【技术实现步骤摘要】
一种底曝光光固化3D打印的浆料槽及其制备方法和应用
[0001]本专利技术属于3D打印
,具体涉及一种底曝光光固化3D打印的浆料槽及其制备方法和应用。
技术介绍
[0002]面曝光光固化是按投影仪所曝的UV光掩模来使光固化浆料发生液
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固转变的,这种技术成形精度高、效率高且表面质量好,是先进制造技术中的主流成形方法之一。面曝光光固化根据投影仪与浆料槽的相对位置分为两种方式,投影仪在浆料槽上方的上曝光式(自由面曝光)和投影仪在浆料槽下方的底曝光式(约束面曝光)。相较于上曝光式,底曝光式只需很少的浆料就可以启动打印,成形零件高度不受浆料槽与槽内浆料深度的限制,且槽内液体的波动不会影响透明底板上所生成单层固化物的平整度,因而成形精度更高,是目前面曝光光固化的主要形式。
[0003]底曝光式光固化打印可分为曝光固化、分离和下压三个过程。首先,在受约束表面(浆料槽槽底)和工作台之间约束了一薄层(厚度为打印模型的分层厚度)的液态光固化浆料,UV光穿透透明约束表面并固化该层浆料,使新固化层粘接在工作台或者前 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种底曝光光固化3D打印的浆料槽的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:在含硅或含氟薄膜的两个表面分别涂覆功能剂,干燥后,得到改性薄膜(5);S2:将改性薄膜(5)设置在浆料槽本体(1)的底部的透光底板上,得到一种底曝光光固化3D打印的浆料槽。2.根据权利要求1所述的一种底曝光光固化3D打印的浆料槽的制备方法,其特征在于,S1中,所述功能剂为聚丙二醇或聚乙二醇;所述含硅或含氟薄膜为聚四氟乙烯薄膜、聚全四氟乙丙烯薄膜或聚二甲基硅氧烷薄膜。3.根据权利要求1所述的一种底曝光光固化3D打印的浆料槽的制备方法,其特征在于,S1中,所述功能剂的涂覆厚度为10~20μm。4.根据权利要求1所述的一种底曝光光固化3D打印的浆料槽的制备方法,其特征在于,S1中,所述聚二甲基硅氧烷薄膜在使用前采用酒精对其表面进行清洗,并进行干燥处理。5.根据权利要求1所述的一种底曝光光固化3D打印的浆料槽的制备方法,其特征在于,S1中,所述干燥为在室温环境下晾置12~24h。6.根据权利要求1所述的一种底曝光光固化3D打印的浆料槽的制备方法,其特征在于,S2中,将改性薄膜(5)采用硅橡胶(6)粘接在浆料槽本体(1)的底部;所述硅橡胶(6)粘接的区域为浆料槽本体(1)底部的边缘处。7.根据权利要求1所述的一种底曝光光固化3D打印...
【专利技术属性】
技术研发人员:连芩,关志强,李涤尘,王帅伟,郑誉,齐晨云,
申请(专利权)人:西安交通大学,
类型:发明
国别省市:
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