一种用于制作高通量薄膜的装置及制作方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于制作高通量薄膜的装置及制作方法，涉及气相沉积技术领域，包括相对设置的靶材和基板，靶材和基板的相对面互相平行；掩膜板，掩膜板设置在靶材和基板之间，掩膜板上设有多条镂空的长条孔，长条孔互相平行间隔排列；多条掩膜条，掩膜条设置在掩膜板和基板之间，掩膜条位于长条孔的下方，并与长条孔平行，掩膜条上设有通孔，使得靶材上的溅射粒子仅通过通孔到达基板上；驱动装置，驱动装置与掩膜条的一端连接，以带动掩膜条沿长条孔的长度方向移动。本发明专利技术的用于制作高通量薄膜的装置，能够方便快速地在基板上沉积大量的薄膜，提高制作高通量薄膜的效率。提高制作高通量薄膜的效率。提高制作高通量薄膜的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于制作高通量薄膜的装置及制作方法


[0001]本专利技术涉及气相沉积
，特别涉及一种用于制作高通量薄膜的装置及制作方法。

技术介绍

[0002]材料高通量实验要求在短时间内完成大量样品的制备与表征，其核心的思想是将传统材料研究中采用的顺序迭代方法改为并行处理，以量变引起材料研究效率的质变。作为“材料基因组技术”三大要素之一，高通量实验扮演着承上启下的关键角色。
[0003]高通量组合材料芯片技术是在一块较小的基板上集成生长成千上万乃至上百万种不同组分、结构和性能的材料薄膜，并通过自动扫描式或并行式快速表征技术获得材料成分、结构和性能等关键信息，快速构建多元材料相图或材料数据库，从中快速筛选出性能优良的材料或快速找到材料的“组分
‑
结构
‑
性能”关联性，以此提高材料研发的效率。
[0004]制备高通量薄膜，需要耗费大量的人力、物力，如此亟需找到一种方法，可以方便快捷的在同一片基板上制备多个不同条件的薄膜。

技术实现思路

[0005]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于制作高通量薄膜的装置，其特征在于，包括：相对设置的靶材(110)和基板(120)，所述靶材(110)和所述基板(120)的相对面互相平行；掩膜板(200)，所述掩膜板(200)设置在所述靶材(110)和所述基板(120)之间，所述掩膜板(200)上设有多条镂空的长条孔(210)，所述长条孔(210)互相平行间隔排列；多条掩膜条(300)，所述掩膜条(300)设置在所述掩膜板(200)和所述基板(120)之间，所述掩膜条(300)位于所述长条孔(210)的下方，并与所述长条孔(210)平行，所述掩膜条(300)上设有通孔(310)，使得所述靶材(110)上的溅射粒子仅通过所述通孔(310)到达所述基板(120)上；驱动装置(400)，所述驱动装置(400)与所述掩膜条(300)的一端连接，以带动所述掩膜条(300)沿所述长条孔(210)的长度方向移动。2.根据权利要求1所述的用于制作高通量薄膜的装置，其特征在于：所述驱动装置(400)包括多个电机(410)，每一所述掩膜条(300)对应设有一所述电机(410)，所述电机(410)与所述掩膜条(300)的端部之间通过传动结构连接，带动所述掩膜条(300)移动以改变所述通孔(310)在所述基板(120)上的投影位置。3.根据权利要求1所述的用于制作高通量薄膜的装置，其特征在于：所述掩膜条(300)与所述基板(120)之间的距离为10～30mm。4.根据权利要求1所述的用于制作高通量薄膜的装置，其特征在于：所述掩膜条(300)与所述掩膜板(200)之间的距离小于10mm。5.根据权利要求1所述的用于制作高通量薄膜的装置，其特征在于：所述掩膜板(200)与所述靶材(110)之间的距离为50～150mm。6.根据权利要求1所述的用于制作高通量薄膜的装置，其特征在于：所述通孔(310)设置在所述掩膜条(300)的中部，所述掩膜条(300)的长度为所述长条孔(210)的长度的2倍。7.根据权利要求1所述的用于制作高通量薄膜的装置，其特征在于：所述通孔(310)的尺寸为1～50mm。...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡小波，张晓军，
申请(专利权)人：深圳市矩阵多元科技有限公司，
类型：发明
国别省市：