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本实用新型公开一种基站和清洁设备系统，其中，基站被配置为能够对清洁设备进行清洁，清洁设备包括机壳和待清洁件，待清洁件可相对机壳运动；基站包括本体和清洁结构；本体具有污水槽；清洁结构活动设于污水槽内；清洁结构能够在待清洁件运动时被待清洁件带动...
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