一种具有双功能的光敏聚酰亚胺前体材料及其制备方法与在光刻中的应用技术

本发明专利技术提供了一种具有双功能的光敏聚酰亚胺前体材料及其制备方法与在光刻中的应用。本发明专利技术的具有双功能的光敏聚酰亚胺前体材料，是通过二胺与二酐聚合得到前驱体PAA聚合物，然后与具有疏水且可交联基团的化和物酯化反应得到。本发明专利技术的聚酰亚胺材料可以用于正性光刻胶和负性光刻胶，将其与不同的光敏剂、添加剂等进行混合进行涂膜、显影、曝光，得到分辨率良好的图案化聚酰亚胺薄膜。良好的图案化聚酰亚胺薄膜。

【技术实现步骤摘要】
一种具有双功能的光敏聚酰亚胺前体材料及其制备方法与在光刻中的应用


[0001]本专利技术涉及一种具有双功能的光敏聚酰亚胺前体材料及其制备方法与在光刻中的应用，属于高分子感光成像


技术介绍

[0002]聚酰亚胺(Polyimides，PI)是20世纪50年代为了满足航空航天对于耐热、轻质和高强材料的需求所发展起来的高性能高分子材料，它将高分子材料的使用温度提高到200℃以上。聚酰亚胺单体来源丰富、合成途径多样，显示出优异的结构和性能的可设计性以及灵活的成型加工性，已在电力电气、印制电路、新型显示以及能源转换等诸多领域获得广泛应用。由在早期的半导体工业中，聚酰亚胺的图案化借助光刻胶实现，即在聚酰亚胺表面涂覆一层光刻胶，将其光刻形成图案后，再利用化学蚀刻等方法处理底层聚酰亚胺，从而将光刻胶的图案转移至聚酰亚胺层。为简化聚酰亚胺的图案化制作过程，研究人员赋予聚酰亚胺光敏性，即合成光敏性聚酰亚胺(PSPI)，利用光刻技术直接将图形制作到光敏性聚酰亚胺层，实现其自图案化。因此，光敏性聚酰亚胺兼有光刻胶和介电绝缘层的功能./>[0003]PS本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有双功能的光敏聚酰亚胺前体材料，其特征在于，该光敏聚酰亚胺前体材料是由二胺和二酐经聚合得到前驱体PAA聚合物，然后再与具有疏水且可交联基团的化合物进行酯化反应所得。2.根据权利要求1所述具有双功能的光敏聚酰亚胺前体材料，其特征在于，所述二胺为2,2
‑
双(3
‑
氨基
‑4‑
羟基苯基)六氟丙烷(6FAP)、2,2
‑
双(3
‑
氨基
‑4‑
羟基苯基)丙烷(BAP)、4,4'
‑
二氨基二苯醚、4,4'
‑
二氨基联苯、对苯二胺或间苯二胺。3.根据权利要求1所述具有双功能的光敏聚酰亚胺前体材料，其特征在于，所述二酐为3,3',4,4'
‑
联苯四甲酸二酐、均苯四甲酸二酐、4,4'
‑
(六氟异丙烯)二酞酸酐、2,3,3',4'
‑
二苯醚四甲酸二酐或3,3',4,4'
‑
二苯醚四甲酸二酐。4.根据权利要求1所述具有双功能的光敏聚酰亚胺前体材料，其特征在于，所述具有疏水且可交联基团的化合物为丙烯酰氯、丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酰氯或对羟基苯乙烯；优选为甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酰氯或对羟基苯乙烯。5.权利要求1
‑
4任一项所述具有双功能的光敏聚酰亚胺前体材料的制备方法，包括步骤如下：(1)在氮气保护下，将二胺和二酐加入溶剂中，室温下反应，得到反应液A；(2)在氮气保护下，向步骤(1)所得反应液A中加入具有疏水且可交联基团的化合物进行反应，得到反应液B；将反应液B加入去离子水中，析出沉淀，经过滤、干燥后，得到具有双功能的光敏聚酰亚胺前体材料。6.根据权利要求5所述具有双功能的光敏聚酰亚胺前体材料的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述二胺和二酐的摩...

【专利技术属性】
技术研发人员：康文兵，闫正，王海花，陈欢，孔慧停，
申请(专利权)人：山东大学，
类型：发明
国别省市：