一种亚真空环境下的气体仪表校准装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及气体分析仪器技术领域，特别指一种亚真空环境下的气体仪表校准装置，包括气罐、气体分析仪和气体浓度探头，所述气体分析仪与所述气体浓度探头连接，所述气体浓度探头与所述气罐内部接通，所述气罐外接有进气管、排气管、真空泵、循环泵、压力表，所述气罐与所述进气管之间设有进气阀，所述气罐与所述排气管之间设有第一排气阀，所述气罐与所述真空泵之间设有第二排气阀。本实用新型专利技术可为气体分析仪的气体浓度探头提供一个亚真空的环境，使其能在这个亚真空环境下进行校准，完成校准的气体浓度探头可在亚真空环境下准确监测气体浓度。浓度。浓度。

【技术实现步骤摘要】
一种亚真空环境下的气体仪表校准装置


[0001]本技术涉及气体分析仪器
，特别指一种亚真空环境下的气体仪表校准装置。

技术介绍

[0002]在半导体生产的多个环节中生产环境中氧含量均为关键参数，在某些工艺过程中还需要在亚真空环境下监控氧气浓度。
[0003]因此，现有技术急需一种简单的可以在亚真空环境下对氧气浓度进行测量的仪器进行校准的装置。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于针对上述的现有问题，提供一种结构简单，便于在亚真空环境下真空氧分析仪的氧气浓度探头校准的亚真空环境下的气体仪表校准装置。
[0005]为了达到上述目的，本技术采用的技术方案如下：
[0006]本技术所述的一种亚真空环境下的气体仪表校准装置，包括气罐、气体分析仪和气体浓度探头，所述气体分析仪与所述气体浓度探头连接，所述气体浓度探头与所述气罐内部接通，所述气罐外接有进气管、排气管、真空泵、循环泵、压力表，所述气罐与所述进气管之间设有进气阀，所述气罐与所述排气管之间设有第一排气阀，所述气罐与所述真空泵之间设有第二排气阀。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种亚真空环境下的气体仪表校准装置，其特征在于，包括气罐(1)、气体分析仪(2)和气体浓度探头(3)，所述气体分析仪(2)与所述气体浓度探头(3)连接，所述气体浓度探头(3)与所述气罐(1)内部接通，所述气罐(1)外接有进气管、排气管、真空泵(4)、循环泵(5)、压力表(6)，所述气罐(1)与所述进气管之间设有进气阀(7)，所述气罐(1)与所述排气管之间设有第一排气阀(8)，所述气罐(1)与所述真空泵(4)之间设有第二排气阀(9)。2.根据权利要求1所述的亚真空环境下的气体仪表校准装置，其特征在于，所述气体浓度探头(3)设有若干个，所述气罐(1)上设有若干个安装部(10)，所述安装部(10)与所述气体浓度探头(3)一一对应且紧密连接。3.根据权利要求2所述的亚真空环境下的气体仪表校准装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁振开，郑旭平，李堤，林光梓，
申请(专利权)人：珠海易奥科技有限公司，
类型：新型
国别省市：