【技术实现步骤摘要】
一种FCBGA封装基板的制备方法
[0001]本专利技术涉及半导体集成电路
,特别是涉及一种FCBGA封装基板的制备方法。
技术介绍
[0002]随着各类电子产品向高性能、多功能、轻且薄、高可靠性的方向发展,作为半导体集成电路中的重要组成部分,人们对FCBGA封装基板的设计要求也越来越高,但FCBGA封装基板制造工艺复杂,生产工序多,且每个工序之间关联密切并互相影响,尤其在进行层间导通时大量运用的微孔技术由于线路设计比较精细且焊盘较小等原因,从而会影响对位精度的准确性进而影响产品质量。
[0003]目前,在FCBGA封装基板制造工艺中,常用的曝光工序是使用LDI曝光机对FCBGA封装基板进行曝光。其曝光原理为:使用与预设线路图形一致的图形资料,等待LDI曝光机中的摄相机识别抓取靶标完成对位以后,再将线路图形以激光束的形式直接投射在涂有光致抗蚀剂的线路板上,从而实现图形转移。但在上述曝光工序中,需要摄相机摄取并精准识别靶标的相对位置,实现精准对位从而确保待曝光区域与预设线路图形的结构一致,通常的对位方式为:一般先 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种FCBGA封装基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:提供芯板,所述芯板包括第一介电层及位于所述第一介电层相对两面的芯板铜箔层,于所述芯板铜箔层上预设多个靶标中点,对所述芯板铜箔层进行图形化操作并在所述芯板铜箔层上形成多个定位pad;于图形化后的所述芯板铜箔层压合第二介电层;于所述第二介电层上形成第一激光孔,且以所述第一激光孔的圆心到所述靶标中点的距离为绕打半径形成环状绕打路径,并沿所述绕打路径依次形成第二激光孔
……
第N激光孔,且所述第一激光孔
……
所述第N激光孔共同形成环状孔阵靶标,其中,N大于或等于2;去除残留胶渣;于所述第二介电层上形成与所述芯板铜箔层电连接的图形化的金属连接层,所述金属连接层包括种子层及金属层。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述第一激光孔
……
第N激光孔均为盲孔且所述盲孔贯穿所述第二介电层至所述芯板铜箔层。3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述第一激光孔
……
第N激光孔的直径为0.2mm~0.3mm。4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘江,宋景勇,冯后乐,黄日新,蒋宗秋,张文轩,
申请(专利权)人:上海美维科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。