一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置和方法，包括池壁倾斜测量固定支架、红外测距仪和固定支架底座；所述固定支架底座设置在窑炉池壁砖的外侧，所述固定支架底座上竖直固定有池壁倾斜测量固定支架；所述池壁倾斜测量固定支架上沿高度方向设置有多个红外测距仪；红外测距仪用于测量与窑炉池壁砖之间的距离。能够测量窑炉池壁砖在升温烤窑过程中池壁砖的倾斜量，进而在升温完成后进行池壁砖垂直度的修正，为熔窑液位精确、引出量精准可控提供强有力的装备保障。出量精准可控提供强有力的装备保障。出量精准可控提供强有力的装备保障。

【技术实现步骤摘要】
一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置和方法


[0001]本专利技术属于玻璃生产
，具体属于一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置和方法。

技术介绍

[0002]玻璃制品在显示领域一直有着广泛的应用，没有玻璃工业的支撑，显示器件行业的发展是无法想象的，尽管现在有了其它材料可以在部分使用场合替代玻璃材料，但仍然无法替代玻璃的卓越性能，从传统的彩色显象管工业到现在的平板显示行业，玻璃一直作为关键元器件在显示器件中起着关键作用，实际上是整个器件的框架和载体，也是光学元件，作为平板显示器件的上、下两个基板，都需要精细的微观半导体工艺加工制程，要满足高世代、超精细基板玻璃稳定生产工艺，必然要设计出一种装备精度高、稳定可靠运行的基板玻璃熔窑结构。
[0003]基板玻璃在生产制造过程中要精确控制其引出量及窑炉液面高度，这就要求窑炉与玻璃液直接接触的池壁砖要始终符合初始设计时的垂直度要求，才能精准计算和控制窑炉的液位高度，进而满足超精细高世代基板玻璃的引出量要求。
[0004]现有技术中的池壁倾斜度采用人力测量，不能满足精度要求，存在误差大的问题。

技术实现思路

[0005]为了解决现有技术中存在的问题，本专利技术提供一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置和方法，能够测量窑炉池壁砖在升温烤窑过程中池壁砖的倾斜量，进而在升温完成后进行池壁砖垂直度的修正，为熔窑液位精确、引出量精准可控提供强有力的装备保障。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
[0007]一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置，包括池壁倾斜测量固定支架、红外测距仪和固定支架底座；
[0008]所述固定支架底座设置在窑炉池壁砖的外侧，所述固定支架底座上竖直固定有池壁倾斜测量固定支架；所述池壁倾斜测量固定支架上沿高度方向设置有多个红外测距仪；红外测距仪用于测量与窑炉池壁砖之间的距离。
[0009]优选的，所述红外测距仪在窑炉池每升高150℃测量一组数据。
[0010]优选的，所述窑炉池壁砖合围形成窑炉池，窑炉池的底部设置有窑炉池底面砖。
[0011]进一步的，所述窑炉池壁砖和窑炉池底面砖均采用无缩孔电熔高锆砖，氧化锆含量为93％～95％。
[0012]优选的，所述池壁倾斜测量固定支架上设置有红外测距仪固定支座，所述红外测距仪固定在红外测距仪固定支座上。
[0013]优选的，所述红外测距仪的数量为两个，两个红外测距仪分别设置在池壁倾斜测量固定支架的顶部和底部。
[0014]优选的，所述池壁倾斜测量固定支架和红外测距仪对合围的每一个窑炉池壁砖进行倾斜度测量。
[0015]一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量方法，包括以下过程，
[0016]池壁倾斜测量固定支架上沿高度方向设置的多个红外测距仪在窑炉池壁砖的初始状态下，测量出红外测距仪与窑炉池壁砖的初始距离；
[0017]在窑炉池升温过程中，窑炉池壁砖产生倾斜，多个红外测距仪均测量与窑炉池壁砖的倾斜距离；通过计算对应红外测距仪测量的初始距离和倾斜距离计算出基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度。
[0018]优选的，在窑炉池升温过程中，红外测距仪每间隔150℃测量一次数据。
[0019]优选的，红外测距仪的数量为两个，两个红外测距仪在窑炉池壁砖的初始状态下，测量出红外测距仪与窑炉池壁砖的初始距离分别记为X1、Y1；
[0020]升温过程中，两个红外测距仪测量与窑炉池壁砖的倾斜距离记为Xn、Yn，
△
X＝Xn
‑
X1，
△
Y＝Yn
‑
Y1，
△
Z＝
△
X
‑△
Y，其中
△
X表征池壁上部膨胀量，
△
Y表征池壁下端升温过程膨胀量，
△
Z表征池壁升温过程中的倾斜度，通过测量最终池壁的倾斜量来进行池壁顶紧机构的调节量。
[0021]与现有技术相比，本专利技术具有以下有益的技术效果：
[0022]本专利技术提供一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置，通过多个红外测距仪在窑炉池壁砖的初始状态下，测量出红外测距仪与窑炉池壁砖的初始距离，窑炉池壁砖产生倾斜，多个红外测距仪均测量与窑炉池壁砖的倾斜距离；通过计算对应红外测距仪测量的初始距离和倾斜距离计算出基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度。本专利技术所设计的测量窑炉池壁砖倾斜度的方法准确可靠、低成本且具备可重复性，可根据测量监测结果对升温完成后热态下的池壁状态进行及时准备的恢复修正，确保了基板玻璃熔窑的液位稳定、引出量精确可控，为高世代、超精细基本玻璃的稳定生产提供装备材料保障，进而进行升温完成后池壁砖的垂直度修正。
附图说明
[0023]图1为基板玻璃熔窑池壁初始状态测量示意图；
[0024]图2为基板玻璃熔窑池壁升温过程倾斜度测量示意图；
[0025]附图中：1为窑炉池壁砖，2为池壁倾斜测量固定支架，3为红外测距仪，4为固定支架底座，5为窑炉池底面砖，6为红外测距仪固定支座。
具体实施方式
[0026]下面结合具体的实施例对本专利技术做进一步的详细说明，所述是对本专利技术的解释而不是限定。
[0027]实施例
[0028]本专利技术涉及一种测量基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度的方法及装置，此方法为了测量窑炉池壁砖在升温烤窑过程中池壁砖的倾斜量，进而在升温完成后进行池壁砖垂直度的修正，为熔窑液位精确、引出量精准可控提供强有力的装备保障。
[0029]如图1和图2所示，本专利技术的一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置，包
括窑炉池壁砖1、池壁倾斜测量固定支架2、红外测距仪3、固定支架底座4、窑炉池底面砖5、红外测距仪固定支座6。
[0030]固定支架底座4设置在窑炉池壁砖1的外侧，所述固定支架底座4上竖直固定有池壁倾斜测量固定支架2；所述池壁倾斜测量固定支架2上沿高度方向设置有多个红外测距仪3；红外测距仪3用于测量与窑炉池壁砖1之间的距离。
[0031]窑炉池壁砖1合围形成窑炉池，窑炉池的底部设置有窑炉池底面砖5。窑炉池壁砖1和窑炉池底面砖5均采用无缩孔电熔高锆砖，氧化锆含量为93％～95％。
[0032]池壁倾斜测量固定支架2上设置有红外测距仪固定支座6，所述红外测距仪3固定在红外测距仪固定支座6上。本实施例中优选红外测距仪3的数量为两个，两个红外测距仪3分别设置在池壁倾斜测量固定支架2的顶部和底部，形成上下两个监测点。
[0033]为了保障窑炉升温过程池壁砖的测量数据准确可靠，本专利技术设计了测量倾斜量时放置红外测距仪3的池壁倾斜测量固定支架2，且每次测量时固定支架底座4的位置固定，上下两个监测点位置固定，具备重复测量可复制性。
[0034]为了保障窑炉升温过程池壁砖的测量数据准确可靠，本专利技术在熔窑烤窑升温过程中每150℃测量一组数据，直至升温烤窑结束。
[003本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置，其特征在于，包括池壁倾斜测量固定支架(2)、红外测距仪(3)和固定支架底座(4)；所述固定支架底座(4)设置在窑炉池壁砖(1)的外侧，所述固定支架底座(4)上竖直固定有池壁倾斜测量固定支架(2)；所述池壁倾斜测量固定支架(2)上沿高度方向设置有多个红外测距仪(3)；红外测距仪(3)用于测量与窑炉池壁砖(1)之间的距离。2.根据权利要求1所述的一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置，其特征在于，所述红外测距仪(3)在窑炉池每升高150℃测量一组数据。3.根据权利要求1所述的一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置，其特征在于，所述窑炉池壁砖(1)合围形成窑炉池，窑炉池的底部设置有窑炉池底面砖(5)。4.根据权利要求3所述的一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置，其特征在于，所述窑炉池壁砖(1)和窑炉池底面砖(5)均采用无缩孔电熔高锆砖，氧化锆含量为93％～95％。5.根据权利要求1所述的一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置，其特征在于，所述池壁倾斜测量固定支架(2)上设置有红外测距仪固定支座(6)，所述红外测距仪(3)固定在红外测距仪固定支座(6)上。6.根据权利要求1所述的一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置，其特征在于，所述红外测距仪(3)的数量为两个，两个红外测距仪(3)分别设置在池壁倾斜测量固定支架(2)的顶部和底部。7.根据权利要求1所述的一种基板玻璃窑炉升温过程池壁倾斜度测量装置，其特征在于，所述池壁倾斜测量固定支架(2)和红外测距仪(3)对合围的每一个窑炉池壁砖(1)进行...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵龙江，杨国洪，张峰，杨威，
申请(专利权)人：彩虹显示器件股份有限公司，
类型：发明
国别省市：