聚酯膜的制造方法、聚酯膜、层叠膜技术

本发明专利技术的课题在于提供一种能够进一步抑制设置于聚酯膜的表面上的功能层的厚度不均的聚酯膜的制造方法以及能够进一步抑制设置于表面上的功能层的厚度不均的聚酯膜及层叠膜。本发明专利技术的聚酯膜的制造方法具有：挤出成型工序，以膜状挤出含有聚酯的熔融树脂来形成未拉伸聚酯膜；纵向拉伸工序，沿传送方向拉伸未拉伸聚酯膜；横向拉伸工序，沿宽度方向拉伸单轴取向聚酯膜；热定型工序，加热双轴取向聚酯膜使其热定型；热松弛工序，在比热定型工序低的温度下加热被热定型的聚酯膜来使其热松弛；冷却工序，冷却被热松弛的聚酯膜；扩张工序，在冷却工序中沿宽度方向扩张被热松弛的聚酯膜；及含粒子层形成工序，在聚酯基材的至少一个表面设置含有粒子的含粒子层，冷却工序中的聚酯膜的冷却速度V为2200～3500℃/分钟，并且满足特定的下述条件1。特定的下述条件1。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚酯膜的制造方法、聚酯膜、层叠膜


[0001]本专利技术涉及一种聚酯膜的制造方法、聚酯膜及层叠膜。

技术介绍

[0002]从加工性、机械性质、电性质、尺寸稳定性、透明性及耐化学性等观点出发，双轴取向聚酯膜被广泛地使用，例如用于装饰膜、干膜光致抗蚀剂的支承体及保护膜、磁带、以及在层叠陶瓷电容器制造用陶瓷生片的制作等中所使用的剥离膜等各种用途。
[0003]另一方面，在双轴取向聚酯膜的制造工序中，作为抑制聚酯膜的传送时所产生的褶皱(传送褶皱)的发生的技术，已知有在表面设置含粒子层的技术。
[0004]例如，在专利文献1中公开有一种光致抗蚀剂用聚酯膜，其为在抗蚀剂涂布面的相反面侧层叠不含平均粒径大于40nm的粒子且平均厚度为3～80nm的易滑树脂层而成的双轴取向聚酯膜，其中，确定了聚酯膜的易滑树脂层侧的10点平均粗糙度(SRz)、雾度、静摩擦系数(μs)、150℃下的热收缩应力。
[0005]以往技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2004
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361446号公报...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种聚酯膜的制造方法，其具有：挤出成型工序，以膜状挤出含有聚酯的熔融树脂来形成至少含有聚酯基材的未拉伸聚酯膜；纵向拉伸工序，沿传送方向拉伸所述未拉伸聚酯膜来形成单轴取向聚酯膜；横向拉伸工序，沿宽度方向拉伸所述单轴取向聚酯膜来形成双轴取向聚酯膜；热定型工序，加热所述双轴取向聚酯膜使其热定型；热松弛工序，在比所述热定型工序低的温度下加热通过所述热定型工序被热定型的聚酯膜来使其热松弛；冷却工序，冷却通过所述热松弛工序被热松弛的聚酯膜；及扩张工序，在所述冷却工序中沿宽度方向扩张所述被热松弛的聚酯膜，所述聚酯膜具有聚酯基材及位于所述聚酯基材的至少一个表面上的含有粒子的含粒子层，所述冷却工序中的所述聚酯膜的冷却速度V为2200℃/分钟～3500℃/分钟，并且所述聚酯膜的制造方法满足下述条件1，条件1：将所述聚酯的熔点设为Tm、将所述热定型工序中的热定型温度设为T1、将所述横向拉伸工序中的所述单轴取向聚酯膜的拉伸倍率设为a、将所述扩张工序中的所述被热松弛的聚酯膜的宽度方向的扩张率的百分比设为b时，由下述式(1)计算的A与由下述式(2)计算的B的乘积的值C为
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4.0～4.0，其中，所述A及B中任意一个为0的情况除外，Tm、T1的单位为℃，b的单位为％，A＝Tm
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T1
‑
30
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(1)B＝a/5
‑
b
ꢀꢀ
(2)。2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，根据所述A、所述B及所述冷却速度V，由下述式(3)计算的值0为1～10000，D＝(A
×
B)2×
V
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(3)。3.根据权利要求1或2所述的制造方法，其中，所述聚酯膜的厚度小于50μm。4.根据权利要求1至3中任一项所述的制造方法，其中，在所述纵向拉伸工序与所述横向拉伸工序之间还具有使用含有所述粒子的涂布液来形成所述含粒子层的工序，或者还具有在所述挤出成型工序中通过将含有所述粒子及粘合剂的第2熔体与所述熔融树脂同时挤出来形成所述含粒子层的工序。5.根据权利要求1至4中任一项所述的制造方法，其中，所述热松弛工序中的所述聚酯膜的表面温度T2为210℃以下。6.根据权利要求1至5中任一项所述的制造方法，其中，基于所述冷却工序的所述聚酯膜的冷却速度V为2200℃/分钟～3000℃/分钟。7.根据权利要求1至6中任...

【专利技术属性】
技术研发人员：福冈佑记，永尾享春，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：