一种二维IGZO纳米片材料及其制备方法技术

技术编号:37411660 阅读:12 留言:0更新日期:2023-04-30 09:36
本发明专利技术公开了一种二维片层状IGZO半导体材料及其制备方法。具体制备方法为采用溶胶凝胶法将铟盐,镓盐,锌盐分别在水中搅拌溶解,混合均匀后,加入碱性添加剂使三种盐产生共沉淀,添加搅拌稳定后的pH为4~9。在烘箱中热处理进行反应获得IGZO前驱体,洗涤干燥获得前驱体粉末,将粉末在800

【技术实现步骤摘要】
一种二维IGZO纳米片材料及其制备方法


[0001]本专利技术涉及材料制备方法,具体涉及一种二维片层状IGZO半导体材料及其制备方法。

技术介绍

[0002]铟镓锌氧化物(indiumgallium zinc oxide,IGZO)是由In2O3、Ga2O3和ZnO三种化合物按不同的配比组合而成的n型半导体金属氧化物。具有高迁移率、低关态电流、宽带隙(~3.5eV)等优点,是制备柔性电子产品的理想半导体材料。通过在柔性基底上附着一层IGZO是进一步加工柔性电子器件,如薄膜晶体管,反相器等器件的重要环节。制备IGZO薄膜的方法有很多,主要有磁控溅射法、脉冲激光沉积法、溶胶

凝胶法、化学气相沉积法、原子层沉积法、脉冲直流磁控溅射法等。其中沉积,溅射等方法由于成本较高,目前仅在制备显示设备中采用溅射、气相沉积IGZO的方式制备。溶胶

凝胶法需要低温反应以适应有机物薄膜衬底不耐高温的特性,目前仍处于实验室阶段。近年来,通过先制备纳米级IGZO,再将IGZO分散至溶剂体系中,配制成可印刷,可打印的墨水方式由于其具备高速生产,低成本的优势近年来受到广泛关注。如华星光电通过喷墨打印生产出的OLED

TFT,可降低生产成本(CN201710777726.XOLED

TFT基板及其制造方法、显示面板),喷墨打印技术形成OLED的有机发射图案,可以省去一道黄光制程。但由于显示面板层数较多,不同环节仍需要采用不同工艺流程。其制备IGZO半导体层的工序依然使用化学气相沉积法,效率较低。
[0003]Gyoujin Cho等人通过溶胶凝胶法,烧结后球磨,离心的方法获得了纳米IGZO颗粒(Adv.Electron.Mater.2018,1800078),上述工作均展现出了通过纳米级IGZO配制成墨水,再进一步加工IGZO薄膜的可能性。然而由于颗粒团聚,颗粒尺寸不均匀等问题,导致需要在配制墨水前期引入超声,球磨,离心等工序,产率不高;并且由于团聚,尺寸不均匀等问题,在配制墨水过程中需要添加分散剂,导致最终IGZO薄膜性能下降的问题。

技术实现思路

[0004]由于现有技术中的团聚、尺寸不均匀等问题,导致在配制墨水过程中需要添加分散剂,使最终IGZO薄膜性能下降,为解决上述技术问题:
[0005]本专利技术提供一种二维片状IGZO纳米片,所述IGZO纳米片为二维结构,所述纳米片直径为100nm~5μm,厚度为<100nm。优选地,纳米片直径为100nm~2μm,厚度为<80nm;更优选地,纳米片直径为100nm~1μm,厚度为<50nm。
[0006]本专利技术又提供一种二维片状IGZO纳米片的制备方法,包括以下步骤:
[0007](1)将铟盐,镓盐,锌盐分别加入溶剂中,形成金属盐溶液;
[0008](2)将(1)中所述的三种金属盐溶液混合均匀后,向其中添加碱性添加剂;
[0009](3)将步骤(3)得到的溶液放入烘箱中进行热处理,得到IGZO前驱体溶液,所述热处理温度为60

130℃;
[0010](4)洗涤、干燥,得到IGZO前驱体粉末;
[0011](5)将步骤(4)得到的IGZO前驱体粉末进行烧结,得到IGZO纳米片,所述烧结温度为800

1300℃。
[0012]进一步地,在上述技术方案中,步骤(1)中,所述溶剂为水;所述铟盐为水溶性铟盐;所述镓盐为水溶性镓盐;所述锌盐为水溶性锌盐。
[0013]进一步地,在上述技术方案中,步骤(1)中,所述铟盐包括但不限于硝酸铟、氯化铟、硫酸铟、醋酸铟等水溶性盐中的一种或几种,铟盐溶液浓度为0.005~0.5M。
[0014]进一步地,在上述技术方案中,步骤(1)中,镓盐包括但不限于硝酸镓、氯化镓、硫酸镓、醋酸镓等水溶性盐中的一种或几种,镓盐溶液浓度为0.005~0.5M。
[0015]进一步地,在上述技术方案中,步骤(1)中,锌盐包括但不限于硝酸锌、氯化锌、硫酸锌、醋酸锌等水溶性盐中的一种或几种,锌盐溶液浓度为0.005~0.5M。
[0016]进一步地,在上述技术方案中,步骤(2)中,所述碱性添加剂包括强碱、弱碱或碱性有机物中的一种或几种的混合;所述加入碱性添加剂后溶液pH为4~9。
[0017]又进一步地,在上述技术方案中,步骤(2)中,所述强碱为氢氧化钠或氢氧化钾;所述弱碱为氨水;所述碱性有机物为乙醇胺或乙二胺。
[0018]进一步地,在上述技术方案中,步骤(3)中,所述热处理时间为大于等于30min。
[0019]进一步地,在上述技术方案中,步骤(4)中,所述干燥为鼓风干燥、冷冻干燥、喷雾干燥中的一种;优选的,干燥为冷冻干燥。
[0020]进一步地,在上述技术方案中,步骤(5)中,所述烧结时间为大于等于30min。
[0021]本专利技术又提供一种IGZO纳米片的应用,纳米片可分散于适合溶剂,如二甲基亚砜,N

甲基吡咯烷酮,乙二醇等溶剂中,经加工后可用于印刷/喷墨打印用n型半导体制备或薄膜半导体功能模块的生产。
[0022]本专利技术采用溶胶凝胶法包括将铟盐,镓盐,锌盐在水中搅拌溶解,加入碱性添加剂使三种盐产生共沉淀,在烘箱中热处理进行反应获得IGZO前驱体,洗涤干燥获得前驱体粉末,将粉末高温烧结成IGZO纳米片。
[0023](1)将铟盐,镓盐,锌盐加入水中,形成水溶液,每种盐的浓度为0.005~0.5M。所述的盐包括硝酸盐,氯盐,硫酸盐,醋酸盐等水溶性盐。
[0024](2)添加的碱性添加剂包括氢氧化钠,氢氧化钾等常见强碱,氨水,乙醇胺,乙二胺等弱碱或碱性有机物其中一种或几种的混合。添加搅拌稳定后的pH为4~9。
[0025](3)烘箱中热处理温度为60

130℃,处理时间大于等于30min。
[0026](4)干燥方式为烘干,冷冻干燥,喷雾干燥。
[0027](5)烧结温度为800

1300℃,烧结时间大于等于30min。
[0028](6)前驱体及烧结后的IGZO片径在100nm~5μm之间,片层厚度<100nm。
[0029]本专利技术有益效果
[0030]本专利技术获得的IGZO,片径在100nm~1μm之间,片层厚度<30nm的片层状产物产率较高(>90%),因此可更好地分散于各种溶剂制备印刷/喷墨打印用n型半导体墨水,进行后续的批量化薄膜半导体功能模块生产。
附图说明
[0031]图1为实施例1制备的干燥后的IGZO前驱体粉末扫描电子显微镜形貌图。
[0032]图2为实施例1制备的IGZO烧结后产物的扫描电子显微镜形貌图。
[0033]图3为实施例5制备的IGZO烧结后产物的扫描电子显微镜形貌图。
[0034]图4为实施例6制备的IGZO烧结后产物的扫本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种二维片状IGZO纳米片,其特征在于,所述IGZO纳米片为二维结构;所述纳米片直径为100nm~5μm,厚度为<100nm。2.根据权利要求1所述的IGZO纳米片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将铟盐,镓盐,锌盐分别加入溶剂中,形成金属盐溶液;(2)将(1)中所述的三种金属盐溶液混合均匀后,向其中添加碱性添加剂;(3)将步骤(2)得到的溶液放入烘箱中进行热处理,得到IGZO前驱体溶液,所述热处理温度为60

130℃;(4)洗涤、干燥,得到IGZO前驱体粉末;(5)将步骤(4)得到的IGZO前驱体粉末进行烧结,得到IGZO纳米片,所述烧结温度为800

1300℃。3.根据权利要求2所述的IGZO纳米片的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述溶剂为水;所述铟盐为水溶性铟盐;所述镓盐为水溶性镓盐;所述锌盐为水溶性锌盐。4.根据权利要求2或3任意一项所述的IGZO纳米片的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述铟盐包括但不限于硝酸铟、氯化铟、硫酸铟、醋酸铟中的一种或几种,溶液浓度为0.005~0.5M。5.根据权利要求2或3任意一项所述的IGZO纳米片的制备方法...

【专利技术属性】
技术研发人员:肖涵孙俊峰马燕陈韦宁
申请(专利权)人:睿芯大连股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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