一种光罩转运装置以及光刻机制造方法及图纸

技术编号:37201733 阅读:27 留言:0更新日期:2023-04-20 22:57
本实用新型专利技术公开一种光罩转运装置以及光刻机,其中,所述光罩转运装置包括主体以及防护结构,所述主体用以活动设置于光刻机内,所述主体的底部设置有抓取结构,所述抓取结构用以抓取光罩;所述防护结构安装于所述主体,且所述防护结构包括一活动设置于所述主体下方的防护底托,所述防护底托在其活动行程上具有位于所述抓取结构下方的防护状态,以防护由所述抓取结构抓取的光罩,以及远离所述抓取结构的避让状态。本实用新型专利技术旨在解决现有光刻机中光罩转运时,光罩存在掉落损坏甚至损伤机台的问题。问题。问题。

【技术实现步骤摘要】
一种光罩转运装置以及光刻机


[0001]本技术涉及光刻机结构
,具体涉及一种光罩转运装置以及光刻机。

技术介绍

[0002]现有光刻机中,机台内部传送光罩过程中,存在光罩掉落的风险,一旦光罩掉落对光罩自身以及机台有很大损害,损失巨大的同时造成产线停摆。

技术实现思路

[0003]本技术的主要目的是提出一种光罩转运装置以及光刻机,旨在解决现有光刻机中光罩转运时,光罩存在掉落损坏甚至损伤机台的问题。
[0004]为实现上述目的,本技术提出一种光罩转运装置,其中,所述光罩装运装置包括主体以及防护结构,所述主体用以活动设置于光刻机内,所述主体的底部设置有抓取结构,所述抓取结构用以抓取光罩;所述防护结构安装于所述主体,且所述防护结构包括一活动设置于所述主体下方的防护底托,所述防护底托在其活动行程上具有位于所述抓取结构下方的防护状态,以防护由所述抓取结构抓取的光罩,以及远离所述抓取结构的避让状态。
[0005]可选地,所述防护结构包括转动安装于所述主体上的转动臂,所述转动臂的端部安装所述防护底托。/>[0006]可选本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光罩转运装置,其特征在于,包括:主体,用以活动设置于光刻机内,所述主体的底部设置有抓取结构,所述抓取结构用以抓取光罩;以及,防护结构,安装于所述主体,且所述防护结构包括一活动设置于所述主体下方的防护底托,所述防护底托在其活动行程上具有位于所述抓取结构下方的防护状态,以防护由所述抓取结构抓取的光罩,以及远离所述抓取结构的避让状态。2.如权利要求1所述的光罩转运装置,其特征在于,所述防护结构包括转动安装于所述主体上的转动臂,所述转动臂的端部安装所述防护底托。3.如权利要求1所述的光罩转运装置,其特征在于,所述防护底托上设置有吹气结构,所述吹气结构用以清洁光罩表面。4.如权利要求1所述的光罩转运装置,其特征在于,所述防护底托朝向所述主体的端面设置有柔性防护垫。5.如权利要求1所述的光罩转运装置,其特征在于,所述主体上设置有检测装置,...

【专利技术属性】
技术研发人员:金阳
申请(专利权)人:无锡沧海云帆电子科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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