制造显示装置的方法制造方法及图纸

技术编号:37112024 阅读:23 留言:0更新日期:2023-04-01 05:09
公开了一种制造显示装置的方法。所述方法包括:准备盖基板组件,盖基板组件包括盖基板、附接到盖基板的下表面的保护膜以及设置在盖基板与保护膜之间的检查图案;通过穿过盖基板的上表面对检查图案进行成像来获得第一图像;通过将检查图案的参考图像与第一图像进行比较来获得噪声数据;通过对盖基板组件进行成像来获得第二图像;通过将噪声数据反映在第二图像中来获得第二图像的校正后的图像;以及基于第二图像的校正后的图像来检测盖基板的缺陷。第二图像的校正后的图像来检测盖基板的缺陷。第二图像的校正后的图像来检测盖基板的缺陷。

【技术实现步骤摘要】
制造显示装置的方法


[0001]实施例涉及一种制造用于显示图像的显示装置的方法。

技术介绍

[0002]显示装置可以通过组合用于显示图像的显示面板和用于保护显示面板的盖基板来制造。保护膜可以附接到盖基板直到盖基板与显示面板组合,以保护盖基板免受杂质等的影响。在将显示面板和盖基板彼此组合之前,可以检查盖基板的缺陷。

技术实现思路

[0003]当检查盖基板的缺陷时,如果预先去除附接到盖基板的保护膜,则可能损坏盖基板。如果在不去除附接到盖基板的保护膜的情况下检查盖基板的缺陷,则可能使检查的精度劣化。
[0004]实施例提供了一种制造显示装置的方法。
[0005]制造显示装置的方法可以包括:准备盖基板组件,盖基板组件包括盖基板、附接到盖基板的下表面的保护膜以及设置在盖基板与保护膜之间的检查图案;通过穿过盖基板的上表面对检查图案进行成像来获得第一图像;通过将检查图案的参考图像与第一图像进行比较来获得噪声数据;通过对盖基板组件进行成像来获得第二图像;通过将噪声数据反映在第二图像中来获得第二图像的校正后的图像;以及基于第二图像的校正后的图像来检测盖基板的缺陷。
[0006]在实施例中,噪声数据可以包括与噪声面积差对应的值,噪声面积差是在参考图像中检查图案的参考面积与在第一图像中检查图案的检查面积之间的差。
[0007]在实施例中,获得第二图像的校正后的图像可以包括:在第二图像中获得缺陷的成像缺陷面积;以及通过将噪声面积差反映在成像缺陷面积中来获得第二图像的校正后的图像。
[0008]在实施例中,通过将噪声面积差反映在成像缺陷面积中来获得第二图像的校正后的图像可以包括:将成像缺陷面积和检查面积进行比较;以及当成像缺陷面积与检查面积相同时,通过反映噪声面积差来校正成像缺陷面积。
[0009]在实施例中,通过将噪声面积差反映在成像缺陷面积中来获得第二图像的校正后的图像可以进一步包括:当成像缺陷面积不同于检查面积时,获得与成像缺陷面积和检查面积之间的面积差成比例的面积校正值;通过将面积校正值反映到噪声面积差来获得校正后的面积差;以及通过反映校正后的面积差来校正成像缺陷面积。
[0010]在实施例中,基于第二图像的校正后的图像来检测盖基板的缺陷可以包括:获得缺陷的缺陷面积;将缺陷面积与参考缺陷面积进行比较;以及当缺陷面积大于参考缺陷面积时,将盖基板分类为有缺陷的盖基板。
[0011]在实施例中,检查图案可以包括第一尺寸检查图案到第n尺寸检查图案,第一尺寸检查图案到第n尺寸检查图案均具有彼此不同的面积,其中n是等于或大于2的自然数。
[0012]在实施例中,噪声数据可以包括与噪声灰度差对应的值,噪声灰度差是在参考图像中检查图案的参考灰度与在第一图像中检查图案的成像灰度之间的差。
[0013]在实施例中,通过将噪声数据反映在第二图像中来获得第二图像的校正后的图像可以包括:从第二图像中获得盖基板组件的成像灰度分布;以及通过将噪声灰度差反映在成像灰度分布中来获得具有校正后的灰度分布的、第二图像的校正后的图像。
[0014]在实施例中,基于第二图像的校正后的图像来检测盖基板的缺陷可以包括:将校正后的灰度分布与正常的灰度范围进行比较;以及当具有在正常的灰度范围之外的灰度的灰度缺陷在校正后的灰度分布中被检测到时,将盖基板分类为有缺陷的盖基板。
[0015]在实施例中,检查图案可以包括第一灰度检查图案至第m灰度检查图案,第一灰度检查图案至第m灰度检查图案均具有彼此不同的灰度,其中m可以是等于或大于2的自然数。
[0016]在实施例中,该方法可以进一步包括:在基于第二图像的校正后的图像来检测盖基板的缺陷之后,当缺陷未被检测到时,从盖基板组件中去除保护膜和检查图案;以及将包括像素的显示面板接合在盖基板之下。
[0017]在实施例中,盖基板可以包括盖窗口和设置在盖窗口之下的触摸感测层。
[0018]制造显示装置的方法可以包括:通过将保护膜接合到盖基板的下表面来形成盖基板组件;通过去除保护膜的一部分来形成检查膜;将检查膜放置在提供在显示面板的上表面上的检查图案之上;通过穿过显示面板的下表面对检查图案进行成像来获得第一图像;通过将检查图案的参考图像与第一图像进行比较来获得噪声数据;通过对盖基板组件进行成像来获得第二图像;通过将噪声数据反映在第二图像中来获得第二图像的校正后的图像;以及基于第二图像的校正后的图像来检测盖基板的缺陷。
[0019]在实施例中,显示面板可以包括显示区域和围绕显示区域的外围区域,并且检查图案可以设置在外围区域上。
[0020]在实施例中,盖基板可以包括与显示区域对应的第一区域和与外围区域对应的第二区域,并且检查膜可以通过去除保护膜的与第二区域重叠的一部分来形成。
[0021]在实施例中,噪声数据可以包括与噪声面积差对应的值,噪声面积差是在参考图像中检查图案的参考面积与在第一图像中检查图案的检查面积之间的差。
[0022]在实施例中,噪声数据可以包括与噪声灰度差对应的值,噪声灰度差是在参考图像中检查图案的参考灰度与在第一图像中检查图案的成像灰度之间的差。
[0023]在实施例中,该方法可以进一步包括:在基于第二图像的校正后的图像来检测盖基板的缺陷之后,当缺陷未被检测到时,从盖基板组件中去除保护膜;以及将显示面板接合在盖基板之下。
[0024]在实施例中,盖基板可以包括盖窗口和设置在盖窗口之下的触摸感测层。
[0025]根据本专利技术的实施例,盖基板的缺陷可以在其中保护膜未被去除的状态或其中仅保护膜的一部分被去除的状态下被有效地检测。
附图说明
[0026]图1是示出根据实施例的制造显示装置的方法的流程图。
[0027]图2是示出盖基板组件的透视图。
[0028]图3、图4、图5、图6、图7、图8、图9、图10、图11、图12、图13、图14、图15、图16、图17和
图18是解释图1的制造显示装置的方法的图。
[0029]图19是示出根据可替代的实施例的制造显示装置的方法的流程图。
[0030]图20、图21和图22是解释图19的制造显示装置的方法的图。
具体实施方式
[0031]现在将在下文中参照附图更充分地描述本专利技术,在附图中示出了各种实施例。然而,本专利技术可以以许多不同的形式来实施,并且不应该被解释为限于在本文中阐述的实施例。相反,提供这些实施例使得本公开将是透彻的和完整的,并且将向本领域技术人员充分传达本专利技术的范围。同样的附图标记始终指代同样的元件。
[0032]将理解的是,当元件被称为“在”另一元件“上”时,它可以直接在该另一元件上,或者居间元件可以在其间。相反,当元件被称为“直接在”另一元件“上”时,不存在居间元件。
[0033]将理解的是,尽管术语“第一”、“第二”、“第三”等可以在本文中用于描述各种元件、部件、区域、层和/或部分,但是这些元件、部件、区域、层和/或部分不应该受到这些术语的限制本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制造显示装置的方法,所述方法包括:准备盖基板组件,所述盖基板组件包括盖基板、附接到所述盖基板的下表面的保护膜以及设置在所述盖基板与所述保护膜之间的检查图案;通过穿过所述盖基板的上表面对所述检查图案进行成像来获得第一图像;通过将所述检查图案的参考图像与所述第一图像进行比较来获得噪声数据;通过对所述盖基板组件进行成像来获得第二图像;通过将所述噪声数据反映在所述第二图像中来获得所述第二图像的校正后的图像;以及基于所述第二图像的所述校正后的图像来检测所述盖基板的缺陷。2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述噪声数据包括:与噪声面积差对应的值,所述噪声面积差是在所述参考图像中所述检查图案的参考面积与在所述第一图像中所述检查图案的检查面积之间的差。3.根据权利要求2所述的方法,其中,获得所述第二图像的所述校正后的图像包括:在所述第二图像中获得所述缺陷的成像缺陷面积;以及通过将所述噪声面积差反映在所述成像缺陷面积中来获得所述第二图像的所述校正后的图像。4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述通过将所述噪声面积差反映在所述成像缺陷面积中来获得所述第二图像的所述校正后的图像包括:将所述成像缺陷面积和所述检查面积进行比较;以及当所述成像缺陷面积与所述检查面积相同时,通过反映所述噪声面积差来校正所述成像缺陷面积。5.根据权利要求4所述的方法,其中,所述通过将所述噪声面积差反映在所述成像缺陷面积中来获得所述第二图像的所述校正后的图像进一步包括:当所述成像缺陷面积不同于所述检查面积时,获得与所述成像缺陷面积和所述检查面积之间的面积差成比例的面积校正值;通过将所述面积校正值反映到所述噪声面积差来获得校正后的面积差;以及通过反映所述校正后的面积差来校正所述成像缺陷面积。6.根据权利要求1所述的方...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄太进安亨敏
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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