【技术实现步骤摘要】
二极管生产工艺中使用的酸洗装置
[0001]本专利技术涉及酸洗装置领域，具体涉及二极管生产工艺中使用的酸洗装置。
技术介绍
[0002]二极管是用半导体材料(硅、硒、锗等)制成的一种电子器件，它具有单向导电性能，即给二极管阳极加上正向电压时，二极管导通，当给阳极和阴极加上反向电压时，二极管截止，因此，二极管的导通和截止，则相当于开关的接通与断开，而在二极管的生产过程中，需要对二极管的阳极和阴极的引脚进行酸洗处理，以。
[0003]目前，二极管酸洗时通常需要将大量的二极管倒入酸洗池中进行加工，为了提高二极管的酸洗效果，通常还需要对其中的二极管进行搅拌，此时二极管的引脚缺乏保护，这样的操作容易对二极管的引脚造成损伤。
[0004]因此，专利技术二极管生产工艺中使用的酸洗装置来解决上述问题很有必要。
技术实现思路
[0005]本专利技术的目的是提供二极管生产工艺中使用的酸洗装置，以解决技术中酸洗时搅拌酸洗液会导致二极管的引脚变形损伤的问题。
[0006]为了实现上述目的，本专利技术提供如下技...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.二极管生产工艺中使用的酸洗装置，包括用于盛放酸液的酸洗池（1）和设置在酸洗池（1）内部用于放置二极管的托架（2），其特征在于：所述托架（2）底部设置有酸液搅拌机构（3），所述托架（2）顶部设置有二极管保护机构（4），所述酸洗池（1）顶部两侧设置有托架（2）升降机构；所述酸液搅拌机构（3）包括设置在托架（2）底部的搅拌波轮（5），所述搅拌波轮（5）底部安装有根据波轮升降驱动波轮旋转的波轮驱动机构（6）；所述二极管保护机构（4）包括两组对称设置在托架（2）顶部的二极管存放槽（7）和用于将二极管限位在二极管存放槽（7）内部的限位机构（8）；所述托架（2）升降机构包括两个对称设置在酸洗池（1）顶部的传动臂（9），所述传动臂（9）一端与托架（2）相连接，用于驱动托架（2）在酸洗池（1）上下移动，所述酸洗池（1）底部设置有用于驱动传动臂（9）活动的动力机构（10）。2.根据权利要求1所述的二极管生产工艺中使用的酸洗装置，其特征在于：所述搅拌波轮（5）包括呈圆盘状的盘体（51），所述盘体（51）底部呈环状分布有多个搅拌叶（52），所述盘体（51）表面呈环状开设有多个通孔（53），所述通孔（53）与搅拌叶（52）相对应，所述盘体（51）顶部呈环状嵌设有多个滚珠一（54）。3.根据权利要求2所述的二极管生产工艺中使用的酸洗装置，其特征在于：所述波轮驱动机构（6）包括连接在盘体（51）底部的支撑杆（61），所述酸洗池（1）内壁底部安装有套筒（62），所述套筒（62）顶部安装有固定环（63），所述支撑杆（61）底端贯穿固定环（63）并延伸入套筒（62）内部，所述支撑杆（61）外部呈螺旋状环绕有两个对称分布的导轨（64），所述固定环（63）内壁与支撑杆（61）的连接处开设有两个导向槽（65），所述导轨（64）与导向槽（65）滑动连接，所述支撑杆（61）底部安装有波轮复位组件（66）；所述波轮复位组件（66）包括设置通过螺钉安装在支撑杆（61）底部呈圆形的连接片（661），所述连接片（661）底部呈环状嵌设有多个滚珠二（662），所述连接片（661）底部设置有活动盘（663），所述活动盘（663）设置在套筒（62）内部并与套筒（62）滑动连接，所述活动盘（663）底部安装有复位弹簧一（664），所述套筒（62）外部开设有多个通槽（665）。4.根据权利要求3所述的二极管生产工艺中使用的酸洗装置，其特征在于：每组二极管存放槽（7）由多个等距分布的且呈半圆柱状的限位槽（701）组成；所述限位机构（8）包括二极管推条（81）和二极管压板（82），所述二极管推条（81）的二极管压板（82）分别设置在限位槽（701）的两个端部方向，所述二极管推条（81）活动安装在托架（2）顶部靠近托架（2...
【专利技术属性】
技术研发人员：尧地长，尧瑞琪，尧瑞弘，
申请(专利权)人：江西德尔诚半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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