一种MXENES粉体制备用去离子水洗涤及真空干燥装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种MXENES粉体制备用去离子水洗涤及真空干燥装置，包括底座和密封座，所述底座顶部设置有加热座，所述第一电机的输出端与制备箱的底部连接，所述顶座顶部连接有投料箱，且投料箱的外侧设置有水洗组件，所述投料箱顶部设置有第二电机，所述密封座设置在顶座的一侧。该MXENES粉体制备用去离子水洗涤及真空干燥装置，设置有进水管道和抽取管道，在外部供液设备和液泵的作用下进水管道和抽取管道将向制备箱多次自动注入和抽取制备箱内部水洗所需的液体，从而便于进一步提高装置的自动化水平，同时设置有PH值测定仪，PH值测定仪便于抽取管道排出的废液进行检测并在其PH值达到设定范围时控制蜂鸣器发生进行示警，进而便于达到自动水洗的目的。进而便于达到自动水洗的目的。进而便于达到自动水洗的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种MXENES粉体制备用去离子水洗涤及真空干燥装置


[0001]本专利技术涉及MXENES粉体制备
，具体为一种MXENES粉体制备用去离子水洗涤及真空干燥装置。

技术介绍

[0002]MXenes即二维过渡金属碳化物、氮化物或碳氮化物，是由美国德雷塞尔大学的Yury Gogotsi教授和Michel W.Barsoum教授等人在2011年合作发现的一种新型二维结构材料，在MXenes的加工制备过程中需要对原料进行水洗将其外部的然后真空干燥，现有的MXenes制备大多是工作人员人为把控其投料的量以及频率，使用起来不够便捷，同时在制备的过程中由于工序的繁琐，通常需要转换使用多种设备进行相关加工，从而使得工作人员的工作强度较高，针对上述问题，需要对现有设备进行改进。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种MXENES粉体制备用去离子水洗涤及真空干燥装置，以解决上述
技术介绍
中提出的现有的MXenes制备大多是工作人员人为把控其投料的量以及频率，使用起来不够便捷，同时在制备的过程中由于工序的繁琐，通常需要转换使用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种MXENES粉体制备用去离子水洗涤及真空干燥装置，包括底座(1)和密封座(24)，其特征在于：所述底座(1)顶部设置有加热座(2)，且加热座(2)内壁上嵌入连接有电热组件(3)，同时加热座(2)底部内设置有第一电机(4)，所述第一电机(4)的输出端与制备箱(5)的底部连接，且制备箱(5)内连接有刮料组件，同时制备箱(5)的顶部设置有顶座(6)，所述顶座(6)顶部连接有投料箱(7)，且投料箱(7)的外侧设置有水洗组件，所述投料箱(7)顶部设置有第二电机(14)，且第二电机(14)的输出端通过传动杆(15)与投料箱(7)内的多孔阻料板(16)连接；所述密封座(24)设置在顶座(6)的一侧，且顶座(6)和密封座(24)分别通过第一液压缸(21)和第二液压缸(23)与移动架(22)连接，同时移动架(22)设置在加热座(2)的外侧，所述密封座(24)顶部设置有真空泵(25)，且真空泵(25)与抽气管道(26)的一端连接，且抽气管道(26)的另一端贯穿设置在密封座(24)内。2.根据权利要求1所述的一种MXENES粉体制备用去离子水洗涤及真空干燥装置，其特征在于：所述第一电机(4)与制备箱(5)构成转动结构，且制备箱(5)与顶座(6)转动连接。3.根据权利要求1所述的一种MXENES粉体制备用去离子水洗涤及真空干燥装置，其特征在于：所述投料箱(7)顶部对称开设有放料口(701)，且投料箱(7)底部连接有下料斗(702)，同时下料斗(702)底部均匀的开设有下料口(703)。4.根据权利要求1所述的一种MXENES粉体制备用去离子水洗涤及真空干燥装置，其特征在于：所述水洗组件包括进水管道(8)和抽取管道(9)...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵广震，朱光，
申请(专利权)人：宿州学院，
类型：发明
国别省市：