【技术实现步骤摘要】
一种复合导体封装方法及系统
[0001]本专利技术涉及导体封装
,尤其是涉及一种复合导体封装方法及系统。
技术介绍
[0002]超导材料具有零电阻特性,完全抗磁性和通量量子化等常规材料没有的物理特性,在电力、医疗、交通运输等前沿领域有着不可替代的作用。近年来,随着高温超导材料制备技术的不断进步,目前单根超导带材自场下的临界电流可以达到200
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300A,为应用超导技术的发展奠定了基础。
[0003]但是,随着人们对大载流电力装置需求的逐渐增加,单根超导带材的载流量已经不能满足实际应用的需要。而且,一般复合导体或者需要激光切割、导体质量要求高、制作工艺难度大或者制作工艺相对简单,但因大载流堆叠厚度较大只能缠绕在半径较大的圆柱体上。因此,亟需一种复合导体封装方法,既可简化封装流程,同时提高复合导体的电流密度、机械强度,保证复合导体的质量。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的是提供一种复合导体封装方法及系统,解决复合导体封装工艺复杂,难度大的问题,以实现复合导体封装工艺简单可靠,使复合导体电流密度高、机械强度高。
[0005]本专利技术提供了一种复合导体封装方法,包括:获取导体材料的临界电流,确定复合导体的额定电流与所述临界电流的电流比值,并基于所述电流比值确定所述导体材料层数;根据所述导体材料层数将导体材料进行堆叠,形成堆叠结构;设定复合导体的目标临界电流,根据所述目标临界电流确定所述堆叠结构的扭转节距,并将扭转后的导体材料放入金属骨架内;获取工频电压和冲击 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种复合导体封装方法,其特征在于,包括:获取导体材料的临界电流,确定复合导体的额定电流与所述临界电流的电流比值,并基于所述电流比值确定所述导体材料层数;根据所述导体材料层数将导体材料进行堆叠,形成堆叠结构;设定复合导体的目标临界电流,根据所述目标临界电流确定所述堆叠结构的扭转节距,并将扭转后的导体材料放入金属骨架内;获取工频电压和冲击电压,根据所述工频电压和冲击电压确定绝缘层厚度,并根据所述绝缘层厚度将绝缘层设置于所述金属骨架外侧;在所述绝缘层上安装保护层,得到封装后的复合导体。2.根据权利要求1所述的一种复合导体封装方法,其特征在于,所述导体材料通过焊锡法进行封装;所述导体材料之间、导体材料与金属骨架之间、金属骨架与绝缘层之间填充有焊锡,用压力使焊锡融化后充分填满复合导体内部的空隙。3.根据权利要求1所述的一种复合导体封装方法,其特征在于,预设电流比值矩阵E0和导体材料层数矩阵N0,对于所述预设电流比值矩阵E0,设定E0(E1,E2,E3,E4),其中,E1为第一预设电流比值,E2为第二预设电流比值,E3为第三预设电流比值,E4为第四预设电流比值,且E1<E2<E3<E4;对于所述导体材料层数矩阵N0,设定N0(N1,N2,N3,N4),其中,N1为第一预设导体材料层数,N2为第二预设导体材料层数,N3为第三预设导体材料层数,N4为第四预设导体材料层数,且N1<N2<N3<N4;获取电流比值e,根据所述电流比值e与各预设电流比值之间的关系设定所述导体材料层数;当e<E1时,设定所述第一预设导体材料层数N1作为所述导体材料层数;当E1≤e<E2时,设定所述第二预设导体材料层数N2作为所述导体材料层数;当E2≤e<E3时,设定所述第三预设导体材料层数N3作为所述导体材料层数;当E3≤e<E4时,设定所述第四预设导体材料层数N4作为所述导体材料层数。4.根据权利要求1所述的一种复合导体封装方法,其特征在于,预设目标临界电流矩阵C0和扭转节距矩阵P0,对于所述预设目标临界电流矩阵C0,设定C0(C1,C2,C3,C4),其中,C1为第一预设目标临界电流,C2为第二预设目标临界电流;C3为第三预设目标临界电流;C4为第四预设目标临界电流,且C1<C2<C3<C4;对于所述扭转节距矩阵P0,设定P0(P1,P2,P3,P4),其中,P1为第一扭转节距,P2为第二扭转节距,P3为第三扭转节距,P4为第四扭转节距,且P1<P2<P3<P4;获取复合导体的目标临界电流c,根据所述目标临界电流c与各预设目标临界电流之间的关系设定所述堆叠结构的扭转节距;当c<C1时,设定所述第一扭转节距P1作为所述堆叠结构的扭转节距;当C1≤c<C2时,设定所述第二扭转节距P2作为所述堆叠结构的扭转节距;当C2≤c<C3时,设定所述第三扭转节距P3作为所述堆叠结构的扭转节距;当C3≤c<C4时,设定所述第四扭转节距P4作为所述堆叠结构的扭转节距。5.根据权利要求1所述的一种复合导体封装方法,其特征在于,
预设工频电压矩阵A0和根据所述工频电压确定的绝缘层厚度Ⅰ矩阵T0,对于所述预设工频电压矩阵A0,设定A0(A1,A2,A3,A4),其中,A1为第一工频电压,A2为第二工频电压,A3为第三工频电压,A4为第四工频电压,且A1<A2<A3<A4;对于所述绝缘层厚度Ⅰ矩阵T0,设定T0(T1,T2,T3,T4),其中...
【专利技术属性】
技术研发人员:戴少涛,伍锐,曾智斌,马韬,胡磊,
申请(专利权)人:江西联创光电科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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