受光装置和电子设备制造方法及图纸

本公开涉及一种能够获得更好的画质的受光装置和电子设备。所述受光装置包括：半导体基板，其中第一光电检测器和第二光电检测器至少布置在大致同一受光面内；和光学部件，其设置有使光入射到所述第一光电检测器的第一光学系统和使光入射到所述第二光电检测器的第二光学系统。使光经由所述第一光学系统在所述第一光电检测器上形成图像的第一像素与使光经由所述第二光学系统在所述第二光电检测器上形成图像的第二像素具有不同的物体侧的主光线取向。本技术例如可以适用于各种认证设备。备。备。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】受光装置和电子设备


[0001]本公开涉及一种受光装置和电子设备，特别地涉及能够获得更好的画质的受光装置和电子设备。

技术介绍

[0002]传统上，已经开发了一种包括薄型受光装置(例如，总长度为1mm以下)的图像识别系统，其不使用成像透镜，但采用与成像元件的单位像素相同尺寸的多个微透镜的布置。
[0003]例如，专利文献1公开了一种其中两个针孔阵列设置在微透镜阵列和传感器阵列之间的构成。另外，专利文献2公开了一种其中一个针孔阵列设置在微透镜阵列和传感器阵列之间的构成。专利文献2还公开了一种包括多个微透镜的图像识别系统，各微透镜具有给定的视角并对齐，使得微透镜之中的中央微透镜的光轴垂直于对应传感器的感光表面并且其余微透镜的光轴相对于对应传感器的感光表面逐渐倾斜。这里，更靠近中央微透镜的微透镜光轴的倾斜角度小于更远离中央微透镜的微透镜光轴。
[0004]引用文献列表
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本专利第5488928号
[0007]专利文献2：日本未审查专利申请公开(PCT申请的翻译)第2本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种受光装置，包括：半导体基板，其包括至少布置在大致同一受光面内的第一光电检测器和第二光电检测器；和光学部件，其至少包括允许光入射到所述第一光电检测器的第一光学系统和允许光入射到所述第二光电检测器的第二光学系统，其中，使光经由所述第一光学系统在所述第一光电检测器处形成图像的第一像素与使光经由所述第二光学系统在所述第二光电检测器处形成图像的第二像素具有不同的物体侧的主光线取向。2.根据权利要求1所述的受光装置，其中，所述光学部件从所述物体侧顺次包括：折射面，其包括针对各像素设置并以预定倾斜角度倾斜的倾斜面，微透镜组，其被构造为使光针对各光电检测器形成图像，和遮光部，其配置在所述微透镜组的焦点位置附近并且被构造为仅允许针对各像素所收集的光透过。3.根据权利要求2所述的受光装置，其中，所述折射面包括具有预定折射率的透明体之间的界面，和所述倾斜面的倾斜角度针对各像素设定，使得入射到所述光学部件的光根据所述透明体之间的折射率差而折射。4.根据权利要求2所述的受光装置，其中，所述微透镜组包括针对各像素设置的透镜部，各像素具有在垂直于所述受光面的方向上从相应的光电检测器延伸到所述微透镜组的光轴，和针对所述像素中的预定像素的所述透镜部具有相对于所述像素的光轴位于偏心位置的中心轴，使得入射到所述光学部件的光的主光线的角度改变。5.根据权利要求2所述的受光装置，其中，所述折射面包括凹透镜、菲涅耳透镜或全息元件。6.根据权利要求1所述的受光装置，还包括：玻璃盖，其配置在比所述光学部件更靠近物体侧。7.根据权利要求6所述的受光装置，其中，包含空气以外的介质的透明体埋入在所述玻璃盖和所述半导体基板之间。...

【专利技术属性】
技术研发人员：马场友彦，纳土晋一郎，
申请(专利权)人：索尼半导体解决方案公司，
类型：发明
国别省市：