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本实用新型公开了一种半导体产品直立清洗设备，其包括清洗台，所述清洗台的一端竖直设置有侧支板，所述侧支板的顶部水平设置有顶板，所述顶板的下方吊设有第一管体，所述第一管体上设置有向下伸出的两处喷水管体，所述两处喷水管体的内侧分别设置有多个喷头，...
该专利属于昆山市广程机械设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山市广程机械设备有限公司授权不得商用。

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