玻璃基片综合清洗系统技术方案

本发明专利技术公开了一种玻璃基片综合清洗系统，包括脱水箱、脱水盖、清洗箱和漂洗箱，所述脱水盖位于脱水箱、清洗箱和漂洗箱的上方，所述清洗箱、漂洗箱和脱水箱的内部均设置箱夹持件，所述箱夹持件上设置夹持传送带，所述脱水盖上固定设置工作台，所述工作台上设置用于夹持玻璃基片的盖夹持件，所述盖夹持件的位置与箱夹持件的位置对应，所述盖夹持件的上方设置IPA气体喷嘴，盖夹持件的两侧分别设置约束板，本发明专利技术中的玻璃基片综合清洗系统用于光掩膜版的玻璃基片的清洗，在清洗后完成慢提拉脱水，在基片两侧设置约束板形成竖向张力梯度通道，保持稳定的水回流，减少张力不稳定导致的梯度断裂，减少基片表面水痕的产生。减少基片表面水痕的产生。减少基片表面水痕的产生。

【技术实现步骤摘要】
玻璃基片综合清洗系统


[0001]本专利技术涉及光掩膜版生产
，尤其涉及一种玻璃基片综合清洗系统。

技术介绍

[0002]光刻掩膜版由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上，待加工的掩膜版由玻璃基片、铬层和光刻胶层构成。
[0003]玻璃基片在覆膜之前需要进行研磨、抛光、清洗、干燥等过程，一般的玻璃基片在清洗过程中，其被固定在支撑件上，支撑件与玻璃基片具有固定的接触面积，因此玻璃基片进行清洗、漂洗时，玻璃基片与支撑件接触处的不能被彻底清洗和漂洗。清洗后需要将玻璃基片进行脱水后干燥，现有技术中慢提拉脱水为其中一种常规手段，参考图7，在慢提拉脱水过程中，由于张力梯度的存在，玻璃基片上的水可被拉入水中，从而实现玻璃基片脱水的，从图中可看出，靠近玻璃基片的水面中存在一定浓度的IPA(异丙醇)，在玻璃基片两侧形成截面为三角的张力梯度区，玻璃基片两侧的水形成斜面流动，由于IPA(异丙醇)在水面扩散方向不稳定，三角张力梯度区的张力梯度相对混乱，容易断裂，不能形成持续稳定的脱水，导致玻璃基片产生水痕本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.玻璃基片综合清洗系统，包括脱水箱（2）、脱水盖（3）、清洗箱（4）和漂洗箱（5），所述脱水盖（3）位于脱水箱（2）、清洗箱（4）和漂洗箱（5）的上方，脱水盖（3）与机架（1）在水平方向滑动连接，所述清洗箱（4）、漂洗箱（5）和脱水箱（2）在脱水盖（3）的移动方向上依次排列，其特征在于，所述清洗箱（4）、漂洗箱（5）和脱水箱（2）的内部均设置箱夹持件（6），所述箱夹持件（6）上设置夹持传送带（61），所述箱夹持件（6）与对应的工作箱体在竖直方向滑动连接；所述脱水盖（3）上固定设置工作台（32），所述工作台（32）上设置用于夹持玻璃基片（8）的盖夹持件（7），所述盖夹持件（7）的位置与箱夹持件（6）的位置对应；所述盖夹持件（7）的上方设置IPA气体喷嘴（10），盖夹持件（7）的两侧分别设置约束板（9），所述约束板（9）与工作台（32）在水平和竖直方向均活动连接。2.根据权利要求1所述的玻璃基片综合清洗系统，其特征在于，所述约束板（9）通过随动气缸（321）与工作台（32）在竖直方向上滑动连接，所述约束板（9）通过分离气缸（323）与工作台（32）在水平方向上滑动连接。3.根据权利要求2所述的玻璃基片综合清洗系统，其特征在于，所述工作台（32）上设置与工作台（...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈军，李珍，
申请(专利权)人：湖南智信微电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：