本发明专利技术公开了一种触控显示面板、其制作方法及显示装置，该触控显示面板包括：显示面板，包括相对的第一显示基板和第二显示基板，第二显示基板包括显示区和位于显示区一侧的第一非显示区，第一非显示区包括触控扇出区；触控感应层，在第二显示基板背离第一显示基板的一侧；有机保护层，在触控感应层背离第二显示基板的一侧，有机保护层在第二显示基板上的正投影覆盖于触控扇出区上；偏光片，位于有机保护层背离触控感应层的一侧，偏光片在第二显示基板上的正投影与有机保护层在第二显示基板上的正投影存在第一交叠区域，第一交叠区域沿第一方向的宽度小于等于900μm，第一方向为显示区与触控扇出区的排列方向。该面板能降低气泡线的发生概率。线的发生概率。线的发生概率。
【技术实现步骤摘要】
一种触控显示面板、其制作方法及显示装置
[0001]本专利技术涉及显示设备
，特别涉及一种触控显示面板、其制作方法及显示装置。
技术介绍
[0002]目前液晶显示行业技术已发展成熟，缩减成本和增加产品附加值为另一种发展趋势，而且随着消费者对触控技术的需求，MLOC(多层外挂式)、SLOC(单层外挂式)、Touch In Cell(内嵌式)等技术应运而生，MLOC(Mutli Layer On Cell)为多层结构，每一层均需要相应的掩膜板(mask)，成本较高，且整体厚度较厚，不满足窄、薄等要求；Touch In Cell良率低制约了其发展前景，SLOC技术不仅成本低，且良率较高，为目前的主要发展方向。
[0003]但SLOC产品需要一层有机保护层(OC)来保护实现触控感应功能的触控感应(Sensor ITO)走线不被因外界水汽接触而引起的腐蚀，显示区域(AA区)的有机保护层因影响透过率而被显影掉，仅保留触控扇出区(Fanout区)的OC，在触控显示模组贴附偏光片(POL)时容易在OC的边缘(气泡积聚处)出现一条笔直的白线，严重影响产品的外观品质。
技术实现思路
[0004]本专利技术提供了一种触控显示面板、其制作方法及显示装置，上述触控显示面板能够降低气泡线不良的发生概率。
[0005]为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案：
[0006]一种触控显示面板，包括：
[0007]显示面板，所述显示面板包括相对设置的第一显示基板和第二显示基板，所述第二显示基板包括显示区和位于所述显示区一侧的第一非显示区，所述第一非显示区包括触控扇出区；
[0008]触控感应层，所述触控感应层位于所述第二显示基板背离所述第一显示基板的一侧；
[0009]有机保护层，所述有机保护层位于所述触控感应层背离所述第二显示基板的一侧，且所述有机保护层在所述第二显示基板上的正投影覆盖于所述触控扇出区上；
[0010]偏光片，所述偏光片位于所述有机保护层背离所述触控感应层的一侧，所述偏光片位于所述第二显示基板上的正投影与所述有机保护层位于所述第二显示基板上的正投影存在第一交叠区域，且所述第一交叠区域沿第一方向的宽度小于等于900μm，所述第一方向为所述显示区与所述触控扇出区的排列方向。
[0011]上述触控显示面板中，包括显示面板、触控感应层、有机保护层以及偏光片，其中，显示面板中的第二显示基板包括显示区和位于显示区一侧的第一非显示区，第一非显示区包括触控扇出区，触控感应层位于第二显示基板背离第一显示基板的一侧，有机保护层位于触控感应层背离第二显示基板的一侧，且有机保护层在第二显示基板上的正投影覆盖触控扇出区上，对位于触控扇出区的触控感应层进行保护，偏光片位于有机保护层背离触控
感应层的一侧，由于偏光片位于第二显示基板上的正投影与有机保护层位于第二显示基板上的正投影存在第一交叠区域，且第一交叠区域沿第一方向的宽度小于等于900μm，第一方向为显示区与触控扇出区的排列方向，能够使得偏光片与有机保护层重叠的区域较小，即有机保护层具有段差的位置更靠近偏光片的边缘位置，能够使得在对触控显示面板进行脱泡工艺时，残留在触控显示面板内的气泡更容易被挤压出去，能够降低气泡线不良的发生概率。
[0012]可选地，所述第二显示基板背离所述触控感应层的一侧形成有遮光层，所述遮光层与所述显示区对应的区域形成有呈阵列分布的开口区，所述遮光层位于所述第一非显示区的正投影与所述偏光片位于所述第一非显示区的正投影存在第二交叠区域；其中，
[0013]当所述第二交叠区域沿所述第一方向的宽度大于1.5mm时，所述第一交叠区域沿所述第一方向的宽度为0.6mm至0.8mm；
[0014]当所述第二交叠区域沿所述第一方向的宽度小于等于1.5mm时，所述第一交叠区域沿所述第一方向的宽度为所述第二交叠区域沿所述第一方向的宽度的0.4倍至0.6倍。
[0015]可选地，当所述第二交叠区域沿所述第一方向的宽度大于1.5mm时，所述第一交叠区域沿所述第一方向的宽度为0.75mm；
[0016]当所述第二交叠区域沿所述第一方向的宽度小于等于1.5mm时，所述第一交叠区域沿所述第一方向的宽度为所述第二交叠区域沿所述第一方向的宽度的0.5倍。
[0017]可选地，所述有机保护层的厚度1.5μm至3μm。
[0018]可选地，所述有机保护层的厚度为1.5μm至2μm。
[0019]可选地，所述有机保护层临近所述第二显示基板的底面与所述有机保护层临近所述显示区的侧面之间的夹角大于等于5
°
且小于等于75
°
。
[0020]可选地，所述有机保护层临近所述第二显示基板的底面与所述有机保护层临近所述显示区的侧面之间的夹角大于等于9
°
且小于等于16
°
。
[0021]可选地，所述偏光片的黏性层的厚度为8μm至27μm。
[0022]可选地，所述偏光片的硬度为3H至6H。
[0023]本专利技术实施例还提供一种显示装置，包括上述技术方案中提供的任意一种触控显示面板。
[0024]本专利技术实施例还提供一种触控显示面板的制作方法，包括：
[0025]形成显示面板，所述显示面板包括相对设置的第一显示基板和第二显示基板，所述第二显示基板包括显示区和位于所述显示区一侧的第一非显示区，所述第一非显示区包括触控扇出区；
[0026]在所述第二显示基板背离所述第一显示基板的一侧形成触控感应层；
[0027]在所述触控感应层背离所述第二显示基板的一侧形成有机保护层，所述有机保护层在所述第二显示基板上的正投影覆盖于所述触控扇出区上；
[0028]在所述有机保护层背离所述触控感应层的一侧贴附偏光片，所述偏光片位于所述第二显示基板上的正投影与所述有机保护层位于所述第二显示基板上的正投影存在第一交叠区域，且所述第一交叠区域沿第一方向的宽度小于等于900μm，所述第一方向为所述显示区与所述触控扇出区的排列方向；
[0029]对偏光片进行脱泡工艺处理。
[0030]可选地，所述偏光片的贴附速度为100mm/s至350mm/s，所述偏光片的贴附压力为0MPa至0.4MPa。
[0031]可选地，所述偏光片的贴附速度为100mm/s至250mm/s，所述偏光片的贴附压力为0.22MPa至0.36MPa。
[0032]可选地，所述脱泡工艺的脱泡压力为0MPa至0.53MPa，所述脱泡工艺的脱泡时间为0s至300s。
[0033]可选地，所述脱泡工艺的脱泡压力为0.5MPa至0.53MPa，所述脱泡工艺的脱泡时间为100s至300s。
附图说明
[0034]图1为本专利技术实施例提供的一种触控显示装置的结构示意图；
[0035]图2为本专利技术实施例提供的另一种触控显示装置的结构示意图；
[0036]图3为图2对应的投影视图；
[00本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种触控显示面板，其特征在于，包括：显示面板，所述显示面板包括相对设置的第一显示基板和第二显示基板，所述第二显示基板包括显示区和位于所述显示区一侧的第一非显示区，所述第一非显示区包括触控扇出区；触控感应层，所述触控感应层位于所述第二显示基板背离所述第一显示基板的一侧；有机保护层，所述有机保护层位于所述触控感应层背离所述第二显示基板的一侧，且所述有机保护层在所述第二显示基板上的正投影覆盖于所述触控扇出区上；偏光片，所述偏光片位于所述有机保护层背离所述触控感应层的一侧，所述偏光片位于所述第二显示基板上的正投影与所述有机保护层位于所述第二显示基板上的正投影存在第一交叠区域，且所述第一交叠区域沿第一方向的宽度小于等于900μm，所述第一方向为所述显示区与所述触控扇出区的排列方向。2.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述第二显示基板背离所述触控感应层的一侧形成有遮光层，所述遮光层与所述显示区对应的区域形成有呈阵列分布的开口区，所述遮光层位于所述第一非显示区的正投影与所述偏光片位于所述第一非显示区的正投影存在第二交叠区域；其中，当所述第二交叠区域沿所述第一方向的宽度大于1.5mm时，所述第一交叠区域沿所述第一方向的宽度为0.6mm至0.8mm；当所述第二交叠区域沿所述第一方向的宽度小于等于1.5mm时，所述第一交叠区域沿所述第一方向的宽度为所述第二交叠区域沿所述第一方向的宽度的0.4倍至0.6倍。3.根据权利要求2所述的触控显示面板，其特征在于，当所述第二交叠区域沿所述第一方向的宽度大于1.5mm时，所述第一交叠区域沿所述第一方向的宽度为0.75mm；当所述第二交叠区域沿所述第一方向的宽度小于等于1.5mm时，所述第一交叠区域沿所述第一方向的宽度为所述第二交叠区域沿所述第一方向的宽度的0.5倍。4.根据权利要求2所述的触控显示面板，其特征在于，所述有机保护层的厚度1.5μm至3μm。5.根据权利要求4所述的触控显示面板，其特征在于，所述有机保护层的厚度为1.5μm至2μm。6.根据权利要求4所述的触控显示面板，其特征在于，所述有机保护层临近所述第二显示基板的底面与所述有机保护层临近所述显示区的侧面之间的夹角大于等于5
°...
【专利技术属性】
技术研发人员：李辉，但艺，朱海鹏，周欢，冉敏，梁鹏，
申请(专利权)人：重庆京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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