一种适用于光纤的氘气后处理系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种适用于光纤的氘气后处理系统，属于光纤制备技术领域，其包括压力容器罐组、烘箱和供气组件，利用压力容器罐组中多个压力容器的对应设置，可以形成若干氘气后处理空腔，再通过管路组件的设置，可以实现氘气后处理空腔与供气组件的连通，配合压力容器罐组在烘箱内的对应设置，可以实现光纤在相应压力调节、温度条件下完成氘气后处理。本实用新型专利技术适用于光纤的氘气后处理系统，其系统组成简单，控制便捷，能够实现光纤在加压氘气环境下的后处理，并实现后处理过程中温度环境的准确控制，提升光纤氘气后处理的效率和质量，进而提升光纤产品的制备效率和使用性能，降低光纤的制备周期和制备成本，具有较好的实用价值和应用前景。用价值和应用前景。用价值和应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于光纤的氘气后处理系统


[0001]本技术属于光纤制备
，具体涉及一种适用于光纤的氘气后处理系统。

技术介绍

[0002]在光纤的制备过程中，载氢处理过程是一个十分重要的过程，对于光纤性能的提升有着极其重要的作用。然而，大量的实验表明，当氢分子进入光纤芯层后，会在1330nm、1440nm和1530nm等处出现明显的吸收峰，这种吸收峰是暂时性的，在含氢的气氛消失后会随之消失。但是，在1383 nm处形成的吸收峰会永久残留在光纤中，影响光纤的传输特性；另外，由于低水峰光纤开通了E波段的使用，导致1383 nm处的氢致损耗（简称氢损）格外受到重视。
[0003]研究表明，用氘气处理光纤能有效地降低光纤的氢敏感性。在室温下，将2km长光纤置于含氘的混合气（1％D：+99％He）中4天，对光纤进行氢老化实验，实验结果显示，氘气处理过的光纤进行氢老化实验时，在1383 nm处几乎没有任何附加损耗。为了进一步考察光纤的稳定性，将氘气处理后的光纤在常温条件下（23
±3°
C，40%~60%RH，一个大气压）放置3个月，再进行氢老化实验，结果显示，光纤仍具有良好的抗氢老化性能。由此可见，氘气处理可以有效地消除光纤的氢敏感性。
[0004]在氘气处理光纤过程中，主要是氘与过氧基的结合，而这种结合可以阻止后续氢与过氧基的结合，从而达到降低光纤氢敏感性的目的。同时，氘的反应机理与氢的类似，其形成的O
‑
D键的键能为466 kJ／mol，大于O
‑
H键的键能460 KJ／mol，故而从能量角度上讲，O
‑
D键比O
‑
H键更稳定，这也使得氘气处理后的光纤具有抗氢老化能力。
[0005]在氘气处理过程中，形成O
‑
D键比O
‑
H键的时间，受温度、压力、氘气浓度三个主要因素的影响。因为D原子和H原子是同位素，因此氘气与氢气一样是危险性易燃易爆气体，因此，鉴于安全因素的考虑，现有的氘气后处理通常采用常压、常温，因此所需的反应时间非常长，一般要两周以上。也正因如此，现有的氘气后处理过程往往具有如下缺陷：（1）反应时间太长，效率低；由于现有的处理设备大多采用类似集装箱的大房间，无法密封加压，因此只能充入1bar的D2，需要很长的反应时间。（2）温度控制不精准；现有的设备温度控制不精确，无法实现一些需要精确控温的反应。（3）自动化程度不高：因为整个系统需要充气、补气、N2置换等多个循环操作，需要人工参与的频次较高，智能化程度极低。（4）安全保护方面功能不够；由于D2后处理置换时间较长，通常是一周时间，期间需要持续监控、巡视，极易因巡视不及时导致安全隐患的出现。

技术实现思路

[0006]针对现有技术的以上缺陷或改进需求中的一种或者多种，本技术提供了一种适用于光纤的氘气后处理系统，能够实现光纤在加压环境下的氘气后处理，缩短氘气处理的时间，提升光纤氘气处理的效率和质量，降低光纤的制备成本。
[0007]为实现上述目的，本技术提供一种适用于光纤的氘气后处理系统，包括压力容器罐组、烘箱和供气组件；
[0008]所述压力容器罐组包括多个压力容器，并对应各压力容器分别设置有密封盖，使得待后处理的光纤可对应容置于压力容器的密封空腔中；至少部分压力容器通过管路依次连通，并在压力容器罐组上形成至少一个氘气后处理空腔；且
[0009]所述压力容器罐组设置在所述烘箱中，以此控制所述光纤进行后处理时的温度条件；
[0010]所述供气组件通过管路组件与各所述氘气后处理空腔连通，用于向所述氘气后处理空腔中通入氘气并控制各氘气后处理空腔中的氘气气压。
[0011]作为本技术的进一步改进，所述压力容器罐组设置为多个，且所述压力容器罐组与所述烘箱一一对应设置。
[0012]作为本技术的进一步改进，至少一个压力容器罐组内形成有至少两个彼此独立的氘气后处理空腔；
[0013]和/或
[0014]至少一个压力容器罐组内的各压力容器依次连通。
[0015]作为本技术的进一步改进，所述供气组件包括至少两个彼此独立的供气单元；
[0016]各所述供气单元分别通过供气管路与管路组件连通，可进行氘气的独立供气。
[0017]作为本技术的进一步改进，对应至少两个供气单元设置有供气切换组件，用于切换与所述管路组件连通的供气单元。
[0018]作为本技术的进一步改进，所述供气单元为包含多个气瓶的集格。
[0019]作为本技术的进一步改进，对应至少部分集格设置有氘气补充管路；
[0020]所述氘气补充管路分别与氘气补充设备、对应集格连通，用于为压力下降后的集格补充氘气。
[0021]作为本技术的进一步改进，所述氘气后处理空腔中的气压为0~6bar；和/或，所述供气组件内的气压不小于6bar。
[0022]作为本技术的进一步改进，所述烘箱的控制温度为15~80℃。
[0023]作为本技术的进一步改进，还包括远程控制设备；
[0024]所述远程控制设备与系统中的至少部分设备电连接，并可与远程终端通信连接，用于作业人员通过远程控制设备远程监测并控制对应的设备。
[0025]上述改进技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。
[0026]总体而言，通过本技术所构思的以上技术方案与现有技术相比，具有的有益效果包括：
[0027]（1）本技术的适用于光纤的氘气后处理系统，其包括压力容器罐组、烘箱和供气组件，利用压力容器罐组中多个压力容器的对应设置，可以形成若干氘气后处理空腔，再通过管路组件的设置，可以实现氘气后处理空腔与供气组件的连通，配合压力容器罐组在烘箱内的对应设置，可以实现光纤在相应压力调节、温度条件下完成氘气后处理，进而提升氘气后处理的效率和质量，缩短光纤的制备时间，降低了光纤的制备成本，提升光纤的使用性能。
[0028]（2）本技术的适用于光纤的氘气后处理系统，其通过设置由不同数量压力容器依次连通所形成的氘气后处理空腔，能够满足不同批量光纤的处理需求，减少氘气的浪费，提升氘气的利用效率；同时，利用烘箱与压力容器罐组的一一对应设置，可以实现不同压力容器罐组的独立控制，满足不同的氘气后处理需求，提升系统使用的兼容性和通用性。
[0029]（3）本技术的适用于光纤的氘气后处理系统，其通过在供气组件中设置多个供气单元，并对应其设置供气切换组件，能够实现不同供气单元之间的快速切换，保证供气过程进行的连贯性和准确性，进一步提升氘气后处理的效率和质量。
[0030]（4）本技术的适用于光纤的氘气后处理系统，其通过远程控制设备的设置，可以实现系统中相应设备工作状态的远程监测和远程控制，满足作业人员的远程控制需求和监控需求，提升系统使用的便捷性，确保报警情况的及时发现，充分保证光纤氘气后处理过程进行的安全性和准确性。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于光纤的氘气后处理系统，其特征在于，包括压力容器罐组、烘箱和供气组件；所述压力容器罐组包括多个压力容器，并对应各压力容器分别设置有密封盖，使得待后处理的光纤可对应容置于压力容器的密封空腔中；至少部分压力容器通过管路依次连通，并在压力容器罐组上形成至少一个氘气后处理空腔；且所述压力容器罐组设置在所述烘箱中，以此控制所述光纤进行后处理时的温度条件；所述供气组件通过管路组件与各所述氘气后处理空腔连通，用于向所述氘气后处理空腔中通入氘气并控制各氘气后处理空腔中的氘气气压。2.根据权利要求1所述的适用于光纤的氘气后处理系统，其特征在于，所述压力容器罐组设置为多个，且所述压力容器罐组与所述烘箱一一对应设置。3.根据权利要求2所述的适用于光纤的氘气后处理系统，其特征在于，至少一个压力容器罐组内形成有至少两个彼此独立的氘气后处理空腔；和/或至少一个压力容器罐组内的各压力容器依次连通。4.根据权利要求1所述的适用于光纤的氘气后处理系统，其特征在于，所述供气组件包括至少两个彼此独立的供气单元；各所述供气单元分别通过供气管路与管路组件连通，可进行氘气的...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯汉强，孙程，雷高清，
申请(专利权)人：长飞光纤光缆股份有限公司，
类型：新型
国别省市：