一种二极管生产用供给设备制造技术

本发明专利技术公开一种二极管生产用供给设备，包括下料装置、供料整形装置以及传送带，所述下料装置包括下料盘以及转动盘，所述下料盘和所述转动盘上下固定连接，所述下料盘呈圆盘状，且所述下料盘的内部为球状弧面，所述下料盘的中心处贯穿设置有第一下料通道，所述第一下料通道的上端设有止逆阀，所述转动盘的下端沿圆周设有环形槽，所述第一环形槽内卡接有轴承，且所述轴承的上端卡接在所述第一环形槽内，所述轴承的下端卡接在所述供料整形装置内，所述供料整形装置对二极管的引脚进行整形，所述供料整形装置的下端设有传送带。本发明专利技术通过下料装置、供料整形装置以及传送带的相互配合对供给的二极管的引脚进行调整，使得二极管的引脚更加符合标准。更加符合标准。更加符合标准。

【技术实现步骤摘要】
一种二极管生产用供给设备


[0001]本专利技术涉及二极管生产
，尤其涉及一种二极管生产用供给设备。

技术介绍

[0002]二极管是用半导体材料制成的一种电子器件，它具有单向导电性能，即给二极管阳极和阴极加上正向电压，二极管导通，当给阴极和阳极加上反向电压时，二极管截止，具体来说二极管就是有一个PN结加上相应的电极引线及管壳封装而成的，因此在二极管的生产中，二极管的引脚常常为向两侧撑开的状态，这样的二极管无法达到出厂的标准，因此需要对二极管的引脚进行整形，以使得二极管的引脚整体形状达到出厂标准。
[0003]基于此，本设计提出一种二极管生产用供给设备。

技术实现思路

[0004]针对现有技术存在的上述不足，本专利技术的目的在于提出一种二极管生产用供给设备。
[0005]为了实现本专利技术的目的，本专利技术提出一种二极管生产用供给设备，包括下料装置、供料整形装置以及传送带，所述下料装置包括下料盘以及转动盘，所述下料盘和所述转动盘上下固定连接，所述转动盘的下端连接所述供料整形装置，所述供料整形装置对二极管的引脚进行整形，所述供料整形装置的下端设有传送带。
[0006]进一步的，所述下料盘呈圆盘状，且所述下料盘的内部为球状弧面，所述下料盘的中心处贯穿设置有第一下料通道，所述第一下料通道的上端设有止逆阀，所述转动盘的下端沿圆周设有第一环形槽，所述第一环形槽内卡接有第一轴承，且所述第一轴承的上端卡接在所述第一环形槽内，所述第一轴承的下端卡接在所述供料整形装置内，所述转动盘的圆周外表面还设有皮带安装槽以及第一引导槽，所述皮带安装槽和所述第一引导槽分别上下设置，且其中所述第一引导槽呈波纹状，并且所述转动盘分别通过所述皮带安装槽和所述第一引导槽与所述供料整形装置连接。
[0007]进一步的，所述第一引导槽的左右两端通过第二轴承分别转动连接有滑轮，所述第二轴承套在所述滑轮的内部，所述滑轮的内侧卡在所述第一引导槽内，所述第二轴承的外侧与所述供料整形装置连接。
[0008]进一步的，所述供料整形装置包括活动杆，所述活动杆的一端固定连接在所述第二轴承的外侧，所述活动杆的另一端伸入供料整形底座内，所述供料整形底座包括设置于两侧的第二引导槽，所述第二引导槽由上至下贯穿所述供料整形底座设置，所述供料整形底座的中心处还设有第二下料通道。
[0009]进一步的，所述第二下料通道的内侧壁沿圆周设有若干弧状气囊，所述弧状气囊由上下两端至中部逐步膨大。
[0010]进一步的，两侧所述活动杆之间还固定连接有横杆，所述横杆的中部向上固定连接有活塞杆。
[0011]进一步的，所述活塞杆的上端设有活塞，所述活塞的上端为两端高中间低的弧面，且所述弧面的前后两端分别向内凹陷。
[0012]进一步，所述供料整形装置的上端外侧还设有电机，且所述电机通过皮带与所述皮带安装槽连接。
[0013]本专利技术的有益效果在于：
[0014]本专利技术的一种二极管生产用供给设备，具体通过下料装置、供料整形装置以及传送带之间的配合，使得本设计在可以实现间隔供料的同时，还可以二极管在第一下料通道和第二下料通道内时，通过活塞杆的上下反复运动，使得二极管的引脚在第二下料通道内与其内部的弧状气囊反复碰撞进而实现对引脚的整形，此外本设计还通过第一下料通道与第二下料通道内压强与外界气压的气压的压强差，实现对二极管的间隔下料，本设计具有自动下料、操作简单和维护简便的优点。
附图说明
[0015]图1为本专利技术的主要结构工作原理示意图；
[0016]图2为本专利技术中下料装置及供料整形装置组合示意图；
[0017]图3为本专利技术中无皮带状态下的下料装置及供料整形装置组合剖视示意图；
[0018]图4为本专利技术中转动盘圆周侧面展开示意图；
[0019]图5为本专利技术中弧状气囊与第二下料通道配合示意图；
[0020]图6为本专利技术中弧状气囊与第二下料通道配合俯视示意图；
[0021]图7为图3中A部放大示意图；
[0022]图8为本专利技术中活塞结构示意图；
[0023]图9为二极管结构示意图。
[0024]图中：1、下料装置；2、供料整形装置；3、传送带；101、下料盘；102、转动盘；103、第一下料通道；104、止逆阀；105、第一环形槽；106、第一轴承；107、皮带安装槽；108、第一引导槽；109、第二轴承；110、滑轮；201、活动杆；202、供料整形底座；203、第二引导槽；204、第二下料通道；205、弧状气囊；206、横杆；207、活塞杆；208、活塞；209、弧面；210、电机；211、皮带。
具体实施方式
[0025]下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明：
[0026]实施例1：一种二极管生产用供给设备，参见图1至图9。
[0027]其中一种二极管生产用供给设备，包括下料装置1、供料整形装置2以及传送带3，所述下料装置1包括下料盘101以及转动盘102，所述下料盘101和所述转动盘102上下固定连接，所述转动盘102的下端连接所述供料整形装置2，所述供料整形装置2对二极管的引脚进行整形，所述供料整形装置2的下端设有传送带3，上述下料装置1、供料整形装置2以及传送带3的设置，其中下料装置1用于二极管的盛放以及初始进料，供料整形装置2用于对二极管的整形以及末端下料，传送带3则用于将整形完成后二极管传送至后端工位进行操作。
[0028]优选的，所述下料盘101呈圆盘状，且所述下料盘101的内部为球状弧面，所述下料盘101的中心处贯穿设置有第一下料通道103，所述第一下料通道103的上端设有止逆阀
104，所述转动盘102的下端沿圆周设有第一环形槽105，所述第一环形槽105内卡接有第一轴承106，且所述第一轴承106的上端卡接在所述第一环形槽105内，所述第一轴承106的下端卡接在所述供料整形装置2内，所述转动盘102的圆周外表面还设有皮带安装槽107以及第一引导槽108，所述皮带安装槽107和所述第一引导槽108分别上下设置，且其中所述第一引导槽108呈波纹状，并且所述转动盘102分别通过所述皮带安装槽107和所述第一引导槽108与所述供料整形装置2连接，上述下料盘101的球状弧面设置使得二极管在均聚集在下料盘101的底部，此外，第一下料通道103上端止逆阀104的设置使得当第一下料通道103内的压强小于外界压强时，止逆阀104则在压强差作用下打开并将二极管压入第一下料通道103内，而当第一下料通道103内的压强大于外界压强时，止逆阀104则在压强差作用下保持封闭状态。
[0029]优选的，所述第一引导槽108的左右两端通过第二轴承109分别转动连接有滑轮110，所述第二轴承109套在所述滑轮110的内部，所述滑轮110的内侧卡在所述第一引导槽108内，所述第二轴承109的外侧与所述供料整形装置2连接，上述滑轮110的设置使得转动盘102在转动时减小摩擦降低本设计的磨损度，从而延长本设计的使用寿命。
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种二极管生产用供给设备，包括下料装置、供料整形装置以及传送带，其特征在于：所述下料装置包括下料盘以及转动盘，所述下料盘和所述转动盘上下固定连接，所述转动盘的下端连接所述供料整形装置，所述供料整形装置对二极管的引脚进行整形，所述供料整形装置的下端设有传送带。2.如权利要求1所述的一种二极管生产用供给设备，其特征在于：所述下料盘呈圆盘状，且所述下料盘的内部为球状弧面，所述下料盘的中心处贯穿设置有第一下料通道，所述第一下料通道的上端设有止逆阀，所述转动盘的下端沿圆周设有环形槽，所述第一环形槽内卡接有第一轴承，且所述第一轴承的上端卡接在所述第一环形槽内，所述第一轴承的下端卡接在所述供料整形装置内，所述转动盘的圆周外表面还设有皮带安装槽以及第一引导槽，所述皮带安装槽和所述第一引导槽分别上下设置，且其中所述第一引导槽呈波纹状，并且所述转动盘分别通过所述皮带安装槽和所述第一引导槽与所述供料整形装置连接。3.如权利要求2所述的一种二极管生产用供给设备，其特征在于：所述第一引导槽的左右两端通过第二轴承分别转动连接有滑轮，所述第二轴承套在所述滑轮的内部，所述滑...

【专利技术属性】
技术研发人员：尧地长，尧瑞琪，尧瑞弘，
申请(专利权)人：江西德尔诚半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：