版图原理图对比程序的检验方法及系统技术方案

本申请技术方案提供一种版图原理图对比程序的检验方法及系统，其中所述检验方法包括：获得器件的实际层次信息及相匹配的原始版图和原始原理图，其中所述实际层次信息包括必要层次、不要层次及可选层次；基于所述实际层次信息，对所述原始版图的层次进行删除或增加，获得新版图和对应的新原理图，并采用所述版图原理图对比程序检测获得所述新版图和所述新原理图的匹配性；根据各新版图和新原理图的匹配性，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性。本申请技术方案能够有效且精准地检验版图原理图对比程序和器件真值表的一致性。表的一致性。表的一致性。

【技术实现步骤摘要】
版图原理图对比程序的检验方法及系统


[0001]本申请涉及半导体制造
，尤其涉及一种版图原理图对比程序的检验方法及系统。

技术介绍

[0002]通常在完成集成电路的设计后，会产生GDS文件(Graphic Data Stream，图形数据流文件)。器件的版图是由GDS层次构成的，版图工程师通过DRM(Design Rule Manua1，设计规则手册)里的器件真值表(Device truth table)来获取GDS层次信息并且绘制版图，最后通过LVS deck(版图原理图对比程序)来验证版图。
[0003]LVS deck是工艺设计包的重点组件之一，它是根据工艺信息要求而定制开发的，用于帮助设计公司验证所设计的版图和原理图网表是否一致。LVS deck在定义器件识别时，要严格遵循设计规则手册里的器件真值表。若LVS deck中的器件层次信息定义和器件真值表中的层次信息不一致时，会导致mask logic operation生成错误以及mask re
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tooling的代价。
[0004]但是器件真值表是本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种版图原理图对比程序的检验方法，其中所述版图原理图对比程序包括器件的定义层次信息，其特征在于，包括：获得器件的实际层次信息及相匹配的原始版图和原始原理图，其中所述实际层次信息包括必要层次、不要层次及可选层次；基于所述实际层次信息，对所述原始版图的层次进行删除或增加，获得新版图和对应的新原理图，并采用所述版图原理图对比程序检测获得所述新版图和所述新原理图的匹配性；根据各新版图和新原理图的匹配性，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性。2.根据权利要求1所述的版图原理图对比程序的检验方法，其特征在于，基于所述实际层次信息，对所述原始版图的层次进行删除或增加，包括：确定所述原始版图中的必要层次，并删除所述必要层次。3.根据权利要求2所述的版图原理图对比程序的检验方法，其特征在于，逐个删除所述必要层次，且每删除一个所述必要层次，获得新版图和对应的新原理图。4.根据权利要求3所述的版图原理图对比程序的验证方法，其特征在于，每删除一个所述必要层次后，均采用所述版图原理图对比程序检测所述新版图和所述新原理图的匹配性。5.根据权利要求1所述的版图原理图对比程序的检验方法，其特征在于，基于所述实际层次信息，对所述原始版图的层次进行删除或增加，包括：确定所述原始版图中的不要层次，并增加所述不要层次。6.根据权利要求5所述的版图原理图对比程序的检验方法，其特征在于，逐个增加所述不要层次，且每增加一个所述不要层次，获得新版图和对应的新原理图。7.根据权利要求6所述的版图原理图对比程序的检验方法，其特征在于，每增加一个所述不要层次后，均采用所述版图原理图对比程序检测所述新版图和所述新原理图的匹配性。8.根据权利要求4或7所述的版图原理图对比程序的检验方法，其特征在于，根据新版图和新原理图的匹配性，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性，包括：确认新版图和新原理图不匹配，则相应层次的定义层次信息与实际层次信息一致。9.根据权利要求4或7所述的版图原理图对比程序的检验方法，其特征在于，根据所有新版图和新原理图的匹配性，获得各层次对应的定义层次信息与实际层次信息的一致性，包括：确认新版图和新原理图相匹配...

【专利技术属性】
技术研发人员：张甜，潘见，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：发明
国别省市：