基站和清洁设备系统技术方案

本实用新型专利技术公开一种基站和清洁设备系统，其中，基站被配置为能够对清洁设备进行清洁，清洁设备包括机壳和待清洁件，待清洁件可相对机壳运动；基站包括本体和清洁结构；本体具有污水槽；清洁结构活动设于污水槽内；清洁结构能够在待清洁件运动时被待清洁件带动，以使清洁结构执行基站清洁动作。本实用新型专利技术的技术方案改善了现有技术中基站需要人工定时对基站中的污水收集处进行清洗，而造成劳动强度高，用户体验差的技术问题。用户体验差的技术问题。用户体验差的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
基站和清洁设备系统


[0001]本技术涉及清洗设备
，特别涉及一种基站和清洁设备系统。

技术介绍

[0002]在清洁设备对待清洁的表面进行清洁完成后，清洁设备需要回到基站中对待清洁件进行清洗。
[0003]现有技术中，基站中的清洁结构对清洁设备的待清洁件清洗完成后，一些毛发、淤泥等诸多不能随污水及时回收的脏污物会附着在污水收集处(污水槽)的表面，从而需要人工定时对基站中的污水收集处进行清洗，造成劳动强度高，用户体验差。

技术实现思路

[0004]本技术的主要目的是提出一种基站和清洁设备系统，旨在改善现有技术中基站需要人工定时对基站中的污水收集处进行清洗，而造成劳动强度高，用户体验差的技术问题。
[0005]为实现上述目的，本本技术提出的一种基站，被配置为能够对清洁设备进行清洁，所述清洁设备包括机壳和待清洁件，所述待清洁件可相对所述机壳运动，所述基站包括：
[0006]本体，所述本体具有污水槽；
[0007]清洁结构，所述清洁结构活动设于所述污水槽内；所述清洁结构能够在所述待清洁件运动时被所述待清本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基站，被配置为能够对清洁设备进行清洁，所述清洁设备包括机壳和待清洁件，所述待清洁件可相对所述机壳运动，其特征在于，所述基站包括：本体，所述本体具有污水槽，所述污水槽设于所述本体的底部；清洁结构，所述清洁结构活动设于所述污水槽内；所述清洁结构能够在所述待清洁件运动时被所述待清洁件带动，以使所述清洁结构执行基站自清洁动作。2.如权利要求1所述的基站，其特征在于，所述清洁结构执行的基站自清洁动作包括：所述清洁结构与所述污水槽的槽壁接触并相对运动，以清除所述槽壁的脏污物。3.如权利要求1所述的基站，其特征在于，所述清洁结构包括第一清洁部件，所述第一清洁部件被配置为用于与所述待清洁件接触并能够相对运动，以清除所述待清洁件上的脏污物；所述清洁结构执行的基站自清洁动作包括：所述第一清洁部件运动以将所述第一清洁部件上的脏污物从所述第一清洁部件上甩离。4.如权利要求1所述的基站，其特征在于，所述待清洁件与所述清洁结构摩擦接触，当所述待清洁件相对所述机壳运动时，所述待清洁件通过摩擦力带动所述清洁结构运动；或者，所述待清洁件具有第一卡合部，所述清洁结构具有第二卡合部，所述第一卡合部与所述第二卡合部相互卡合，当所述待清洁件相对所述机壳运动时，所述待清洁件通过所述第一卡合部和所述第二卡合部的配合带动所述清洁结构运动。5.如权利要求1所述的基站，其特征在于，所述待清洁件可相对所述机壳以第一方向旋转；当所述待清洁件以所述第一方向转动时，所述待清洁件能够带动所述清洁结构转动。6.如权利要求5所述的基站，其特征在于，所述待清洁件可相对于所述机壳以第二方向旋转；当所述待清洁件以所述第二方向转动时，所述清洁结构与所述待清洁件之间具有速度差；其中第一方向与第二方向相反。7.如权利要求1所述的基站，其特征在于，所述清洁结构还包括第二清洁部件，所述第二清洁部件与所述污水槽的槽壁接触，所述待清洁件带动所述清洁结构转动，以使所述第二清洁部件清除所述污水槽槽壁上的脏污物。8.如权利要求7所述的基站，其特征在于，所述清洁结构包括第一清洁部件，所述第一清洁部件被配置为用于与所述待清洁件接触并能够相对运动，以清除所述待清洁件上的脏污物；所述第一清洁部件与所述污水槽相对固定，所述第二清洁部件一端与污水槽的槽壁接触，所述第二清洁部件的另一端穿过所述第一清洁部件而用于与所述待清洁件...

【专利技术属性】
技术研发人员：林晓龙，黄吉彪，陈旭，
申请(专利权)人：云鲸智能科技东莞有限公司，
类型：新型
国别省市：