【技术实现步骤摘要】
一种双腔准分子激光器及其能量调节方法
[0001]本专利技术涉及一种双腔准分子激光器及其能量调节方法,属于光刻机
技术介绍
[0002]在光刻机的曝光过程中,准分子激光器的能量变化会引起光刻机出光稳定性,从而引起曝光线条不均匀,芯片的良品率下降。为了得到稳定的能量,准分子激光器中都有在线能量测量模块,当能量模块测到激光器的出光口能量,会将能量传递给激光器系统中能量调节装置,该装置根据能量变化,调整激光器的输出能量,以保证激光器输出稳定的能量。
[0003]双腔准分子激光器在激光猝发出光模式下能量为非线性变化,激光器的气体状态变化,温度变化、机构灵敏度等条件的不同,脉冲能量稳定性也会受到显著的影响。现有技术的双腔准分子激光器具有,例如如图1所示的激光器出光能量分布。由图1可知现有控制方法存在调节范围不足的问题,会出现超调现象。
[0004]因此,如何扩大双腔激光器的能量调节范围,同时保证能量调节的稳定性,对光刻机行业具有重要意义。
技术实现思路
[0005]本专利技术所要解决的技术问题 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种双腔准分子激光器的能量调节方法,其特征在于包括以下步骤:S1:当前猝发信号检测到激光器的出光,触发中断,基于MO电压检测值和PA电压检测值,计算得到MO电压增量,并利用所述MO电压增量对PA电压进行闭环控制;S2:在所述当前猝发信号后的间隔期间内,对MO电压进行更新,作为下一个猝发信号用的MO电压,并返回步骤S1。2.如权利要求1所述的双腔准分子激光器的能量调节方法,其特征在于,所述MO电压增量是基于在所述当前猝发信号之前的两个猝发信号的MO电压增量,计算得到的。3.如权利要求1或2所述的双腔准分子激光器的能量调节方法,其特征在于还包括,对所述MO电压检测值进行偏置处理后,计算其与所述PA电压检测值之间的误差得到电压误差,基于所述电压误差计算得到所述MO电压增量。4.如权利要求3所述的双腔准分子激光器的能量调节方法,其特征在于,所述MO电压增量,是将所述电压误差进行一阶低通滤波后得到的。5.如权利要求4所述的双腔准分子激光器的能量调节方法,其特征在于,利用所述MO电压增量对PA电压增量进行反向补偿,然后对PA电压进行闭环控制,对所述激光器的出光的能量进行检测得到能量检测值,计算所述能量检测值与能量目标值的能量误差,然后对所述能量误差进行控制,得到所述PA电压增量。6.如权利要求5所述的双腔准分子激光...
【专利技术属性】
技术研发人员:梁赛,冯泽斌,刘锴锋,徐向宇,刘广义,江锐,刘斌,
申请(专利权)人:北京科益虹源光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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