本实用新型专利技术公开一种光罩转运装置以及光刻机，其中，所述光罩转运装置包括主体以及防护结构，所述主体用以活动设置于光刻机内，所述主体的底部设置有抓取结构，所述抓取结构用以抓取光罩；所述防护结构安装于所述主体，且所述防护结构包括一活动设置于所述主体下方的防护底托，所述防护底托在其活动行程上具有位于所述抓取结构下方的防护状态，以防护由所述抓取结构抓取的光罩，以及远离所述抓取结构的避让状态。本实用新型专利技术旨在解决现有光刻机中光罩转运时，光罩存在掉落损坏甚至损伤机台的问题。问题。问题。
【技术实现步骤摘要】
一种光罩转运装置以及光刻机
[0001]本技术涉及光刻机结构
，具体涉及一种光罩转运装置以及光刻机。
技术介绍
[0002]现有光刻机中，机台内部传送光罩过程中，存在光罩掉落的风险，一旦光罩掉落对光罩自身以及机台有很大损害，损失巨大的同时造成产线停摆。
技术实现思路
[0003]本技术的主要目的是提出一种光罩转运装置以及光刻机，旨在解决现有光刻机中光罩转运时，光罩存在掉落损坏甚至损伤机台的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提出一种光罩转运装置，其中，所述光罩装运装置包括主体以及防护结构，所述主体用以活动设置于光刻机内，所述主体的底部设置有抓取结构，所述抓取结构用以抓取光罩；所述防护结构安装于所述主体，且所述防护结构包括一活动设置于所述主体下方的防护底托，所述防护底托在其活动行程上具有位于所述抓取结构下方的防护状态，以防护由所述抓取结构抓取的光罩，以及远离所述抓取结构的避让状态。
[0005]可选地，所述防护结构包括转动安装于所述主体上的转动臂，所述转动臂的端部安装所述防护底托。
[0006]可选地，所述防护底托上设置有吹气结构，所述吹气结构用以清洁光罩表面。
[0007]可选地，所述防护底托朝向所述主体的端面设置有柔性防护垫。
[0008]可选地，所述主体上设置有检测装置，所述检测装置对应于所述抓取结构设置，用以检测所述抓取结构上的光罩状态。
[0009]可选地，所述抓取结构包括气吸结构。
[0010]可选地，所述气吸结构包括间隔设置的两个气吸座，所述气吸座用以吸取光罩的两侧边沿以避让其中部的功能部位；
[0011]所述防护底托对应设置为两个活动底托，以使得所述防护状态的所述活动底托对应于光罩的两侧边沿位置设置。
[0012]可选地，所述气吸座的端面设置有吸盘，所述吸盘的气路内设置有真空传感器。
[0013]可选地，所述气吸座的端面设置有距离传感器，所述距离传感器用以检测光罩与所述气吸座之间的距离。
[0014]本技术还提出一种光刻机，其中，所述光刻机包括光罩转运装置，所述光罩装运装置包括主体以及防护结构，所述主体用以活动设置于光刻机内，所述主体的底部设置有抓取结构，所述抓取结构用以抓取光罩；所述防护结构安装于所述主体，且所述防护结构包括一活动设置于所述主体下方的防护底托，所述防护底托在其活动行程上具有位于所述抓取结构下方的防护状态，以防护由所述抓取结构抓取的光罩，以及远离所述抓取结构的避让状态。
[0015]本技术的技术方案中，通过所述主体上的所述抓取结构抓取光罩，再通过所
述主体在光刻机内的活动实现光罩的转运，同时在所述主体上安装所述防护结构，通过所述防护结构上的所述防护底托，对光罩起到防护作用。具体地，所述防护底托可活动设置，以使得在其活动行程上具有位于光罩下的所述防护状态以及远离光罩的所述避让状态，在所述抓取结构抓取光罩时，所述防护底托位于所述避让状态，以避免影响光罩的正常取放，而在所述主体活动带动光罩移动时，所述防护底托活动至所述防护状态，以在光罩下方进行防护，在光罩掉落时可承接光罩，避免光罩掉落至机台造成的光罩自身损伤以及机台的损伤。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0017]图1为本技术提供的光罩转运装置的一实施例的立体简图；
[0018]图2为图1中的防护底托处于防护状态时的平面简图；
[0019]图3为图1中的防护底托处于避让状态的平面简图。
[0020]附图标号说明：
[0021]标号名称标号名称100光罩转运装置2防护结构1主体21防护底托11抓取结构21a活动底托11a气吸结构211吹气结构111气吸座22转动臂12检测装置200光罩
[0022]本技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0023]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0024]需要说明，若本技术实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
[0025]另外，若本技术实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中出现的“和/或”的含义，包括三个并列的方案，以“A和/或B”为例，包括A方案、或B方案、或A和B同时满足的方案。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结
合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本技术要求的保护范围之内。
[0026]现有光刻机中，机台内部传送光罩过程中，存在光罩掉落的风险，一旦光罩掉落对光罩自身以及机台有很大损害，损失巨大的同时造成产线停摆。
[0027]鉴于此，本技术提供一种光罩转运装置，图1至图3为本技术提供的光罩转运装置的一实施例，以下将结合具体的附图对所述光罩转运装置进行说明。
[0028]请参阅图1至图3，所述光罩转运装置100包括主体1以及防护结构2，所述主体1用以活动设置于光刻机内，所述主体1的底部设置有抓取结构11，所述抓取结构11用以抓取光罩200；所述防护结构2安装于所述主体1，且所述防护结构2包括一活动设置于所述主体1下方的防护底托21，所述防护底托21在其活动行程上具有位于所述抓取结构11下方的防护状态，以防护由所述抓取结构11抓取的光罩200，以及远离所述抓取结构11的避让状态。
[0029]本技术的技术方案中，通过所述主体1上的所述抓取结构11抓取光罩200，再通过所述主体1在光刻机内的活动实现光罩200的转运，同时在所述主体1上安装所述防护结构2，通过所述防护结构2上的所述防护底托21，对光罩200起到防护作用。具体地，所述防护底托21可活动设置，以使得在其活动行程上具有位于光罩200下的所述防护状态以及远离光罩200的所述避让状态，在所述抓取结构11抓取光罩200时，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光罩转运装置，其特征在于，包括：主体，用以活动设置于光刻机内，所述主体的底部设置有抓取结构，所述抓取结构用以抓取光罩；以及，防护结构，安装于所述主体，且所述防护结构包括一活动设置于所述主体下方的防护底托，所述防护底托在其活动行程上具有位于所述抓取结构下方的防护状态，以防护由所述抓取结构抓取的光罩，以及远离所述抓取结构的避让状态。2.如权利要求1所述的光罩转运装置，其特征在于，所述防护结构包括转动安装于所述主体上的转动臂，所述转动臂的端部安装所述防护底托。3.如权利要求1所述的光罩转运装置，其特征在于，所述防护底托上设置有吹气结构，所述吹气结构用以清洁光罩表面。4.如权利要求1所述的光罩转运装置，其特征在于，所述防护底托朝向所述主体的端面设置有柔性防护垫。5.如权利要求1所述的光罩转运装置，其特征在于，所述主体上设置有检测装置，...
【专利技术属性】
技术研发人员：金阳，
申请(专利权)人：无锡沧海云帆电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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