一种高效钝化膜沉积气体驱动装置制造方法及图纸

技术编号:37386455 阅读:20 留言:0更新日期:2023-04-27 07:26
本实用新型专利技术公开了一种高效钝化膜沉积气体驱动装置,属于气体驱动装置技术领域,包括运输车、真空泵、压力计、阀门和过滤机构,所述运输车上设置有对接管,所述压力计和所述阀门皆安装在所述对接管上,所述真空泵连接所述对接管,且所述阀门位于所述真空泵和所述压力计之间,所述过滤机构安装在所述运输车上,且所述过滤机构与所述真空泵连通;本实用新型专利技术通过将真空泵和过滤机构同时搭载在运输车上,形成一个可移动的气体驱动装置,使得装置整体使用起来非常灵活,同时也便于对装置进行检修与维护,在将对接管与管式炉连接后,真空泵从管式炉内抽出的空气在过滤机构的净化作用下排出,避免了对周围环境造成污染的情况。避免了对周围环境造成污染的情况。避免了对周围环境造成污染的情况。

【技术实现步骤摘要】
一种高效钝化膜沉积气体驱动装置


[0001]本技术属于气体驱动装置
,尤其涉及一种高效钝化膜沉积气体驱动装置。

技术介绍

[0002]低压化学气相沉淀是指系统工作在比较低的压强下的一种化学气相沉积的方法,LPCVD技术不仅用于制备硅外延层,还广泛用于各种无定形钝化膜及多晶硅薄膜的淀积,是一种重要的薄膜淀积技术。
[0003]在LPCVD系统中需要安装一个抽真空系统,使淀积室内保持所在的低压状况,并且使用压力计来监控制程压力。
[0004]目前,抽真空系统即气体驱动装置,都是和LPCVD系统集成在一起的,不便于对气体驱动装置进行单独的检修与维护,并且,直接从管式炉里面抽出的空气清洁度很低,直接排出容易造成周围环境的污染。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于:为了解决气体驱动装置都是和LPCVD系统集成在一起的,直接从管式炉里面抽出的空气清洁度很低,导致气体驱动装置检修与维护困难、造成环境污染的问题,而提出的一种高效钝化膜沉积气体驱动装置。
[0006]为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高效钝化膜沉积气体驱动装置,其特征在于:包括运输车(1)、真空泵(2)、压力计(3)、阀门(4)和过滤机构(5),所述运输车(1)上设置有对接管(6),所述压力计(3)和所述阀门(4)皆安装在所述对接管(6)上,所述真空泵(2)连接所述对接管(6),且所述阀门(4)位于所述真空泵(2)和所述压力计(3)之间,所述过滤机构(5)安装在所述运输车(1)上,且所述过滤机构(5)与所述真空泵(2)连通。2.根据权利要求1所述的一种高效钝化膜沉积气体驱动装置,其特征在于,所述过滤机构(5)包括过滤仓(51)、两个过滤器(52)和排气阀(53),所述过滤仓(51)安装在所述运输车(1)上,两个所述过滤器(52)分别连通所述过滤仓(51)的进气...

【专利技术属性】
技术研发人员:丰平孟明李鑫
申请(专利权)人:中润新能源徐州有限公司
类型:新型
国别省市:

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