一种非溶剂型水性粘土类清缸助剂、制备方法及其应用技术

本发明专利技术提供了一种非溶剂型水性粘土类清缸助剂、制备方法及其应用，包括5％～20％粘土吸附剂，10％～15％表面活性剂，5％～10％螯合分散剂和水。该助剂为液体产品，不含溶剂，包装、运输方便、也适用于染厂的自动投料系统，使用方便，适用于间歇式液流染色机或间歇式气流染色机或纱线染色机的缸体清洗工艺；该助剂对工作环境、人体健康友好，无易燃易爆等安全生产隐患，不易受海外化学品法规限制；不仅对染料、涤纶低聚物等污物的清洗效果好，还对油污、无机盐、浆料的清洗效果好。浆料的清洗效果好。浆料的清洗效果好。

【技术实现步骤摘要】
一种非溶剂型水性粘土类清缸助剂、制备方法及其应用


[0001]本专利技术涉及染色机清洗
，尤其涉及一种非溶剂型水性粘土类清缸助剂、制备方法及其应用。

技术介绍

[0002]随着纺织印染技术的飞速发展，每年有大量的新型织物被生产销售，随之而来对染整技术、设备提出了更新、更高的要求。织物上附着的化学药剂也越来越多、越来越复杂。
[0003]在印染加工中，染色机的应用场景最广泛，适用的织物种类也最多，使用染色机的生产过程中遇到的问题也最多。其中很大一部分原因是染色机缸体内残留污物所引起的。常见的问题有：织造油污、后整理助剂残留的积累反沾出现的油斑油点；残留浆料的积累反沾出现的浆料斑点以及浆料脱落后的浅色斑点；染料以及染料拼混物的积累反沾出现的色斑、色点、焦油状斑点；涤纶低聚物的积累及反沾出现的影斑、条纹；水垢、无机盐残留引起的织物纤维损伤。实际生产过程中，染色机缸体由于以上几种残留污物的共同作用，还会出现缸体导热不良，设备的热效率下降，严重的会出现升温极其缓慢的情况，浪费了宝贵的能源。
[0004]所以保持缸体持续稳定的清洁，有助于提高印染加工的一次成功率、保证成品织物的品质；保持设备的良好的使用状态，减少能源的浪费。
[0005]基于以上因素考虑，使用染色机清缸助剂是非常有必要的。常规的清缸剂有以下几类：1，溶剂型清缸助剂，优点：可有效溶解油污、染料、涤纶低聚物等难溶性污物，对染色机缸体清洁度高；缺点：溶剂的挥发性对工作环境、人体健康有不利影响；自身易燃易爆的特点，使其成为安全生产的隐患；且容易受到海外化学品法规限制，因而逐渐被完全淘汰了。2，酸性清缸助剂，主要是使用强酸配合乳化剂的组合，优点：对水垢等无机物溶解性好，对油污有一定的乳化分散效果；缺点：对低聚物、浆料等污物无清洗效果，且强酸对染色机缸体有一定腐蚀性，影响设备的使用寿命，此类清缸助剂也逐渐被淘汰出市场。3，水性活性剂类清缸助剂，是目前市场上的主流清洗产品，优点：对油污、无机盐、浆料等污物有良好的清洗效果，且无溶剂的问题；缺点：对染料污物、低聚物的清洗分散力不足，需要频次较高的缸体清洗工作，影响生产效率。
[0006]为了解决上述技术问题，故提供了一种非溶剂型水性粘土类清缸助剂。

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的在于提供一种非溶剂型水性粘土类清缸助剂、制备方法及其应用，从而解决现有技术中存在的前述问题。
[0008]为了实现上述目的，本专利技术采用的技术方案如下：
[0009]一种非溶剂型水性粘土类清缸助剂，按重量百分比计，包括：
[0010][0011]优选的，所述粘土吸附剂为高岭土、硅藻土、膨润土、凹凸棒土的一种或者两种以上混合物；所述表面活性剂为非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂的一种或两种的混合；所述螯合分散剂为柠檬酸钠、葡萄糖酸钠、乙二胺四乙酸(EDTA)、二乙基三胺五乙酸(DTPA)、氮川三乙酸(NTA)、ATMP(氨基三甲叉膦酸)、EDTMPA(乙二胺四甲叉膦酸)、HEDP(羟基乙叉二膦酸)、DTPMPA(二乙烯三胺五甲叉膦酸)、GLDA(谷氨酸二乙酸)、MGDA(二羧甲基丙氨酸)、丙烯酸与丙烯酰胺的共聚物、聚丙烯酸、聚马来酸、聚马来酸丙烯酸、改性聚丙烯酸、聚环氧琥珀酸、聚天冬氨酸中的一种或两种以上的混合。
[0012]优选的，所述非离子表面活性剂为碳链长为C8～C18的烷基聚氧乙烯醚、碳链长为C8～C18的烷基聚氧丙烯聚氧乙烯醚、C8～C18的醇胺聚氧乙烯醚、烷基糖苷、苯乙烯基苯酚聚氧乙烯醚、脂肪酸酯聚氧乙烯醚、多元醇型表面活性剂中的一种或两种以上的混合；
[0013]所述阴离子表面活性剂为烷基磺酸盐、烷基苯磺酸盐、脂肪醇醚羧酸盐、脂肪酸甲酯磺酸钠、脂肪酸酯聚氧乙烯醚磺酸盐中的一种或两种以上的混合；
[0014]所述阳离子表面活性剂为碳链长为C12～C18的烷基胺，碳链长为C12～C18的烷基三甲胺季铵盐，碳链长为C12～C18的二烷基二甲胺季铵盐的一种或者两种以上的混合。
[0015]第二方面，本专利技术提供了一种非溶剂型水性粘土类清缸助剂的制备方法，包括以下步骤：
[0016]在混合器中，依次加入粘土吸附剂、表面活性剂、螯合分散剂以及水，混合60min～120min到均匀，得到液体产品。
[0017]第三方面，本专利技术提供了一种非溶剂型水性粘土类清缸助剂在清洗染色机缸体的应用。
[0018]优选的，非溶剂型水性粘土类清缸助剂在清洗染色机缸体的应用，用于间歇式液流染色机缸体的清洗，包括以下步骤：
[0019]1)采用浴比1：5～1:15，在25℃～60℃下清洗缸体用织物、按比例配置好的染色机缸体清洗加工液加入间歇式液流染色机中；其中，所述染色机缸体清洗加工液是由氢氧化钠1～3g/L；连二亚硫酸钠3～8g/L；非溶剂型水性粘土类清缸助1～4g/L配置完成；
[0020]2)设置参数，以1～2℃/min升温至90℃～130℃，保温运行45～90min，排水；
[0021]3)清水洗净。
[0022]优选的，非溶剂型水性粘土类清缸助剂在清洗染色机缸体的应用，用于间歇式气流染色机缸体的清洗，包括以下步骤：
[0023]1)采用浴比1：3～1:8，在25℃～60℃下将清洗缸体用织物、按比例配置好的染色机缸体清洗加工液加入高温高压溢流染色机中；其中，所述染色机缸体清洗加工液是由氢氧化钠2～6g/L；连二亚硫酸钠5～10g/L；非溶剂型水性粘土类清缸助2～10g/L配置完成；
[0024]2)设置参数，以2～3℃/min升温至90℃～130℃，保温运行45～90min，排水；
[0025]3)清水洗净。
[0026]优选的，非溶剂型水性粘土类清缸助剂在清洗染色机缸体的应用，用于纱线染色机缸体的清洗，包括以下步骤：
[0027]1)采用浴比1：5～1:15，在25℃～60℃下将清洗缸体用，按比例配置好的染色机缸体清洗加工液加入高温高压筒纱染色机中；其中，所述染色机缸体清洗加工液是由氢氧化钠1～3g/L、连二亚硫酸钠3～8g/L和非溶剂型水性粘土类清缸助1～4g/L配置完成；
[0028]2)设置参数，以2～3℃/min升温至90℃～130℃，保温运行45～90min，排水；
[0029]3)清水洗净。
[0030]更优选的，步骤3)中清水洗净的过程具体包括：60～80℃热水洗20～30min，排水；冷水洗净，排水。
[0031]本专利技术的有益效果是：
[0032]本专利技术提供了一种非溶剂型水性粘土类清缸助剂、制备方法及其应用，该助剂为液体产品，不含溶剂，包装、运输方便、也适用于染厂的自动投料系统，使用方便，适用于间歇式液流染色机或间歇式气流染色机或纱线染色机的缸体清洗工艺；该助剂对工作环境、人体健康友好，无易燃易爆等安全生产隐患，不易受海外化学品法规限制；不仅对染料、涤纶低聚物等污物的清洗效果好，还对油污、无机盐、浆料的清洗效果好。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种非溶剂型水性粘土类清缸助剂，其特征在于，按重量百分比计，包括：粘土吸附剂：5％～20％表面活性剂：10％～15％螯合分散剂：5％～10％剩余为水。2.根据权利要求1所述的非溶剂型水性粘土类清缸助剂，其特征在于，所述粘土吸附剂为高岭土、硅藻土、膨润土、凹凸棒土的一种或者两种以上混合物；所述表面活性剂为非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂的一种或两种的混合；所述螯合分散剂为柠檬酸钠、葡萄糖酸钠、乙二胺四乙酸(EDTA)、二乙基三胺五乙酸(DTPA)、氮川三乙酸(NTA)、ATMP(氨基三甲叉膦酸)、EDTMPA(乙二胺四甲叉膦酸)、HEDP(羟基乙叉二膦酸)、DTPMPA(二乙烯三胺五甲叉膦酸)、GLDA(谷氨酸二乙酸)、MGDA(二羧甲基丙氨酸)、丙烯酸与丙烯酰胺的共聚物、聚丙烯酸、聚马来酸、聚马来酸丙烯酸、改性聚丙烯酸、聚环氧琥珀酸、聚天冬氨酸中的一种或两种以上的混合。3.根据权利要求2所述的非溶剂型水性粘土类清缸助剂，其特征在于，所述非离子表面活性剂为碳链长为C8～C18的烷基聚氧乙烯醚、碳链长为C8～C18的烷基聚氧丙烯聚氧乙烯醚、C8～C18的醇胺聚氧乙烯醚、烷基糖苷、苯乙烯基苯酚聚氧乙烯醚、脂肪酸酯聚氧乙烯醚、多元醇型表面活性剂中的一种或两种以上的混合；所述阴离子表面活性剂为烷基磺酸盐、烷基苯磺酸盐、脂肪醇醚羧酸盐、脂肪酸甲酯磺酸钠、脂肪酸酯聚氧乙烯醚磺酸盐中的一种或两种以上的混合；所述阳离子表面活性剂为碳链长为C12～C18的烷基胺，碳链长为C12～C18的烷基三甲胺季铵盐，碳链长为C12～C18的二烷基二甲胺季铵盐的一种或者两种以上的混合。4.权利要求1
‑
3任一所述的非溶剂型水性粘土类清缸助剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在混合器中，依次加入粘土吸附剂、表面活性剂、螯合分散剂以及水，混合60min～120min到均匀，得到液体产品。5.权利要求1
‑
3任一所述的非溶剂型水性粘土类清缸...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴俊毅，徐鹏，曹菡，张萌，阮迪，
申请(专利权)人：上海拓纳化学新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：