【技术实现步骤摘要】
一种边缘扫描装置及金属沾污检测设备
[0001]本专利技术涉及取样扫描
，具体涉及一种边缘扫描装置及金属沾污检测设备。
技术介绍
[0002]高性能、低功耗的芯片在制备过程中需要引入大量新的化学元素，而不同化学元素的引入会造成芯片制造过程中金属沾污控制难度的提升。目前，最为常见的金属沾污检测设备是气相分解金属沾污收集系统和电感耦合等离子体质谱仪，但这些检测设备对于待测晶圆的检测主要是集中在待测晶圆的中心区域。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的是提供一种边缘扫描装置及金属沾污检测设备，其中，该边缘扫描装置可以对待测试样的边缘部进行扫描取样，以为待测试样边缘部的采样检测提供条件。
[0004]为解决上述技术问题，本专利技术提供一种边缘扫描装置，包括：旋转部件，包括承载部，所述承载部用于承载待测试样，所述旋转部件能够带动所述待测试样进行转动；扫描液供给及回收部件，包括喷头，用于吐出和回收扫描液滴；承接部件，包括托臂，所述扫描液滴容纳在所述喷头和所述托臂之间，并能够包裹所述待测试样的边缘部。<...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种边缘扫描装置，其特征在于，包括：旋转部件(1)，包括承载部(11)，所述承载部(11)用于承载待测试样(A)，所述旋转部件(1)能够带动所述待测试样(A)进行转动；扫描液供给及回收部件，包括喷头(2)，用于吐出和回收扫描液滴；承接部件(3)，包括托臂(31)，所述扫描液滴容纳在所述喷头(2)和所述托臂(31)之间，并能够包裹所述待测试样(A)的边缘部。2.根据权利要求1所述边缘扫描装置，其特征在于，还包括清洁部件(4)，用于对所述托臂(31)进行清洁。3.根据权利要求2所述边缘扫描装置，其特征在于，所述托臂(31)具有承托工位和清洁工位，所述承接部件(3)还配置有驱动机构，用于驱使所述托臂(31)在所述承托工位和所述清洁工位之间进行切换。4.根据权利要求3所述边缘扫描装置，其特征在于，所述清洁部件(4)包括壳体(41)，所述壳体(41)内形成清洁腔(413)，所述壳体(41)的壳壁还设有与所述清洁腔(413)相连通的第一进出口(414)，所述托臂(31)能够通过所述第一进出口(414)进出所述清洁腔(413)；所述清洁部件(4)还配置有清洁构件，用于对所述清洁腔(413)内的所述托臂(31)进行清洁。5.根据权利要求4所述边缘扫描装置，其特征在于，所述清洁构件包括液洗部，所述壳体(41)的下端部还设置有与所述清洁腔(413)相连通的第一排液口(415)；和/或，所述清洁构件包括气洗部。6.根据权利要求1所述边缘扫描装置，其特征在于，所述承接部件(3)还配置有调高构件，用于调整所述托臂(31)的安装高度。7.根据权利要求1所述边缘扫描装置，其特征在于，所述承载部(11)为负压吸盘。8.根据权利要求1
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7中任一项所述边缘扫描装置，其特征在于，还包括平台板(5)，所述旋转部件(1)和所述承接部件(3)均安装于所述平台板(5)；所述平台板(5)的上表面设有呈环形的第一槽体(51)，所述第一槽体(51)在所述平台板(5)的上表面围合形成设定区域(5a)，所述待测试样(A)在所述平台板(5)的上表面的正投影位于所述设定区域(5a)内，所述平台板(5)还设有与所述第一槽体(51)相连通的第二排液口(52)。9.根据权利要求8所述边缘扫描装置，其特征在于，所述平台...
【专利技术属性】
技术研发人员：于翔，程实然，张怀东，杨超全，崔虎山，刘朋飞，胡冬冬，许开东，
申请(专利权)人：江苏鲁汶仪器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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