【技术实现步骤摘要】
一种位移式大盖翻转装置
[0001]本技术涉及反应器
,特别是涉及一种位移式大盖翻转装置。
技术介绍
[0002]反应器是一种实现反应过程的设备,广泛应用于化工、炼油、冶金等领域。反应器用于实现液相单相反应过程和液液、气液、液固、气液固等多相反应过程,而大盖设置在反应器的顶部。反应器在完成一次工业化学反应流程后,需要对其罐体和大盖附着的反应物进行清理和打磨。
[0003]然而通过螺栓等方式固定的大盖不方便拆装,导致不便于对附着物清理,并且现有的大盖翻转装置,是在反应器的顶部开口位置的上方进行翻转,导致大盖上的附着物可能掉入反应器内,影响反应器内部的清洁度。反应器如果在还蒸车间使用会造成酸性腐蚀,影响大盖的寿命。
[0004]因此,需要一种便于拆装大盖以及能够在远离反应器的区域进行翻转的大盖翻转装置,以解决或缓解上述问题。
技术实现思路
[0005]本技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种位移式大盖翻转装置,采用驱动大盖平移、升降和旋转的措施,将大盖移动至远离反应器的上方再进行翻转,避 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种位移式大盖翻转装置,包括反应器(1)以及反应器(1)顶部活动设置的大盖(2),其特征在于:还包括支架(3)、固定座(4)、短程气缸(5)、电机(8)、连接杆(9)、第一线性位移驱动器(10),支架(3)设置于反应器(1)附近,并且支架(3)上设置有用于驱动至少一个固定座(4)平移的至少一个第一线性位移驱动器(10),至少一个固定座(4)上固定装配有用于驱动电机(8)升降的短程气缸(5),大盖(2)外壁固定连接有连接杆(9),连接杆(9)与电机(8)输出轴连接;还包括第一立架(11)、第二线性位移驱动器(12)、第一升降驱动气缸(13)、清理刷(14),第一立架(11)上固定有用于驱动第一升降驱动气缸(13)移动的第二线性位移驱动器(12),并且第一立架(11)固定于支架(3)上,第一升降驱动气缸(13)竖直设置于第二线性位移驱动器(12),并且用于驱动清理刷(14)升降。2.根据权利要求1所述的一种位移式大盖翻转装置,其特征在于:还包括第二立架(15)、第三线性位移驱动器(16)、涂抹刷(18),第二立架(15)固定于支架(3)上,并且第二立架(15)上固定装配有用于驱动第二升降气...
【专利技术属性】
技术研发人员:崔争华,李军静,
申请(专利权)人:洛阳兰卡控制设备有限公司,
类型:新型
国别省市:
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