【技术实现步骤摘要】
一种防止单轴激光清洗两端清洗过深开关光电路及方法
[0001]本专利技术涉及激光清洗
,具体涉及一种防止单轴激光清洗两端清洗过深开关光电路及方法。
技术介绍
[0002]目前,振镜已大范围应用于激光打标、激光切割、激光清洗中,振镜通过反射镜片的摆动,让激光在工作平面内实现高速精确定位,当前单轴振镜采用的控制方法分模拟量控制及数字量控制,其中,数字量控制灵活多变但设计难度大,存在技术壁垒难以通用,而模拟量控制虽然简单可用于集成研发,但模拟量控制因为控制曲线固定导致激光清洗面两端清洗较深有明显的清洗痕迹。
技术实现思路
[0003]本专利技术所要解决的技术问题是提供一种防止单轴激光清洗两端清洗过深开关光电路及方法,以克服上述现有技术中的不足。
[0004]本专利技术解决上述技术问题的技术方案如下:一种防止单轴激光清洗两端清洗过深开关光电路,包括:控制输出模块,控制输出模块所输出的ADC正弦波或三角波驱动信号分别输入全波整流电路和振镜驱动模块内,控制输出模块所输出的定值ADC信号输入电压比较电路内,全 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种防止单轴激光清洗两端清洗过深开关光电路,其特征在于,包括:控制输出模块(1),所述控制输出模块(1)所输出的ADC正弦波或三角波驱动信号分别输入全波整流电路(3)和振镜驱动模块(2)内,所述控制输出模块(1)所输出的定值ADC信号输入电压比较电路(4)内,所述全波整流电路(3)所输出的信号输入电压比较电路(4)内,所述电压比较电路(4)所输出的信号输入激光控制电路(5)内。2.根据权利要求1所述的一种防止单轴激光清洗两端清洗过深开关光电路,其特征在于,所述全波整流电路(3)为单运放全波整流电路。3.根据权利要求1或2所述的一种防止单轴激光清洗两端清洗过深开关光电路,其特征在于,还包括第一放大电路(6)所述控制输出模块(1)所输出的ADC正弦波或三角波驱动信号输入第一放大电路(6)内,所述第一放大电路(6)所输出的信号分别输入振镜驱动模块(2)和全波整流电路(3)内。4.根据权利要求1或2或3所述的一种防止单轴激光清洗两端清洗过深开关光电路,其特征在于,所述第一放大电路(6)为减法放大电路。5.根据权利要求3或4所述的一种防止单轴激光清洗两端清洗过深开关光电路,其特征在于,还包括电压跟随电路(7),所述第一放大电路(6)所输出的信号输入电压跟随电路(7)内,所述电压跟随电路(7)所输出的信号分别输入振镜驱动模块(2)和全波整流电路(3)内。6.根据权利要求1所述的一种防止单轴激光清洗两端清洗过深开关光电路,其特征在于,还包括第二放大电路(8),所述控制输出模块(1)所输出的定值ADC信号输入第二放大电路(8)内,所述第二放大电路(8)所输出的信号输入电压比较电路(4)内。7.一种防止单轴激光清洗两端清洗...
【专利技术属性】
技术研发人员:李震,李江,王亦军,叶小威,
申请(专利权)人:宝宇武汉激光技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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