本发明专利技术公开一种处理液晶面板工厂显影液废液的超滤装置及工艺，涉及废水处理技术领域。本发明专利技术公开的超滤装置包括进水箱、进水泵、超滤膜组件、化学清洗箱和化学清洗泵，进水箱通过进水管与超滤膜组件连接，超滤膜组件的浓水口通过浓水回流管与化学清洗箱连接，化学清洗箱的出水口通过清洗进水管与超滤膜组件连接；进水管上安装有进水泵，清洗进水管上安装有化学清洗泵；超滤膜组件的产水口通过产水管将过滤水排出，产水管上连接的产水回流管与浓水回流管对接；并结合超滤装置公开了处理处理液晶面板工厂显影液废液的方法。本发明专利技术提供的超滤装置及方法，投资成本低、占地面积小，可去除显影液废液中高浓度不溶态光刻胶且能长期稳定运行。稳定运行。稳定运行。
【技术实现步骤摘要】
处理液晶面板工厂显影液废液的超滤装置及工艺
[0001]本专利技术涉及废水处理
，尤其涉及一种处理液晶面板工厂显影液废液的超滤膜装置，及利用该超滤装置处理液晶面板工厂显影液废液的工艺。
技术介绍
[0002]液晶面板制造的阵列制程包括清洗、成膜、光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺。制程中使用的光刻胶曝光后性质发生变化，在显影工艺中被碱性显影液(2.38wt％四甲基氢氧化铵溶液)溶解去除。显影工艺中排出的溶解了光刻胶的四甲基氢氧化铵溶液即为显影液废液。
[0003]显影液废液是一种具有强碱性、腐蚀性和毒性的有机废液，以往多将其作为危险废弃物直接外运出厂处置，费用高昂。近年来，有报道指出，显影液废液中的主要污染物四甲基氢氧化铵(简称TMAH)可被厌氧微生物高效降解去除，且采用厌氧生化反应器处理显影液废液的技术已在工程项目中实施应用。
[0004]显影液废液中除了主要污染物TMAH外，还含有光刻胶。光刻胶由树脂、光敏材料、溶剂和添加剂等成分组成。显影液废液中的光刻胶的一个重要性质是：可溶解于强碱，而在酸性条件下能转化为不溶物析出。根据该性质，现有显影液废液处理技术中，如专利技术专利CN111285547A公开了一种显影液废液处理方法，采用pH调节、混凝、絮凝、沉淀或气浮工艺进行预处理，去除显影液废液中的光刻胶，然后再进行厌氧生化处理。然而，在显影液废液处理工程项目运行中发现，该专利处理方法中去除光刻胶的沉淀或气浮工艺存在如下问题：
[0005](1)由于光刻胶需在酸性条件下析出，通常需将废液pH值调节至5以下甚至更低，而混凝絮凝反应适宜在pH中性条件下进行。故酸性pH值条件影响了絮凝沉淀或气浮的分离效果，使得出水悬浮物(SS)较高，光刻胶去除率较低，对后续生化处理不利。
[0006](2)基于上述原因，工程运行中常采用提高絮凝剂(聚丙烯酰胺PAM)投加浓度的方法，以强化不溶态光刻胶的分离效果。但这就使得处理出水中含有大量残留的PAM，同样对后续生化处理有较大影响。
[0007](3)液晶面板工厂在生产运行中，生产线排放的显影液废液浓度存在大幅度波动的情况，光刻胶浓度也相应变化。为保持沉淀或气浮分离效果的稳定性，需根据来水水质调节混凝剂和絮凝剂的投加浓度。这不仅增加了运行操作难度，也使得处理出水水质不稳定。
[0008](4)光刻胶中存在表面活性剂成分，气浮过程产生较大量泡沫，对气浮除浊效果有影响。
[0009]超滤膜过滤是一项去除废水中SS的处理技术，广泛应用于废水回用处理，具有出水水质好、受进水水质波动影响小等优点。但超滤膜不适用于处理高SS浓度的废水：当进水中SS浓度较高时，超滤膜存在过滤通量低且衰减快、过滤所需膜面积大、膜污堵严重、需频繁化学清洗、化学清洗药剂耗量大等问题。由于显影液废液在酸性条件下产生的不溶态光刻胶形成的SS高达200～600mg/L，通常认为该废液不能采用超滤膜过滤处理，目前也未见
采用超滤膜过滤去除显影液废液中光刻胶的详细报道。
[0010]目前，常用管式微滤膜处理高SS浓度的废水。中国专利CNCN215559468U公开了一种显影液废液预处理装置，采用管式微滤膜处理显影液废液。该专利中为解决显影液废液高SS浓度的问题，设计大流量错流过滤模式，即过滤过程需在高错流流速(4～4.5m/s)下运行。这使得微滤膜装置需配备大流量循环泵，同时运行能耗非常高。且该专利中并未对微滤膜污堵后如何有效恢复膜通量的措施进行详细描述，并且管式微滤膜的投资成本远高于超滤膜。
技术实现思路
[0011]本专利技术的目的在于提供一种处理液晶面板工厂显影液废液的超滤装置，投资成本低、占地面积小，可去除显影液废液中高浓度不溶态光刻胶且能长期稳定运行；该超滤装置处理显影液废液的方法易操作，处理废液回收率高，化学清洗药液消耗量少。
[0012]为了实现本专利技术的目的，本专利技术提供了一种处理液晶面板工厂显影液废液的超滤装置包括进水箱、进水泵、超滤膜组件、化学清洗箱和化学清洗泵，所述进水箱出水口通过进水管与所述超滤膜组件的进水口连接，所述超滤膜组件的浓水口通过浓水回流管与所述化学清洗箱的进水口连接，所述化学清洗箱的出水口通过清洗进水管与所述超滤膜组件的进水口连接；
[0013]所述进水管上安装有所述进水泵，所述清洗进水管上安装有所述化学清洗泵；
[0014]所述超滤膜组件上设置有产水口，所述产水口通过产水管将过滤水排出，所述产水管上连接有产水回流管，所述产水回流管另一端连接所述浓水回流管。
[0015]进一步的，所述进水箱内安装有搅拌机，防止进水中的不溶态光刻胶在进水箱内沉淀。
[0016]进一步的，所述进水管上设置有流量计FIT、压力传感器PIT
‑
1和过滤进水阀。
[0017]进一步的，所述超滤膜组件的进水口上设置有排液管，所述排液管上安装有底排阀。
[0018]进一步的，所述产水管上设置有压力传感器PIT
‑
2和过滤产水阀。PIT
‑
1和PIT
‑
2之差称为跨膜压差，用以评价超滤膜的污堵情况。
[0019]进一步的，所述浓水回流管上设置有浓水侧清洗回流阀，所述产水回流管上设置有产水侧清洗回流阀。
[0020]进一步的，所述清洗进水管上设置有清洗进水阀。
[0021]进一步的，所述化学清洗泵的出口处连接有清洗排放管，用于排放化学清洗液，所述清洗排放管上设置有清洗液排放阀。
[0022]本专利技术还提供了一种液晶面板工厂显影液废液的处理工艺，结合上述处理液晶面板工厂显影液废液的超滤装置对显影液废液进行处理，所述处理工艺具体包括以下步骤：
[0023](1)将第一部分显影液废液在进水箱中使用酸调节pH值至4～6，使第一部分显影液废液中溶解的光刻胶转化为不溶态析出，然后通过进水管输送至超滤膜组件。优选的，酸为盐酸或硫酸。
[0024](2)采用超滤膜组件截留去除不溶态光刻胶，超滤产水后由产水口通过产水管将滤水排出。由产水管出来的滤水需采用碱液回调pH值至中性，即得我们所需的过滤水。优选
的碱液为NaOH溶液。
[0025](3)将第二部分显影液废液或质量浓度为1～2％的NaOH溶液流入化学清洗箱，作为化学清洗液对超滤膜进行化学清洗，通过溶解光刻胶使超滤膜通量得以恢复；然后将经化学清洗后的清洗液分别从超滤膜组件浓水口和产水口流出，然后分别经浓水回流管和产水回流管合并后经浓水回流管流入化学清洗箱中，清洗液从化学清洗箱的出口经清洗进水管输送至超滤膜组件，实现清洗液的循环流动。
[0026](4)化学清洗液经多次重复使用后从化学清洗箱排出后，经清洗排放管排出，将废液中富集了高浓度光刻胶进一步处理。
[0027]进一步的，所述步骤(4)中，将高浓度光刻胶进一步处理的方法为：
[0028]将所述高浓度光刻胶加酸调节pH值至4～6，使光刻胶析出；然后采用泥水分离装置处理，得到的光刻胶本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种处理液晶面板工厂显影液废液的超滤装置，其特征在于，包括进水箱(1)、进水泵(4)、超滤膜组件(2)、化学清洗箱(3)和化学清洗泵(5)，所述进水箱(1)出水口通过进水管(7)与所述超滤膜组件(2)的进水口连接，所述超滤膜组件(2)的浓水口通过浓水回流管(9)与所述化学清洗箱(3)的进水口连接，所述化学清洗箱(3)的出水口通过清洗进水管(11)与所述超滤膜组件(2)的进水口连接；所述进水管(7)上安装有所述进水泵(4)，所述清洗进水管(11)上安装有所述化学清洗泵(5)；所述超滤膜组件(2)上设置有产水口，所述产水口通过产水管(8)将过滤水排出，所述产水管(8)上连接有产水回流管(10)，所述产水回流管(10)另一端连接所述浓水回流管(9)。2.根据权利要求1所述的处理液晶面板工厂显影液废液的超滤装置，其特征在于，所述进水箱(1)内安装有搅拌机(6)。3.根据权利要求1所述的处理液晶面板工厂显影液废液的超滤装置，其特征在于，所述进水管(7)上设置有流量计FIT(21)、压力传感器PIT
‑
1和过滤进水阀(14)。4.根据权利要求1所述的处理液晶面板工厂显影液废液的超滤装置，其特征在于，所述超滤膜组件(2)的进水口上设置有排液管(12)，所述排液管(12)上安装有底排阀(16)。5.根据权利要求1所述的处理液晶面板工厂显影液废液的超滤装置，其特征在于，所述产水管(8)上设置有压力传感器PIT
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2和过滤产水阀(15)。6.根据权利要求1所述的处理液晶面板工厂显影液废液的超滤装置，其特征在于，所述浓水回流管(9)上设置有浓水侧清洗回流阀(18)，所述产水回流管(10)上设置有产水侧清洗回流阀(19)。7.根据权利要求1所述的处理液晶面板工厂显影液废液的超滤装置，其特征在于，所述清洗进水管(11)上设置有清洗进水阀(17)。8.根据权利要求1所述的处理液晶面板工厂显影液废液的超滤装置，其特征在于，所述化学清洗泵(5)的出口处连接有清洗排放管(1...
【专利技术属性】
技术研发人员：肖凡，张荣，翁士睿，安猛，
申请(专利权)人：上海东振环保工程技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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