添加期望辐射场相位为设计参数的阵列天线快速综合方法技术

本发明专利技术提供了一种添加期望辐射场相位为设计参数的阵列天线快速综合方法，将阵列天线的端口激励和辐射场形式表示为实数形式；根据实数形式的阵列天线的端口激励和辐射场，将幅度方向图匹配问题等价转换成场方向图匹配问题，确定场方向图匹配问题的特征；根据场方向图匹配问题的特征，求解最优期望相位场和最优激励。本发明专利技术的有益效果是：利用场方向图规律，能够快速获取最优幅度方向图，且不需要计算梯度和海塞矩阵、计算速度快，对任意形状方向图赋形均有效。赋形均有效。赋形均有效。

【技术实现步骤摘要】
添加期望辐射场相位为设计参数的阵列天线快速综合方法


[0001]本专利技术涉及阵列天线
，尤其涉及一种添加期望辐射场相位为设计参数的阵列天线快速综合方法。

技术介绍

[0002]阵列天线综合问题要求阵列天线可以辐射出指定的赋形方向图，本专利技术涉及阵列综合设计问题，以N元线性阵列为例，线性阵列涉及的两个概念：场方向图和幅度方向图，场方向图是以天线为中心的单位球面上的场分布，包括振幅和相位；幅度方向图只是相应的振幅分布，不包括相位。实际应用需求只关注幅度方向图，不关心相位，而本专利技术的核心技术却利用场方向图规律，快速获取最优幅度方向图。
[0003]本专利技术涉及阵列综合设计问题可以定义为：给定阵元布局，期望的幅度方向图如公式(1)，求解阵列端口激励使阵列的幅度方向图与期望的幅度方向图匹配。
[0004][0005]ρ
i(#)
为方向θ
i
的场的期望幅度，即满足如下方程组：
[0006][0007]ρ
i
为在阵列激励下方向θ
i/>的实际场振幅，这本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种添加期望辐射场相位为设计参数的阵列天线快速综合方法，其特征在于：包括：S1：将阵列天线的端口激励和辐射场形式表示为实数形式；S2：根据实数形式的阵列天线的端口激励和辐射场，将幅度方向图匹配问题等价转换成场方向图匹配问题，确定场方向图匹配问题的特征；S3：根据场方向图匹配问题的特征，求解最优期望相位场和最优激励。2.如权利要求1所述的一种添加期望辐射场相位为设计参数的阵列天线快速综合方法，其特征在于：步骤S1中，实数形式的阵列辐射场：其中，R(E
i
)为方向θ
i
实际场的实部，I(E
i
)为方向θ
i
实际场的虚部，E
i
＝R(E
i
)+jI(E
i
)；且)；且)；且其中，分别为端口激励的实部和虚部，分别为导向向量的实部向量和虚部向量，i＝1,2,...,N，N为阵列阵元个数。3.如权利要求2所述的一种添加期望辐射场相位为设计参数的阵列天线快速综合方法，其特征在于：步骤S2中，实际场方向图与期望场方向图相等得到公式：法，其特征在于：步骤S2中，实际场方向图与期望场方向图相等得到公式：法，其特征在于：步骤S2中，实际场方向图与期望场方向图相等得到公式：法，其特征在于：步骤S2中，实际场方向图与期望场方向图相等得到公式：法，其特征在于：步骤S2中，实际场方向图与期望场方向图相等得到公...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾三友，龚淼，赵菲，潘文敏，何珺，
申请(专利权)人：中国地质大学武汉，
类型：发明
国别省市：