动态镀膜装置及其动态镀膜方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种动态镀膜装置及其动态镀膜方法，动态镀膜装置包括控制模块及沿第一方向依次排布的缓冲腔、过渡腔及镀膜腔，过渡腔包括至少三个检测元件，相邻两个检测元件限定出一过渡区间，过渡区间内设有一驱动机构，驱动机构具有工艺速度、传动速度及极限速度；控制模块与检测元件、驱动机构通信连接，用于在靠近镀膜腔的检测元件检测到前一基片远离镀膜腔的尾部离开时控制驱动机构加速至传动速度，且靠近镀膜腔的检测元件检测到后一基片靠近镀膜腔的头部开始离开时控制驱动机构降速至工艺速度；多次追赶的加速度和传动速度较小，降低基片碎片率，缩短相邻基片的间距，实现20mm以下间距连续镀膜，减少靶材浪费，提升镀膜工艺稳定性及产品良率。膜工艺稳定性及产品良率。膜工艺稳定性及产品良率。

【技术实现步骤摘要】
动态镀膜装置及其动态镀膜方法


[0001]本专利技术涉及真空镀膜
，特别是涉及一种动态镀膜装置及其动态镀膜方法。

技术介绍

[0002]动态镀膜是一种多个基片在线连续运动进行镀膜的方式，基片以一个固定的工艺速度匀速地进入镀膜腔室，并在镀膜腔室内完成物理气相沉积、化学气相沉积等沉积操作。
[0003]目前，常规动态镀膜装置包括进端锁腔、缓冲腔、过渡腔、镀膜腔、过渡腔、缓冲腔，以及出端锁腔，上述腔呈线性排布，该线性排布称inline式结构。第二基片从进端锁腔传输至缓冲腔室后，缓冲腔室抽真空至设定压力，在过渡腔室的第一基片以工艺速度进入镀膜腔室后时，第二基片进入过渡腔室一次加速后以上限速度追赶第一基片，并以工艺速度离开过渡腔室，此时第一基片和第二基片之间的距离最小且并不接触。但是当动态镀膜装置的产能要求较高时，基片的工艺速度随之提高，而过渡腔室的上限速度受限于基片的传动稳定性和机械配置，一般上限速度约40m/min、工艺走速为4m/min，过渡腔室的长度略大于基片长度(2m)，两个基片所在托盘间的间距最小只能保证到200mm，很明显难以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种动态镀膜装置，用于连续镀膜多个基片，其特征在于，包括控制模块及沿第一方向依次排布的缓冲腔、过渡腔及镀膜腔，其中：所述过渡腔包括沿所述第一方向排布的至少三个检测元件，其中，一个检测元件靠近所述缓冲腔设置,用于检测基片是否进入过渡腔中，剩余检测元件靠近所述镀膜腔设置，用于检测所述基片信息以便反馈追赶信号，且相邻两个所述检测元件限定出一过渡区间，所述过渡区间内设有驱动机构，所述驱动机构具有可调的传动速度，且所述传动速度不小于基片在镀膜腔中工艺速度，以便实现相邻基片之间的追赶操作；所述控制模块与所述检测元件、所述驱动机构通信连接，用于在靠近所述镀膜腔的检测元件检测到前一基片的尾部离开时，控制所述驱动机构加速至所述传动速度，且上述检测元件检测到后一基片的头部时，控制所述驱动机构降速至工艺速度；后一基片执行多次追赶行程后与前一基片之间固定间距在所述镀膜腔进行镀膜操作。2.根据权利要求1所述的动态镀膜装置，其特征在于，沿所述第一方向，多个所述过渡区间的长度逐渐减小。3.根据权利要求1所述的动态镀膜装置，其特征在于，沿所述第一方向，相邻两个所述过渡区间中,远离所述镀膜腔的前一过渡区间的传动速度大于等于靠近所述镀膜腔的后一过渡区间的传动速度。4.根据权利要求1所述的动态镀膜装置，其特征在于，所述过渡腔包括第一腔室及第二腔室，所述第一腔室靠近所述缓冲腔，且与所述第二腔室沿所述第一方向连接为一体，所述第一腔室沿所述第一方向的两端分别设有一所述检测元件，所述第二腔室内设有至少一所述检测元件，且一所述检测元件设于所述第二腔...

【专利技术属性】
技术研发人员：张永胜，解传佳，武瑞军，彭孝龙，杨肸曦，
申请(专利权)人：苏州迈为科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：