【技术实现步骤摘要】
立式炉管清洗槽
[0001]本申请属于半导体生产设备
,尤其是涉及一种立式炉管清洗槽。
技术介绍
[0002]随着半导体领域技术的发展,半导体制造商对晶圆的洁净度要求越来越高,与晶圆直接接触的炉管的洁净度的要求也随之提高,炉管通常一侧开口,封闭的一侧为圆形的炉管帽,炉管本体为圆筒形的炉管侧壁,为此专门设计了立式炉管清洗设备。也即将炉管以竖直方式放置到支撑架上,通过清洗喷嘴从外部和内部对炉管进行喷洗。
[0003]中国专利文献CN208853393U公开了一种立式炉管清洗机构,包括外喷头支撑架、内喷头支撑架、旋转台和炉管支撑架,其特征是:炉管支撑架上设有旋转台,旋转台上放置炉管;内喷头支撑架从下往上穿过炉管支撑架和旋转台并伸入炉管内部顶端,内喷头支撑架上从上到下均匀设有多组内喷头组;外喷头支撑架设置在炉管一侧,外喷头支撑架上部从炉管一侧延伸到炉管顶部正上方,外喷头支撑架上沿长度方向均匀设有多个外喷头,多个外喷头喷口朝向炉管。由于其内部具有长长的内喷头支撑架,需要将炉管抬高越过内喷头支撑架,导致炉管的上料过程异常困 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种立式炉管清洗槽,其特征在于,包括:槽体(1),为方形,具有四个侧壁;支撑架(2),通过铰链(21)设置在槽体(1)的一边,以使所述支撑架(2)能够绕铰链(21)旋转而打开,所述支撑架(2)为方形,具有位于中心的圆形固定板(22),圆形固定板(22)中间为镂空,圆形固定板(22)中间的镂空部分安装有安装块(31),所述安装块(31)中心为通道(311)的顶面具有倾斜朝上的第一喷口(312),所述安装块(31)顶面的中心安装有喷头(32),所述喷头(32)具有中心的通道(321)和旋转体(322),所述旋转体(322)上设置有倾斜朝上的第二喷口(323),倾斜朝上的第二喷口(323)喷出液体时能够带动所述旋转体(322)发生旋转,所述第二喷口(323)与通道(321)相连通,所述喷头(32)的高度小于炉管高度的五分之一,且第二喷口(323)的高度大于炉管高度的八分之一,所述第二喷口(323)中轴线的延长线指向炉管帽与炉管侧壁之间的连接处。2.根据权利要求1所述的立式炉管清洗槽,其特征在于,所述安装块(31)包括上安装块(314)和下安装块(315),以及位于上安装块(314)和下安装块(315),上安装块(314)和下安装块(315)之间设置有平面轴承(313)以使上安装块(314)能够相对于下安装块(315)进行旋转。3.根据权利要求2所述的立式炉管清洗槽,其特征在于,第一喷口(312)设置在上安装块(314)上,且第一喷口(312)的中轴线与上安装块(314)的中轴线不共...
【专利技术属性】
技术研发人员:田晓东,王长江,丁鹏,
申请(专利权)人:无锡亚电智能装备有限公司,
类型:发明
国别省市:
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