本申请技术方案提供一种版图原理图对比程序的检验方法及系统，其中所述检验方法包括：获得器件的实际层次信息及相匹配的原始版图和原始原理图，其中所述实际层次信息包括必要层次、不要层次及可选层次；基于所述实际层次信息，对所述原始版图的层次进行删除或增加，获得新版图和对应的新原理图，并采用所述版图原理图对比程序检测获得所述新版图和所述新原理图的匹配性；根据各新版图和新原理图的匹配性，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性。本申请技术方案能够有效且精准地检验版图原理图对比程序和器件真值表的一致性。表的一致性。表的一致性。
【技术实现步骤摘要】
版图原理图对比程序的检验方法及系统
[0001]本申请涉及半导体制造
，尤其涉及一种版图原理图对比程序的检验方法及系统。
技术介绍
[0002]通常在完成集成电路的设计后，会产生GDS文件(Graphic Data Stream，图形数据流文件)。器件的版图是由GDS层次构成的，版图工程师通过DRM(Design Rule Manua1，设计规则手册)里的器件真值表(Device truth table)来获取GDS层次信息并且绘制版图，最后通过LVS deck(版图原理图对比程序)来验证版图。
[0003]LVS deck是工艺设计包的重点组件之一，它是根据工艺信息要求而定制开发的，用于帮助设计公司验证所设计的版图和原理图网表是否一致。LVS deck在定义器件识别时，要严格遵循设计规则手册里的器件真值表。若LVS deck中的器件层次信息定义和器件真值表中的层次信息不一致时，会导致mask logic operation生成错误以及mask re
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tooling的代价。
[0004]但是器件真值表是一种较为复杂的二维表格，里面的层次信息多达几千条，因此如何有效且精准地来检验LVS deck中器件层次信息定义和器件真值表中层次信息的一致性急需解决。
技术实现思路
[0005]本申请要解决的技术问题是如何有效且精准地检验版图原理图对比程序和器件真值表的一致性。
[0006]为解决上述技术问题，本申请提供了一种版图原理图对比程序的检验方法，其中所述版图原理图对比程序包括器件的定义层次信息，包括：获得器件的实际层次信息及相匹配的原始版图和原始原理图，其中所述实际层次信息包括必要层次、不要层次及可选层次；基于所述实际层次信息，对所述原始版图的层次进行删除或增加，获得新版图和对应的新原理图，并采用所述版图原理图对比程序检测获得所述新版图和所述新原理图的匹配性；根据各新版图和新原理图的匹配性，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性。
[0007]在本申请实施例中，基于所述实际层次信息，对所述原始版图的层次进行删除或增加，包括：确定所述原始版图中的必要层次，并删除所述必要层次。
[0008]在本申请实施例中，逐个删除所述必要层次，且每删除一个所述必要层次，获得新版图和对应的新原理图。
[0009]在本申请实施例中，每删除一个所述必要层次后，均采用所述版图原理图对比程序检测所述新版图和所述新原理图的匹配性。
[0010]在本申请实施例中，基于所述实际层次信息，对所述原始版图的层次进行删除或增加，包括：确定所述原始版图中的不要层次，并增加所述不要层次。
[0011]在本申请实施例中，逐个增加所述不要层次，且每增加一个所述不要层次，获得新版图和对应的新原理图。
[0012]在本申请实施例中，每增加一个所述不要层次后，均采用所述版图原理图对比程序检测所述新版图和所述新原理图的匹配性。
[0013]在本申请实施例中，根据新版图和新原理图的匹配性，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性，包括：确认新版图和新原理图不匹配，则相应层次的定义层次信息与实际层次信息一致。
[0014]在本申请实施例中，根据所有新版图和新原理图的匹配性，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性，包括：确认新版图和新原理图相匹配，则相应层次的定义层次信息与所述实际层次信息不一致。
[0015]在本申请实施例中，基于所述实际层次信息，对所述原始版图的层次进行删除或增加，包括：确定所述原始版图中的可选层次，并增加所述可选层次。
[0016]在本申请实施例中，逐个增加所述可选层次，且每增加一个所述可选层次，获得新版图和对应的新原理图。
[0017]在本申请实施例中，每增加一个所述可选层次后，均采用所述版图原理图对比程序检测所述新版图和所述新原理图的匹配性。
[0018]在本申请实施例中，根据所有新版图和新原理图的匹配性，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性，包括：确认新版图和新原理图匹配，则相应层次的定义层次信息与实际层次信息一致。
[0019]在本申请实施例中，根据所有新版图和新原理图的匹配性，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性，包括：确认新版图和新原理图不匹配，则相应层次的定义层次信息与实际层次信息不一致。
[0020]在本申请实施例中，所述器件的实际层次信息通过器件真值表获得，所述器件真值表的信息包括“1”、“0”和“*”，其中所述“1”代表必要层次，所述“0”代表不要层次，所述“*”代表可选层次。
[0021]在本申请实施例中，所述的版图原理图对比程序的检验方法还包括：在工艺设计包中筛选相匹配的原始版图和原始原理图的过程。
[0022]在本申请实施例中，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性之后，还包括：确认并修改错误定义层次信息，使所有的定义层次信息与实际层次信息一致，其中所述错误定义层次信息是指与实际层次信息不一致的定义层次信息。
[0023]本申请还提供一种版图原理图对比程序的检验系统，包括处理器，所述处理器执行上述任一项所述的版图原理图对比程序的检验方法。
[0024]本申请技术方案在检验版图原理图对比程序时，对原始版图进行处理，获得新版图和新原理图，并通过判断新版图和新原理图的匹配性，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性，进而获得检验版图原理图对比程序与器件真值表的一致性，该方法可以有效且准确的检验获得版图原理图对比程序与器件真值表之间的一致性，有效地解决了人工手动肉眼查看时效率低、误差大等问题。
[0025]引入必要层次、不要层次及可选层次的概念，并根据必要层次、不要层次及可选层次的自身属性对原始版图的层次进行删除或增加，以获得新版图和新原理图，并将新版图
和新原理图的匹配性与各层次对应的定义层次信息与实际层次信息间的一致性联系起来，建立起一套检验版图原理图对比程序与器件真值表之间一致性的标准，可执行性强。
[0026]采用本申请技术方案的版图原理图对比程序的检验系统，能够快速且准确的检验出版图原理图对比程序与器件真值表之间的一致性，还节约了人力成本。
附图说明
[0027]以下附图详细描述了本申请中披露的示例性实施例。其中相同的附图标记在附图的若干视图中表示类似的结构。本领域的一般技术人员将理解这些实施例是非限制性的、示例性的实施例，附图仅用于说明和描述的目的，并不旨在限制本申请的范围，其他方式的实施例也可能同样的完成本申请中的专利技术意图。应当理解，附图未按比例绘制。其中：
[0028]图1为本申请实施例的版图原理图对比程序的检验方法的流程示意图。
具体实施方式
[0029]以下描述提供了本申请的特定应用场景和要求，目的是使本领域技术人员能够制造和使用本申请中的内容。对于本领域技术人员来说，对所公开的实施例的各种局部修改是显而易本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种版图原理图对比程序的检验方法，其中所述版图原理图对比程序包括器件的定义层次信息，其特征在于，包括：获得器件的实际层次信息及相匹配的原始版图和原始原理图，其中所述实际层次信息包括必要层次、不要层次及可选层次；基于所述实际层次信息，对所述原始版图的层次进行删除或增加，获得新版图和对应的新原理图，并采用所述版图原理图对比程序检测获得所述新版图和所述新原理图的匹配性；根据各新版图和新原理图的匹配性，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性。2.根据权利要求1所述的版图原理图对比程序的检验方法，其特征在于，基于所述实际层次信息，对所述原始版图的层次进行删除或增加，包括：确定所述原始版图中的必要层次，并删除所述必要层次。3.根据权利要求2所述的版图原理图对比程序的检验方法，其特征在于，逐个删除所述必要层次，且每删除一个所述必要层次，获得新版图和对应的新原理图。4.根据权利要求3所述的版图原理图对比程序的验证方法，其特征在于，每删除一个所述必要层次后，均采用所述版图原理图对比程序检测所述新版图和所述新原理图的匹配性。5.根据权利要求1所述的版图原理图对比程序的检验方法，其特征在于，基于所述实际层次信息，对所述原始版图的层次进行删除或增加，包括：确定所述原始版图中的不要层次，并增加所述不要层次。6.根据权利要求5所述的版图原理图对比程序的检验方法，其特征在于，逐个增加所述不要层次，且每增加一个所述不要层次，获得新版图和对应的新原理图。7.根据权利要求6所述的版图原理图对比程序的检验方法，其特征在于，每增加一个所述不要层次后，均采用所述版图原理图对比程序检测所述新版图和所述新原理图的匹配性。8.根据权利要求4或7所述的版图原理图对比程序的检验方法，其特征在于，根据新版图和新原理图的匹配性，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性，包括：确认新版图和新原理图不匹配，则相应层次的定义层次信息与实际层次信息一致。9.根据权利要求4或7所述的版图原理图对比程序的检验方法，其特征在于，根据所有新版图和新原理图的匹配性，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性，包括：确认新版图和新原理图相匹配...
【专利技术属性】
技术研发人员：张甜，潘见，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：发明
国别省市：
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