【技术实现步骤摘要】
移动式微污染去除装置
[0001]本技术涉及一种移动式微污染去除装置,特别涉及一种能具有进行对局部空间的微污染消除的效能,以达到清净室内空气及减低产品不良率的效果,而适用于半导体产业、光电产业或化学相关产业的清净室、无尘室或类似的室内空间。
技术介绍
[0002]在半导体制程中有一道工序为微影成像(雕像术lithography),主要是决定组件式样(pattern)、尺寸(dimension)以及电路接线(routing),而该道工序因为采用感光剂易曝光,得在黄色灯光照明区域内工作,该黄色灯光照明区域又叫做黄光区无尘清净室,所以该黄光区无尘清净室对温度、湿度维持上要求得较其他工艺来得高。
[0003]而在上述微影成像(雕像术lithography)工艺中使用的药品化学品有显像溶液(develope solution)、光阻溶液、去除光阻溶液等,而溶液中含有VOC化学物质包括IPA,PGMEA,PGME
…
等,所以对黄光区无尘清净室内气体处理必须谨慎控制,不能外溢而造成污染,以免影响芯片生产的合格率。 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种移动式微污染去除装置,其特征在于,包括:一箱体,该箱体于底部装设至少一移动体,该箱体设有一进气管、一出气管、一第一空间、一第二空间及一回转室,该进气管与该第一空间连接,该出气管与该第二空间连接,该回转室与该第一空间及该第二空间连通;至少一第一吸附管式模块,该第一吸附管式模块设在该箱体的第一空间内;以及至少一第二吸附管式模块,该第二吸附管式模块设在该箱体的第二空间内。2.根据权利要求1所述的移动式微污染去除装置,其特征在于,该箱体的第二空间进一步装设一滤网,该滤网位于该第二吸附管式模块与该出气管之间。3.根据权利要求1所述的移动式微污染去除装置,其特征在于,该箱体进一步呈侧倒状,且为向左侧或向右侧的,任一方向侧倒,该箱体的第一空间位于该第二空间的下方处,该进气管向侧倒方向延伸,该第二空间位于该第一空间的上方处,该出气管向侧倒方向延伸,该箱体的回转室设在该第一空间与该第二空间的侧边处。4.根据权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员:郑石治,扶亚民,赖世明,
申请(专利权)人:华懋科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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