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本发明公开了一种用于制作高通量薄膜的装置及制作方法，涉及气相沉积技术领域，包括相对设置的靶材和基板，靶材和基板的相对面互相平行；掩膜板，掩膜板设置在靶材和基板之间，掩膜板上设有多条镂空的长条孔，长条孔互相平行间隔排列；多条掩膜条，掩膜条设置...
该专利属于深圳市矩阵多元科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市矩阵多元科技有限公司授权不得商用。

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