一种半导体产品直立清洗设备制造技术

技术编号:37386087 阅读:22 留言:0更新日期:2023-04-27 07:26
本实用新型专利技术公开了一种半导体产品直立清洗设备,其包括清洗台,所述清洗台的一端竖直设置有侧支板,所述侧支板的顶部水平设置有顶板,所述顶板的下方吊设有第一管体,所述第一管体上设置有向下伸出的两处喷水管体,所述两处喷水管体的内侧分别设置有多个喷头,所述两处喷水管体之间竖直设置有用于放置半导体产品的产品框架,所述清洗台上设置有用于驱动产品框架水平直线移动的驱动机构。本实用新型专利技术的清洗设备清洗半导体产品时半导体产品不会产生压痕,有利于保证半导体产品的质量,在清洗设备对半导体产品进行传动输送和清洗时不会产生金属碎屑或金属粉尘,有利于保证生产车间的无尘环境符合生产要求。的无尘环境符合生产要求。的无尘环境符合生产要求。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体产品直立清洗设备


[0001]本技术涉及半导体产品清洗设备
,具体涉及一种半导体产品直立清洗设备。

技术介绍

[0002]在半导体产品以及其他电子产品的工业生产中,很多的半导体产品和电子元器件在包装出货前或者是上线使用前要进行清洗,要保证电子元器件的清洁干净,并且要求生产车间是无尘环境,传统的半导体产品清洗设备在移动清洗的半导体产品时,半导体产品在产品承载片上水平向前移动,产品承载片和半导体产品在清洁设备的水平传输辊筒上,半导体产品在自身重力作用下会产生压痕,对半导体产品的质量产生不良影响,而且设备中的传动输送机构往往使用的是普通钢质齿轮进行传动,普通钢质齿轮彼此啮合,在传动过程中会有摩擦和碰撞,因此会产生金属碎屑或金属粉尘,对生产车间的无尘环境产生不良影响,从而对半导体产品带来不良影响。

技术实现思路

[0003]本技术主要解决的技术问题是提供一种半导体产品直立清洗设备,该清洗设备清洗半导体产品时半导体产品不会产生压痕,有利于保证半导体产品的质量。
[0004]为解决上述技术问题,本技术采用的技术方案是:提本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体产品直立清洗设备,包括清洗台,所述清洗台的一端竖直设置有侧支板,所述侧支板的顶部水平设置有顶板,其特征在于,所述顶板的下方吊设有第一管体,所述第一管体上设置有向下伸出的两处喷水管体,所述两处喷水管体的内侧分别设置有多个喷头,所述两处喷水管体之间竖直设置有用于放置半导体产品的产品框架,所述清洗台上设置有用于驱动产品框架水平直线移动的驱动机构。2.根据权利要求1所述的半导体产品直立清洗设备,其特征在于,所述驱动机构为传送带机构。3.根据权利要求1所述的半导体产品直立清洗设备,其特征在于,所述驱动机构包括主动轴和从动轴,所述主动轴与从动轴垂直,所述主动轴上固定设置有主动磁力轮,所述从动轴上...

【专利技术属性】
技术研发人员:代永宣
申请(专利权)人:昆山市广程机械设备有限公司
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1