一种修补分子筛膜的方法技术

技术编号:37382237 阅读:25 留言:0更新日期:2023-04-27 07:23
本发明专利技术属于分子筛膜修补领域,具体涉及一种修补分子筛膜的方法。所述方法采用NO2和SO2来修补分子筛膜。NO2分子在一定条件(低温或高压)下易于二聚形成N2O4,N2O4能够与SO2反应生成络合物ONONO

【技术实现步骤摘要】
一种修补分子筛膜的方法


[0001]本专利技术属于分子筛膜修补领域,具体涉及一种修补分子筛膜的方法。

技术介绍

[0002]膜分离技术作为现代主流的气体分离技术之一,在工业产品气制取、废气综合利用及环境保护等方面具有广阔的应用前景。相比于其他分离技术,其具有独特的优势:节约能源,无相变,无二次污染,操作简单,结构紧凑,维修成本低廉,容易放大,便于自动化。
[0003]沸石分子筛膜作为无机多孔膜的重要成员之一,除了具备耐高温性、抗微生物性、结构稳定性好、化学性能稳定等优点之外,还因与大多分子尺寸相近的孔道结构以及结构中的较窄孔径分布和均一孔道,具有在分子尺度上对不同动力学直径分子的分离选择性、较强的设计性与适应性。理想的分子筛膜应该是由分子筛晶体高度交联所形成的,膜上不存在任何缺陷,通过规整均一的分子筛孔道来实现分子筛膜的分子筛分和吸附作用。
[0004]然而,在实际的分子筛膜生产中,合成的分子筛膜往往难以形成均匀、连续、致密的膜层,使得其分离性能大打折扣;在实际的膜分离过程中,受分离气体冲击、腐蚀等因素影响,分子筛膜寿命普遍偏低本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种修补分子筛膜的方法,其特征在于,所述方法是将含NO2和SO2的第一混合气体通入分子筛膜膜面进行修复,清除修复后的分子筛膜上多余的酸性物质后烘干,得到修复后的分子筛膜。2.根据权利要求1所述的一种修补分子筛膜的方法,其特征在于,所述分子筛膜为分子筛主孔径小于1.2nm的无机膜;包括:十元环:MFI分子筛膜、MEL分子筛膜;八元环:AEI分子筛膜、CHA分子筛膜、LTA分子筛膜、DDR分子筛膜、RHO分子筛膜、ERI分子筛膜、AFX分子筛膜、SFW分子筛膜、RTH分子筛膜、KFI分子筛膜、ITE分子筛膜、IHW分子筛膜、ITW分子筛膜、NSI分子筛膜、LEV分子筛膜、STT分子筛膜;六元环:SOD分子筛膜。3.根据权利要求1所述的一种修补分子筛膜的方法,其特征在于,所述方法具体内容包括:对清洗后的分子筛膜置于分子筛膜固定装置中,通入所述第一混合气体,所述第一混合气体从分子筛膜固定装置进气端进入,一部分渗透分子筛膜经过出气端排出,一部分从渗余端排出;将分子筛膜烘干,得到修补后的分子筛膜。4.根据权利要求3所述的一种修补分子筛膜的方法,其特征在于,所述分子筛...

【专利技术属性】
技术研发人员:李子宜刘欣剑刘应书杨雄刘文海
申请(专利权)人:北京科技大学
类型:发明
国别省市:

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