一种电池片及使用其的太阳能电池组件制造技术

技术编号:37321874 阅读:25 留言:0更新日期:2023-04-21 23:01
本发明专利技术提供一种电池片及使用其的太阳能电池组件,所述电池片包括电池片衬底和表面膜结构,所述表面膜结构包括所述电池片衬底的正面依次沉积的高折射率膜、中折射率膜和低折射率膜,所述各层膜的厚度关系为由内向外逐渐增厚,各层膜的折射率关系为由内向外逐渐降低,且中折射率膜的折射率的平方等于电池片衬底的折射率,低折射率膜的折射率与高折射率膜的折射率的乘积等于电池片衬底的折射率。本发明专利技术的电池片可以解决太阳能电池膜色发蓝的问题,使其做出的太阳能电池在组件层压后膜色发黑,大大提高市场需求,同时底层膜的折射率高,提高了组件的抗PID性能。高了组件的抗PID性能。高了组件的抗PID性能。

【技术实现步骤摘要】
一种电池片及使用其的太阳能电池组件


[0001]本专利技术属于太阳能电池
,涉及一种电池片及使用其的太阳能电池组件。

技术介绍

[0002]太阳能因其无污染和可再生等特点已逐渐被各行各业所利用,最典型就是光伏行业。近几年,光伏行业中的BIPV(光伏建筑一体化)迅速发展,黑色的太阳能组件因其符合大众的审美,要求广泛用于居民屋顶。
[0003]目前主流的晶硅电池制造工艺所制备的太阳能电池在组件层压后膜色发蓝,无法满足人们对组件外观审美要求,急迫需要改变现有电池片的正膜结构,使之层压后膜色发黑,来满足市场需求。
[0004]CN211654833U公开了一种用于制备黑组件太阳能电池的正膜结构,包括电池片,所述电池片的正面依次沉积有高折射率氮氧化硅膜、氮化硅膜、低折射率氮氧化硅膜、氧化硅膜,氮化硅膜包括下层氮化硅膜、中层氮化硅膜、上层氮化硅膜,其中,氮化硅膜中各层膜的厚度关系为由内向外逐渐增厚,各层膜的折射率关系为由内向外逐渐降低。虽然其能够使得所制备的太阳能电池在组件层压后膜色发黑,但是其膜层设计较为复杂。<br/>[0005]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电池片,其特征在于,包括电池片衬底和表面膜结构,所述表面膜结构包括所述电池片衬底的正面依次沉积的高折射率膜、中折射率膜和低折射率膜,所述各层膜的厚度关系为由内向外逐渐增厚,各层膜的折射率关系为由内向外逐渐降低,且中折射率膜的折射率的平方等于电池片衬底的折射率。2.根据权利要求1所述的电池片,其特征在于,所述高折射率膜的厚度为16

34nm,中折射率膜的厚度为23

40nm,低折射率膜的厚度为26

52nm。3.根据权利要求1或2所述的电池片,其特征在于,所述高折射率膜、中折射率膜和低折射率膜的总厚度为70

120nm。4.根据权利要求1

3中任一项所述的电池片,其特征在于,所述高折射率膜为折射率2.30

2.69的膜,所述中折射率膜为折射率1.90

2.05的膜,所述低折射率膜为折射率为...

【专利技术属性】
技术研发人员:曹芳
申请(专利权)人:苏州阿特斯阳光电力科技有限公司阿特斯阳光电力集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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