导电性层叠体及使用其的光学装置、导电性层叠体的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供兼顾低电阻和高透过率的导电性层叠体以及提供具备该导电性层叠体的各种光学元件、导电性层叠体的制造方法。导电性层叠体(1)在透明基材(2)的至少1面上从透明基材(2)侧起依次层叠有第一金属氧化物层(3)、金属层(4)和第二金属氧化物层(5)，第一金属氧化物层(3)的透明基材侧(2)的界面的算术平均粗糙度为2.0nm以下。例如，导电性层叠体(1)中，第一金属氧化物层(3)的透明基材(2)侧的界面为透明基材(2)的表面。另外，在透明基材(2)与第一金属氧化物层(3)之间进一步具备树脂层(6)的导电性层叠体(1A)中，第一金属氧化物层(3)的透明基材(2)侧的界面为树脂层(6)的表面。透明基材(2)侧的界面为树脂层(6)的表面。透明基材(2)侧的界面为树脂层(6)的表面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】导电性层叠体及使用其的光学装置、导电性层叠体的制造方法


[0001]本技术涉及用于例如触摸面板、调光元件、电泳型光学元件、发光元件、天线等的导电性层叠体。本申请是以2020年9月4日在日本申请的日本专利申请号特愿2020
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149487、以及2021年8月9日在日本申请的日本专利申请号特愿2021
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130412为基础而主张优先权的申请，这些申请通过参照而引用于本申请。

技术介绍

[0002]导电性膜等导电性层叠体被广泛利用于显示器、触摸面板、电致变色器件等，要求为高透明且低电阻。作为导电性膜，例如广泛使用ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)膜。
[0003]但是，ITO膜虽然能够通过使用光学调整层等而使全光线透过率为88％以上的高透明，但电阻值为100Ω/
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左右，不能说是低电阻。另外，ITO膜也存在使用具有毒性的材料(铟)的问题。
[0004]因此，利用金属氧化物层等透明薄膜材料夹持金属层(例如膜厚5～30nm左右的由银或银合金构成的金属薄膜)而成的层叠型本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种导电性层叠体，其中，在透明基材的至少1面上，从所述透明基材侧起依次层叠有第一金属氧化物层、金属层和第二金属氧化物层，所述第一金属氧化物层的所述透明基材侧的界面的算术平均粗糙度为2.0nm以下。2.根据权利要求1所述的导电性层叠体，其中，所述第一金属氧化物层的所述透明基材侧的界面为所述透明基材的表面。3.根据权利要求1所述的导电性层叠体，其中，在所述透明基材与所述第一金属氧化物层之间进一步具备树脂层，所述第一金属氧化物层的所述透明基材侧的界面为所述树脂层的表面。4.根据权利要求1～3中任一项所述的导电性层叠体，其中，所述第一金属氧化物层和所述第二金属氧化物层由含有锌的氧化物或含有锌的复合金属氧化物构成。5.根据权利要求4所述的导电性层叠体，其中，所述第一金属氧化物层由所述含有锌的复合金属氧化物构成，所述含有锌的复合金属氧化物含有锌和锡，且含有10～90原子％的锡。6.根据权利要求1～5中任一项所述的导电性层叠体，其中，所述第一金属氧化物层为氧化锌锡(ZTO)，所述第二金属氧化物层为铝掺杂氧化锌(AZO)。7.根据权利要求1～3中任一项所述的导电性层叠体，其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：盐田圭右，小野行弘，手塚香织里，若生仁志，
申请(专利权)人：迪睿合株式会社，
类型：发明
国别省市：