冷管,所述水冷屏蔽盖主体外部固定连接有固定环,所述固定环侧壁呈环形固定连接有若干个固定板,所述真空炉主体外部呈环形固定连接有若干个竖杆,多个所述竖杆中部均转动连接有螺纹杆,多个所述螺纹杆外部均螺纹连接有螺纹块,多个所述螺纹块侧壁均固定连接有定位杆,多个所述固定板一端均穿过竖杆一侧延伸至内部。通过上述结构,利用定位杆与定位孔进行配合,在旋钮的带动下手动调整定位杆的位置,从而方便对水冷屏蔽盖主体进行固定。冷屏蔽盖主体进行固定。冷屏蔽盖主体进行固定。

【技术实现步骤摘要】
一种VD真空炉水冷屏蔽盖


[0001]本技术涉及VD炉
,特别涉及一种VD真空炉水冷屏蔽盖。

技术介绍

[0002]VD炉即钢包精炼炉,它是在真空下吹氧、脱碳、真空除气、真空下合金成分微调,主要用于精炼超低碳钢和电工纯铁等,在精炼的过程中,需要将原材料投入炉子的内部,因此炉子开设了端口,在精炼的过程中需要将该端口密封,以利于炉子内部精炼工作的开展,故此需要用到VD炉屏蔽盖。
[0003]现有的VD炉屏蔽盖在固定时,固定方式过于简单,利用固定锁将屏蔽盖与真空炉进行固定,在长时间使用时容易发生松动,从而不方便对屏蔽盖进行固定,容易影响屏蔽盖的密封性。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于,通过提供一种VD真空炉水冷屏蔽盖,解决现有技术中不方便对水冷屏蔽盖固定的技术问题。
[0005]为实现上述目的,提供一种VD真空炉水冷屏蔽盖,包括:水冷屏蔽盖主体和真空炉主体,所述水冷屏蔽盖主体内部呈环形设置有水冷管,所述水冷屏蔽盖主体外部固定连接有固定环,所述固定环侧壁呈环形固定连接有若干个固定板,所述真空炉主体外部呈环形固定连接有若干个竖杆,多个所述竖杆中部均转动连接有螺纹杆,多个所述螺纹杆外部均螺纹连接有螺纹块,多个所述螺纹块侧壁均固定连接有定位杆,多个所述固定板一端均穿过竖杆一侧延伸至内部,通过在水冷屏蔽盖侧壁固定连接固定环,将固定块插入竖杆的内部,利用定位杆与固定块中部的定位孔进行配合,从而对水冷屏蔽盖进行固定保障真空炉主体的密封性。
[0006]根据所述的一种VD真空炉水冷屏蔽盖,多个所述竖杆内壁均固定连接有支撑板,多个所述固定板中部均开设有定位孔,利用定位孔与定位杆进行配合,从而对水冷屏蔽盖进行固定。
[0007]根据所述的一种VD真空炉水冷屏蔽盖,多个所述竖杆上端均设置有旋钮,多个所述旋钮一端均与螺纹杆上端固定连接,通过手动调整定位杆的位置,从而对固定板进行固定。
[0008]根据所述的一种VD真空炉水冷屏蔽盖,多个所述定位杆一端均穿过支撑板中部延伸至外部,且与定位孔内部相互配合。
[0009]根据所述的一种VD真空炉水冷屏蔽盖,所述水冷管一端为输出端,所述水冷管另一端为输入端,且均穿过水冷屏蔽盖主体侧壁延伸至外部,利用水冷对屏蔽盖进行冷却。
[0010]根据所述的一种VD真空炉水冷屏蔽盖,所述水冷屏蔽盖主体侧壁固定连接有把手,所述水冷屏蔽盖主体另一侧固定连接有密封环,所述密封环侧壁与真空炉主体内壁相互贴合,利用密封环保障水冷屏蔽盖的密封性。
[0011]根据所述的一种VD真空炉水冷屏蔽盖,多个所述竖杆侧壁均开设有通孔,多个所述通孔内壁与固定板侧壁相互贴合。
[0012]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本技术的实践了解到。
[0013]本技术的目的在于,提供一种VD真空炉水冷屏蔽盖,主要创新点:
[0014]本技术通过在水冷屏蔽盖侧壁的固定块与竖杆的内部进行配合,再利用旋钮调整定位杆的位置,利用定位杆与定位孔进行配合对水冷屏蔽盖进行固定,从而保障水冷屏蔽盖的稳定性,使水冷屏蔽盖在使用的时候比较安全,避免发生松动,并且利用多个固定块在定位杆的配合下便于对水冷屏蔽盖进行固定。
附图说明
[0015]下面结合附图和实施例对本技术进一步地说明;
[0016]图1为本技术一种VD真空炉水冷屏蔽盖的立体图;
[0017]图2为本技术一种VD真空炉水冷屏蔽盖的侧剖视图;
[0018]图3为本技术图2中A处的放大图;
[0019]图4为本技术一种VD真空炉水冷屏蔽盖的剖视图。
[0020]图例说明:
[0021]1、水冷屏蔽盖主体;2、真空炉主体;3、把手;4、固定环;5、密封环;6、固定板;7、定位孔;8、竖杆;9、螺纹块;10、支撑板;11、定位杆;12、螺纹杆;13、旋钮;14、水冷管。
具体实施方式
[0022]本部分将详细描述本技术的具体实施例,本技术之较佳实施例在附图中示出,附图的作用在于用图形补充说明书文字部分的描述,使人能够直观地、形象地理解本技术的每个技术特征和整体技术方案,但其不能理解为对本技术保护范围的限制。
[0023]参照图1

4,本技术实施例一种VD真空炉水冷屏蔽盖,其包括:水冷屏蔽盖主体1和真空炉主体2,水冷屏蔽盖主体1内部呈环形设置有水冷管14,用于起到降温的效果,水冷屏蔽盖主体1外部固定连接有固定环4,固定环4侧壁呈环形固定连接有若干个固定板6,真空炉主体2外部呈环形固定连接有若干个竖杆8,竖杆8的中部呈中空设置,通过焊接的方式进行装配,多个竖杆8中部均转动连接有螺纹杆12,多个螺纹杆12外部均螺纹连接有螺纹块9,多个螺纹块9侧壁均固定连接有定位杆11,定位杆11与定位孔7进行配合对固定板6进行固定,多个固定板6一端均穿过竖杆8一侧延伸至内部。
[0024]多个竖杆8内壁均固定连接有支撑板10,多个固定板6中部均开设有定位孔7,多个竖杆8上端均设置有旋钮13,手动调整定位杆11的位置,多个旋钮13一端均与螺纹杆12上端固定连接,多个定位杆11一端均穿过支撑板10中部延伸至外部,且与定位孔7内部相互配合,水冷管14一端为输出端,水冷管14另一端为输入端,且均穿过水冷屏蔽盖主体1侧壁延伸至外部,通过冷水输送对屏蔽盖降温,水冷屏蔽盖主体1侧壁固定连接有把手3,水冷屏蔽盖主体1另一侧固定连接有密封环5,用于保障屏蔽盖与真空炉的密封性,密封环5侧壁与真空炉主体2内壁相互贴合,多个竖杆8侧壁均开设有通孔,多个通孔内壁与固定板6侧壁相互
贴合。
[0025]工作原理:在使用时,将水冷屏蔽盖主体1侧壁的固定板6插入竖杆8的内部,利用旋钮13带动螺纹杆12进行旋转,在支撑板10配合下带动定位杆11进行移动,使定位杆11与定位孔7进行配合,从而对水冷屏蔽盖主体1进行固定,水冷屏蔽盖主体1的侧壁的密封环5与真空炉主体2内壁进行贴合,从而保障水冷屏蔽盖主体1与真空炉主体2的密封性,利用水冷管14在水冷屏蔽盖主体1的内部进行降温。
[0026]上面结合附图对本技术实施例作了详细说明,但是本技术不限于上述实施例,在所述
普通技术人员所具备的知识范围内,还可以在不脱离本技术宗旨的前提下作出各种变化。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种VD真空炉水冷屏蔽盖,其特征在于,包括:水冷屏蔽盖主体(1)和真空炉主体(2),所述水冷屏蔽盖主体(1)内部呈环形设置有水冷管(14),所述水冷屏蔽盖主体(1)外部固定连接有固定环(4),所述固定环(4)侧壁呈环形固定连接有若干个固定板(6),所述真空炉主体(2)外部呈环形固定连接有若干个竖杆(8),多个所述竖杆(8)中部均转动连接有螺纹杆(12),多个所述螺纹杆(12)外部均螺纹连接有螺纹块(9),多个所述螺纹块(9)侧壁均固定连接有定位杆(11),多个所述固定板(6)一端均穿过竖杆(8)一侧延伸至内部。2.根据权利要求1所述的一种VD真空炉水冷屏蔽盖,其特征在于,多个所述竖杆(8)内壁均固定连接有支撑板(10),多个所述固定板(6)中部均开设有定位孔(7)。3.根据权利要求1所述的一种VD真空炉水冷屏蔽盖,其特征在于,多个所述竖杆(8)上端均设置有...

【专利技术属性】
技术研发人员:李颖鹤
申请(专利权)人:西安泽邦电炉有限公司
类型:新型
国别省市:

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