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本发明属于分子筛膜修补领域，具体涉及一种修补分子筛膜的方法。所述方法采用NO2和SO2来修补分子筛膜。NO2分子在一定条件(低温或高压)下易于二聚形成N2O4，N2O4能够与SO2反应生成络合物ONONO
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该专利属于北京科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京科技大学授权不得商用。

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