镜头对焦系统、镜头对焦方法以及图表显示结构技术方案

技术编号:37105414 阅读:36 留言:0更新日期:2023-04-01 05:04
本发明专利技术公开一种镜头对焦系统、镜头对焦方法以及图表显示结构。镜头对焦系统包括一待测对象承载装置、一镜头位置预判装置以及一镜头位置调整装置。待测对象承载装置用于承载一图像提取模块。图像提取模块包括一镜头结构以及一图像感测芯片。镜头位置预判装置包括一图表显示结构。图表显示结构用于提供一实体测量距离与一图像测量距离。借此,依据实体测量距离与图像测量距离的比较,镜头结构可以渐渐朝向接近或者远离图像感测芯片的方向移动,直到镜头结构的一光学中心点相距于图像感测芯片的一实际距离等于镜头结构的一镜头焦距。一实际距离等于镜头结构的一镜头焦距。一实际距离等于镜头结构的一镜头焦距。

【技术实现步骤摘要】
镜头对焦系统、镜头对焦方法以及图表显示结构


[0001]本专利技术涉及一种对焦系统、对焦方法以及显示结构,尤其涉及一种镜头对焦系统、镜头对焦方法以及图表显示结构。

技术介绍

[0002]现有技术中,图像提取模块包括一镜头支架以及一镜头组件,并且镜头组件需要预先进行对焦后才能被固定在镜头支架上。然而,现有技术的镜头组件的对焦系统与对焦方法仍然具有可改善空间。

技术实现思路

[0003]本专利技术所要解决的技术问题在于,针对现有技术的不足提供一种镜头对焦系统、镜头对焦方法以及图表显示结构。
[0004]为了解决上述的技术问题,本专利技术所采用的其中一个技术方案是提供一种镜头对焦系统,其包括一待测对象承载装置、一镜头位置预判装置以及一镜头位置调整装置。待测对象承载装置用于承载一图像提取模块,且图像提取模块包括一镜头支架、可活动地设置在镜头支架上的一镜头结构以及对应于镜头结构的一图像感测芯片。镜头位置预判装置包括一图表显示结构。镜头位置调整装置用于可旋转地调整镜头结构相距于图像感测芯片的距离。其中,图表显示结构包括彼此分离的一第一实体图表以及一第二实体图表,且第一实体图表的一第一实体参考点与第二实体图表的一第二实体参考点两者相距一实体测量距离。其中,当图像感测芯片配合镜头结构以提取图表显示结构的第一实体图表与第二实体图表两者后而取得一图表图像信息时,图表图像信息用于提供对应于第一实体图表的一第一图像图表以及对应于第二实体图表的一第二图像图表,且第一图像图表的一第一图像参考点与第二图像图表的一第二图像参考点两者相距一图像测量距离。其中,当图像感测芯片配合镜头结构所取得的图像测量距离大于实体测量距离时,由于镜头结构的一光学中心点相距于图像感测芯片的一实际距离大于镜头结构的一镜头焦距,所以镜头结构通过镜头位置调整装置的旋转调整,以使得镜头结构渐渐朝向接近图像感测芯片的方向移动,直到镜头结构的光学中心点相距于图像感测芯片的实际距离等于镜头结构的镜头焦距。其中,当图像感测芯片配合镜头结构所取得的图像测量距离小于实体测量距离时,由于镜头结构的光学中心点相距于图像感测芯片的实际距离小于镜头结构的镜头焦距,所以镜头结构通过镜头位置调整装置的旋转调整,以使得镜头结构渐渐朝向远离图像感测芯片的方向移动,直到镜头结构的光学中心点相距于图像感测芯片的实际距离等于镜头结构的镜头焦距。
[0005]为了解决上述的技术问题,本专利技术所采用的另外一个技术方案是提供一种镜头对焦方法,其包括:提供一图表显示结构,图表显示结构包括彼此分离的一第一实体图表以及一第二实体图表,第一实体图表的一第一实体参考点与第二实体图表的一第二实体参考点两者相距一实体测量距离;通过一图像感测芯片配合一镜头结构以提取图表显示结构的第
一实体图表与第二实体图表两者后而取得一图表图像信息,图表图像信息用于提供对应于第一实体图表的一第一图像图表以及对应于第二实体图表的一第二图像图表,且第一图像图表的一第一图像参考点与第二图像图表的一第二图像参考点两者相距一图像测量距离;以及,依据实体测量距离与图像测量距离的比较,将镜头结构渐渐朝向接近或者远离图像感测芯片的方向移动,直到镜头结构的一光学中心点相距于图像感测芯片的一实际距离等于镜头结构的一镜头焦距。其中,当图像感测芯片配合镜头结构所取得的图像测量距离大于实体测量距离时,由于镜头结构的光学中心点相距于图像感测芯片的实际距离大于镜头结构的镜头焦距,所以镜头结构通过旋转调整,以使得镜头结构渐渐朝向接近图像感测芯片的方向移动,直到镜头结构的光学中心点相距于图像感测芯片的实际距离等于镜头结构的镜头焦距。其中,当图像感测芯片配合镜头结构所取得的图像测量距离小于实体测量距离时,由于镜头结构的光学中心点相距于图像感测芯片的实际距离小于镜头结构的镜头焦距,所以镜头结构通过旋转调整,以使得镜头结构渐渐朝向远离图像感测芯片的方向移动,直到镜头结构的光学中心点相距于图像感测芯片的实际距离等于镜头结构的镜头焦距。
[0006]为了解决上述的技术问题,本专利技术所采用的另外再一个技术方案是提供一种图表显示结构,其包括一无图表底层、一第一实体图表以及一第二实体图表,且第一实体图表与第二实体图表设置在无图表底层上,以使得第一实体图表的周围、第二实体图表的周围以及第一实体图表与第二实体图表两者之间没有任何的图表。
[0007]本专利技术的其中一个有益效果在于,本专利技术所提供的一种镜头对焦系统,其能通过“待测对象承载装置用于承载一图像提取模块,且图像提取模块包括一镜头支架、可活动地设置在镜头支架上的一镜头结构以及对应于镜头结构的一图像感测芯片”、“镜头位置预判装置包括一图表显示结构,且图表显示结构包括彼此分离的一第一实体图表以及一第二实体图表,且第一实体图表的一第一实体参考点与第二实体图表的一第二实体参考点两者相距一实体测量距离”以及“镜头位置调整装置用于可旋转地调整镜头结构相距于图像感测芯片的距离”的技术方案,以使得当图像感测芯片配合镜头结构所取得的图像测量距离大于实体测量距离时,镜头结构可以通过镜头位置调整装置的旋转调整,以使得镜头结构渐渐朝向接近图像感测芯片的方向移动,并且当图像感测芯片配合镜头结构所取得的图像测量距离小于实体测量距离时,镜头结构可以通过镜头位置调整装置的旋转调整,以使得镜头结构渐渐朝向远离图像感测芯片的方向移动。
[0008]本专利技术的另外一个有益效果在于,本专利技术所提供的一种镜头对焦方法,其能通过“提供一图表显示结构,图表显示结构包括彼此分离的一第一实体图表以及一第二实体图表,第一实体图表的一第一实体参考点与第二实体图表的一第二实体参考点两者相距一实体测量距离”、“通过一图像感测芯片配合一镜头结构以提取图表显示结构的第一实体图表与第二实体图表两者后而取得一图表图像信息,图表图像信息用于提供对应于第一实体图表的一第一图像图表以及对应于第二实体图表的一第二图像图表,且第一图像图表的一第一图像参考点与第二图像图表的一第二图像参考点两者相距一图像测量距离”以及“依据实体测量距离与图像测量距离的比较,将镜头结构渐渐朝向接近或者远离图像感测芯片的方向移动,直到镜头结构的一光学中心点相距于图像感测芯片的一实际距离等于镜头结构的一镜头焦距”的技术方案,以使得当图像感测芯片配合镜头结构所取得的图像测量距离大于实体测量距离时,镜头结构可以通过镜头位置调整装置的旋转调整,以使得镜头结构
渐渐朝向接近图像感测芯片的方向移动,并且当图像感测芯片配合镜头结构所取得的图像测量距离小于实体测量距离时,镜头结构可以通过镜头位置调整装置的旋转调整,以使得镜头结构渐渐朝向远离图像感测芯片的方向移动。
[0009]本专利技术的另外再一个有益效果在于,本专利技术所提供的一种图表显示结构,其能通过“第一实体图表与第二实体图表设置在无图表底层上,以使得第一实体图表的周围、第二实体图表的周围以及第一实体图表与第二实体图表两者之间没有任何的图表”的技术方案,以使得图表显示结构可以被应用于本专利技术所提供的镜头对焦系统以及镜头对焦方法。
[0010]为使能进一步了解本专利技术的特征及
技术实现思路
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镜头对焦系统,其特征在于,所述镜头对焦系统包括:一待测对象承载装置,所述待测对象承载装置用于承载一图像提取模块,所述图像提取模块包括一镜头支架、可活动地设置在所述镜头支架上的一镜头结构以及对应于所述镜头结构的一图像感测芯片;一镜头位置预判装置,所述镜头位置预判装置包括一图表显示结构;以及一镜头位置调整装置,所述镜头位置调整装置用于可旋转地调整所述镜头结构相距于所述图像感测芯片的距离;其中,所述图表显示结构包括彼此分离的一第一实体图表以及一第二实体图表,且所述第一实体图表的一第一实体参考点与所述第二实体图表的一第二实体参考点两者相距一实体测量距离;其中,当所述图像感测芯片配合所述镜头结构以提取所述图表显示结构的所述第一实体图表与所述第二实体图表两者后而取得一图表图像信息时,所述图表图像信息用于提供对应于所述第一实体图表的一第一图像图表以及对应于所述第二实体图表的一第二图像图表,且所述第一图像图表的一第一图像参考点与所述第二图像图表的一第二图像参考点两者相距一图像测量距离;其中,当所述图像感测芯片配合所述镜头结构所取得的所述图像测量距离大于所述实体测量距离时,由于所述镜头结构的一光学中心点相距于所述图像感测芯片的一实际距离大于所述镜头结构的一镜头焦距,所以所述镜头结构通过所述镜头位置调整装置的旋转调整,以使得所述镜头结构渐渐朝向接近所述图像感测芯片的方向移动,直到所述镜头结构的所述光学中心点相距于所述图像感测芯片的所述实际距离等于所述镜头结构的所述镜头焦距;其中,当所述图像感测芯片配合所述镜头结构所取得的所述图像测量距离小于所述实体测量距离时,由于所述镜头结构的所述光学中心点相距于所述图像感测芯片的所述实际距离小于所述镜头结构的所述镜头焦距,所以所述镜头结构通过所述镜头位置调整装置的旋转调整,以使得所述镜头结构渐渐朝向远离所述图像感测芯片的方向移动,直到所述镜头结构的所述光学中心点相距于所述图像感测芯片的所述实际距离等于所述镜头结构的所述镜头焦距。2.根据权利要求1所述的镜头对焦系统,其特征在于,其中,所述镜头支架具有一右旋内螺纹,且所述镜头结构具有与所述右旋内螺纹相互配合的一右旋外螺纹;其中,当所述图像感测芯片配合所述镜头结构所取得的所述图像测量距离大于所述实体测量距离时,所述镜头位置调整装置顺时针旋转调整所述镜头结构,以使得所述镜头结构以顺时针旋转的方式渐渐接近所述图像感测芯片,直到所述镜头结构的所述光学中心点相距于所述图像感测芯片的所述实际距离等于所述镜头结构的所述镜头焦距;其中,当所述图像感测芯片配合所述镜头结构所取得的所述图像测量距离小于所述实体测量距离时,所述镜头位置调整装置逆时针旋转调整所述镜头结构,以使得所述镜头结构以逆时针旋转的方式渐渐远离所述图像感测芯片,直到所述镜头结构的所述光学中心点相距于所述图像感测芯片的所述实际距离等于所述镜头结构的所述镜头焦距。3.根据权利要求1所述的镜头对焦系统,其特征在于,
其中,所述镜头支架具有一左旋内螺纹,且所述镜头结构具有与所述左旋内螺纹相互配合的一左旋外螺纹;其中,当所述图像感测芯片配合所述镜头结构所取得的所述图像测量距离大于所述实体测量距离时,所述镜头位置调整装置逆时针旋转调整所述镜头结构,以使得所述镜头结构以逆时针旋转的方式渐渐接近所述图像感测芯片,直到所述镜头结构的所述光学中心点相距于所述图像感测芯片的所述实际距离等于所述镜头结构的所述镜头焦距;其中,当所述图像感测芯片配合所述镜头结构所取得的所述图像测量距离小于所述实体测量距离时,所述镜头位置调整装置顺时针旋转调整所述镜头结构,以使得所述镜头结构以顺时针旋转的方式渐渐远离所述图像感测芯片,直到所述镜头结构的所述光学中心点相距于所述图像感测芯片的所述实际距离等于所述镜头结构的所述镜头焦距。4.根据权利要求1所述的镜头对焦系统,其特征在于,其中,所述图表显示结构包括一无图表底层,且所述第一实体图表与所述第二实体图表设置在所述无图表底层上,以使得所述第一实体图表的周围、所述第二实体图表的周围以及所述第一实体图表与所述第二实体图表两者之间没有任何的图表;其中,所述第一实体图表具有多个第一黑色区域以及多个第一白色区域,且所述第二实体图表具有多个第二黑色区域以及多个第二白色区域;其中,所述第一实体图表的所述第一黑色区域与所述第二实体图表的所述第二黑色区域的面积大小相同或者相异,且所述第一实体图表的所述第一白色区域与所述第二实体图表的所述第二白色区域的面积大小相同或者相异;其中,所述第一实体图表的所述第一实体参考点为一第一实体中心点、一第一实体最左点或者一第一实体最右点,且所述第二实体图表的所述第二实体参考点为一第二实体中心点、一第二实体最左点或者一第二实体最右点;其中,所述第一实体图表的所述第一实体参考点与所述第二实体图表的所述第二实体参考点两者之间的所述实体测量距离为所述第一实体图表的所述第一实体中心点、所述第一实体最左点以及所述第一实体最右点三者其中之一相距所述第二实体图表的所述第二实体中心点、所述第二实体最左点或者所述第二实体最右点三者其中之一的距离;其中,所述第一图像图表的所述第一图像参考点为一第一图像中心点、一第一图像最左点或者一第一图像最右点,且所述第二图像图表的所述第二图像参考点为一第二图像中心点、一第二图像最左点或者一第二图像最右点;其中,所述第一图像图表的所述第一图像参考点与所述第二图像图表的所述第二图像参考点两者之间的所述图像测量距离为所述第一图像图表的所述第一图像中心点、所述第一图像最左点以及所述第一图像最右点三者其中之一相距所述第二图像图表的所述第二图像中心点、所述第二图像最左点或者所述第二图像最右点三者其中之一的距离。5.一种镜头对焦方法,其特征在于,所述镜头对焦方法包括:提供一图表显示结构,所述图表显示结构包括彼此分离的一第一实体图表以及一第二实体图表,所述第一实体图表的一第一实体参考点与所述第二实体图表的一第二实体参考点两者相距一实体测量距离;通过一图像感测芯片配合一镜头结构以提取所述图表显示结构的所述第一实体图表与所述第二实体图表两者后而取得一图表图像信息,所述图表图像信息用于提供对应于所
述第一实体图表的一第一图像图表以及对应于所述第二实体图表的一第二图像图表,且所述第一图像图表的一第一图像参考点与所述第二图像图表的一第二图像参考点两者相距一图像测量距离;以及依据所述实体测量距离与所述图像测量距离的比较,将所述镜头结构渐渐朝向接近或者远离所述图像感测芯片的方向移动,直到所述镜头结构的一光学中心点相距于所述图像感测芯片的一实际距离等于所述镜头结构的一镜头焦距;其中,当所述图像感测芯片配合所述镜头结构所取得的所述图像测量距离大于...

【专利技术属性】
技术研发人员:江宗岳田兆元郭温良王伟杰
申请(专利权)人:纮华电子科技上海有限公司
类型:发明
国别省市:

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