一种基于苝四羧酸酐的聚集体材料及其制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了对一种基于苝四羧酸酐的聚集体材料及其制备方法和应用，所述聚集体材料具有特异性选择响应二氟化氧，且由构筑单元通过π

【技术实现步骤摘要】
一种基于苝四羧酸酐的聚集体材料及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及有机荧光材料
，特别的涉及一种基于苝四羧酸酐的聚集体材料及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]二氟化氧，分子式为OF2，为无色、几乎无味的剧毒气体，液化后呈淡黄色。主要用于氧化氟化反应、火箭工程液体助燃剂。吸入刺激肺和粘膜，能引起严重头痛、呼吸困难、肺出血和肺水肿症状。氧化性极强，助燃，剧毒，有极其强烈的刺激性和腐蚀性因其剧毒特性，二氟化氧的泄露会对社会安全和人类健康造成重大灾难，因此对于此剧毒物质的分析检测极为重要。
[0003]目前检测二氟化氧的检测方法还不成熟，主要以检测管测定法为主，该方法以硅胶为载体吸附溴化钾和萤光黄溶液，组成显色剂，当接触二氟化氧时，硅胶上的溴化钾便释放元素溴，进一步与萤光黄反应，立即使显色剂由黄色变为曙红色，根据检测管变色长度定量。而该方法由于受反应产物的不稳定性和环境因素影响往往不能真实反映分解产物含量状况导致检测灵敏度较差，检测速度慢等缺陷，难以满足对即时性和微量检测的要求。
[0004]近年来，有机半导体纳本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于苝四羧酸酐的聚集体材料，其特征在于，所述聚集体材料具有特异性选择响应二氟化氧，且由构筑单元通过π
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π堆积自组装聚集成微观具有纳米带的交叉网络结构；所述构筑单元的结构式如下：2.一种如权利要求1所述的构筑单元的制备方法，其特征在于，其合成路线如下：具体包括以下步骤：1)中间体化合物B的制备：取化合物A置于咪唑中加热至130℃，然后加入十三烷
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胺，反应1～2h，再依次加入无水乙醇和盐酸溶液，搅拌过夜，过滤产物收集固体，向得到的固体中加水冲洗至中性，减压旋蒸后得到中间体化合物B；2)中间体化合物D的制备：将步骤1)得到的中间体化合物B与4
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氨基苯酚置于咪唑中加热至130℃，反应1～2h，再依次加入无水乙醇和盐酸溶液，搅拌过夜，然后过滤产物收集固体，将得到的固体经过柱层析分离后即得到中间体化合物D；3)构筑单元的制备：将步骤2)得到的中间体化合物D与化合物E置于氯仿溶液中，再依次加入偶氮二羧酸二
异丙酯和三苯基膦反应1～2h，搅拌过夜，然后分液萃取，将得到的固体经过柱层析分离后即得到所述构筑单元。3.根据权利要求2所述构筑单元的制备方法，其特征在于，所述柱层析中洗脱剂为二氯甲烷/甲醇，所述二氯甲烷与甲醇的体积比为50:1～100:1。4.根据权利要求2所述构筑单元的制备方法，其特征在于，步骤1)中所述化合物A与十三烷
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【专利技术属性】
技术研发人员：程江莲，程月婷，刘婕，孙林，唐灿，汪柏伶，严庆，荣晓倩，邱先宇，
申请(专利权)人：长江师范学院，
类型：发明
国别省市：