一种复合式MEMS真空规及其制作方法技术

技术编号:37361714 阅读:28 留言:0更新日期:2023-04-27 07:10
本申请涉及真空计量技术领域,具体而言,涉及一种复合式MEMS真空规及其制作方法,所示真空规包括MEMS电容薄膜真空规和MEMS皮拉尼真空规,其中:电容薄膜真空规和皮拉尼真空规设置在同一硅基底上;电容薄膜真空规包括真空参考腔和电容间隙,真空参考腔与电容间隙之间的硅基底上设置有感压薄膜,电容间隙内设置有固定电极;皮拉尼真空规包括承载膜、压敏电阻、引出电极以及参考电阻,承载膜设置在硅基底上,下方设置有腔体,压敏电阻设置在承载膜上,引出电极和参考电阻均设置在硅基底上,压敏电阻和参考电阻均与引出电极连接。本申请结合MEMS电容薄膜真空规和MEMS皮拉尼真空规,采用一个传感器就可以同时精确测量待测气体的真空压力和待测气体的种类。空压力和待测气体的种类。空压力和待测气体的种类。

【技术实现步骤摘要】
一种复合式MEMS真空规及其制作方法


[0001]本申请涉及真空计量
,具体而言,涉及一种复合式MEMS真空规及其制作方法。

技术介绍

[0002]电容式真空规具有精度高、线性度好、重复性好、长期稳定性好等特点。它可以测量气体或蒸汽的总压力,测量结果与气体成分和类型无关。皮拉尼真空规具有制作简单,压力测量结果与气体成分相关的特点。这两种真空规同时使用,可以利用电容真空规的特点获得待测气体的精确压力,而利用皮拉尼真空规可以分辨待测气体的成分,这种组合可以实现气体的精确压力测量以及定性测量,对于单一气体,可以实现质谱计的测量效果。微机电系统(MEMS)技术的发展使电容式真空规和皮拉尼真空规能够集成在同一芯片上,实现微小化和集成化。

技术实现思路

[0003]本申请提供了一种复合式MEMS真空规及其制作方法,能够实现1

105Pa范围内绝对真空度的测量,同时能够分辨待测气体的种类。
[0004]为了实现上述目的,本申请提供了一种复合式MEMS真空规,包括MEMS电容薄膜真空规和MEMS皮拉尼真空规,其本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种复合式MEMS真空规,其特征在于,包括MEMS电容薄膜真空规和MEMS皮拉尼真空规,其中:所述MEMS电容薄膜真空规和所述MEMS皮拉尼真空规设置在同一硅基底上;所述MEMS电容薄膜真空规包括真空参考腔和电容间隙,所述真空参考腔与所述电容间隙之间的硅基底上设置有感压薄膜,所述电容间隙内设置有固定电极;所述MEMS皮拉尼真空规包括承载膜、压敏电阻、引出电极以及参考电阻,所述承载膜设置在硅基底上,下方设置有腔体,所述压敏电阻设置在所述承载膜上,所述引出电极和所述参考电阻均设置在硅基底上,所述压敏电阻和所述参考电阻相互连接,所述压敏电阻和所述参考电阻均与所述引出电极连接。2.根据权利要求1所述的复合式MEMS真空规,其特征在于,所述真空参考腔由上盖玻璃和硅基底在高真空环境下通过阳极键合形成。3.根据权利要求1所述的复合式MEMS真空规,其特征在于,所述MEMS电容薄膜真空规还包括固定电极引出焊盘和薄膜电极引出焊盘,用于引出电容信号。4.根据权利要求1所述的复合式MEMS真空规,其特征在于,所述参考电阻上方设置有电阻覆盖玻璃,所述电阻覆盖玻璃与硅基底进行阳极键合。5.根据权利要求1所述的复合式MEMS真空规,其特征在于,还包括基底玻璃,所述基底玻璃设置在硅基底下方,与硅基底进行阳极键合。6.根据权利要求1所述的复合式MEM...

【专利技术属性】
技术研发人员:李刚李得天张虎忠成永军孙雯君郭美如任正宜葛金国赵澜陈会颖
申请(专利权)人:兰州空间技术物理研究所
类型:发明
国别省市:

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